本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種用于打印OLED顯示器件的凹槽結(jié)構(gòu)及OLED顯示器件的制作方法。

背景技術(shù)：

有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light Emitting Display，OLED)顯示器件具有自發(fā)光、驅(qū)動電壓低、發(fā)光效率高、響應(yīng)時間短、清晰度與對比度高、近180°視角、使用溫度范圍寬，可實現(xiàn)柔性顯示與大面積全色顯示等諸多優(yōu)點，被業(yè)界公認(rèn)為是最有發(fā)展?jié)摿Φ娘@示裝置。

OLED顯示器件的結(jié)構(gòu)一般包括：基板、設(shè)于基板上的陽極、設(shè)于陽極上的陰極以及夾在陽極與陰極之間的有機(jī)功能層。其中有機(jī)功能層，一般包括空穴注入層(Hole Injection Layer，HIL)、空穴傳輸層(Hole Transport Layer，HTL)、發(fā)光功能層(Emissive Layer，EML)、電子注入層(Electron Injection Layer，EIL)、及電子傳輸層(Electron Transport Layer，ETL)。OLED顯示器件的發(fā)光原理為半導(dǎo)體材料和有機(jī)發(fā)光材料在電場驅(qū)動下，通過載流子注入和復(fù)合導(dǎo)致發(fā)光。

OLED顯示器件的制作方法通常為，先在基板上形成陽極，在該陽極上依次形成有機(jī)功能層及陰極，其中陰極與陽極的材料通常采用氧化銦錫(ITO)。有機(jī)功能層的制備方式通常包括真空熱蒸鍍(Vacuum Thermal Evaporation)與溶液成膜(Solution Process)兩種。

所謂溶液成膜即是把所需材料經(jīng)過處理，比如分散成納米級的微小顆粒，然后溶解在相應(yīng)的溶液中形成墨水，再應(yīng)用成膜設(shè)備將該墨水沉積在基板表面，帶溶劑揮發(fā)后，即可在基板表面形成所需薄膜。成膜的具體方式又可以細(xì)分為噴墨打印(Ink-jet Printing)、連續(xù)打印(Nozzle Printing)、滾筒打印(Roller Printing)、旋轉(zhuǎn)涂布(Spin Coating)等。

在應(yīng)用于打印成膜工藝的基板上，通常會制作凹槽，用來限制住墨水，通過干燥烘烤后，墨水收縮在該凹槽限制的范圍內(nèi)形成薄膜。請參閱圖1，所述凹槽120由設(shè)于基板100、及ITO陽極130四周邊緣上的堤壩110圍成，通過在凹槽120內(nèi)沉積墨水，形成空穴注入層140、空穴傳輸層150、及發(fā)光功能層160。請參閱圖2，由于不同墨水的親水性不同，對于親水性較好的墨水，會在堤壩110的傾斜內(nèi)周面上爬坡較高，通常最下層的空穴注入層的導(dǎo)電性是各有機(jī)功能層中最好的，當(dāng)最下層的空穴注入層墨水爬坡較高時，會導(dǎo)致空穴注入層邊緣薄膜較薄的地方產(chǎn)生漏電，導(dǎo)致OLED顯示器件的品質(zhì)下降。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種用于打印OLED顯示器件的凹槽結(jié)構(gòu)，能夠防止OLED顯示器件的空穴注入層邊緣漏電，提升OLED顯示器件的品質(zhì)。

本發(fā)明的目的還在于提供一種OLED顯示器件的制作方法，能夠防止OLED顯示器件的空穴注入層邊緣漏電，提升OLED顯示器件的品質(zhì)。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種用于打印OLED顯示器件的凹槽結(jié)構(gòu)，該凹槽結(jié)構(gòu)位于基板上，包括堤壩、及由堤壩圍攏成的凹槽；

所述堤壩包括：第一分支堤壩層、及層疊于所述第一分支堤壩層上的第二分支堤壩層；

所述第一分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內(nèi)周面與OLED顯示器件的空穴注入層墨水形成的接觸角范圍為10°～45°，所述第二分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內(nèi)周面與OLED顯示器件的空穴注入層墨水形成的接觸角范圍為30°～60°，所述第二分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內(nèi)周面與OLED顯示器件的空穴傳輸層墨水及發(fā)光功能層墨水形成的接觸角范圍為10°～45°。

所述基板上設(shè)有陽極，所述圍攏成凹槽的堤壩設(shè)于所述陽極的四周邊緣及基板上。

所述第一分支堤壩層的上表面與陽極之間的高度差范圍為50nm～800nm，所述堤壩的厚度小于3微米。

所述陽極的材料為ITO。

所述堤壩圍攏成凹槽的傾斜內(nèi)周面與基板之間的夾角為30°～60°，所述凹槽的寬度自下往上逐漸增大。

本發(fā)明還提供一種OLED顯示器件的制作方法，包括如下步驟：

步驟1、提供一基板、第一分支堤壩層材料及第二分支堤壩層材料；

步驟2、在所述基板上制作陽極，使用所述第一分支堤壩層材料及第二分支堤壩層材料通過涂布、干燥、及蝕刻工藝在基板上依次制作層疊設(shè)置的第一分支堤壩層及第二分支堤壩層，形成設(shè)于所述陽極的四周邊緣及基板上的堤壩，所述堤壩圍攏成凹槽；

步驟3、提供空穴注入層墨水，將空穴注入層墨水滴入凹槽內(nèi)，所述空穴注入層墨水與所述第一分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內(nèi)周面形成的接觸角范圍為10°～45°，所述空穴注入層墨水與所述第二分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內(nèi)周面形成的接觸角范圍為30°～60°，干燥烘烤后形成空穴注入層；

步驟4、提供空穴傳輸層墨水，將空穴傳輸層墨水滴入凹槽內(nèi)，所述空穴傳輸層墨水與所述第二分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內(nèi)周面形成的接觸角范圍為10°～45°，干燥烘烤后形成層疊于所述空穴注入層上的空穴傳輸層；

步驟5、提供發(fā)光功能層墨水，將發(fā)光功能層墨水滴入凹槽內(nèi)，所述發(fā)光功能層墨水與所述第二分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內(nèi)周面形成的接觸角范圍為10°～45°，干燥烘烤后形成層疊于所述空穴傳輸層上的發(fā)光功能層；

步驟6、在所述發(fā)光功能層上依次制作電子傳輸層、電子注入層、及陰極。

所述陽極與陰極的材料均為ITO。

所述步驟2中，第一分支堤壩層的上表面與陽極之間的高度差范圍為50nm～800nm，所述堤壩的厚度小于3μm。

所述電子傳輸層及電子注入層的制作方法為真空蒸鍍。

所述步驟2中堤壩圍攏成凹槽的傾斜內(nèi)周面與基板之間的夾角為30°～60°，所述凹槽的寬度自下往上逐漸增大。

本發(fā)明的有益效果：本發(fā)明提供了一種用于打印OLED顯示器件的凹槽結(jié)構(gòu)，通過將圍攏成凹槽的堤壩劃分為層疊設(shè)置的第一分支堤壩層、及第二分支堤壩層，所述第一分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內(nèi)周面與空穴注入層墨水形成的接觸角范圍為10°～45°，所述第二分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內(nèi)周面與空穴注入層墨水形成的接觸角范圍為30°～60°，所述第二分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內(nèi)周面與空穴傳輸層墨水及發(fā)光功能層墨水形成的接觸角范圍為10°～45°，從而限制空穴注入層四周向上攀爬的高度，使形成的空穴注入層的上表面平整或中間略微凸起，能夠防止空穴注入層邊緣漏電，提升OLED顯示器件的品質(zhì)。本發(fā)明還提供一種OLED顯示器件的制作方法，能夠防止OLED顯示器件的空穴注入層邊緣漏電，提升OLED顯示器件的品質(zhì)。

附圖說明

為了能更進(jìn)一步了解本發(fā)明的特征以及技術(shù)內(nèi)容，請參閱以下有關(guān)本發(fā)明的詳細(xì)說明與附圖，然而附圖僅提供參考與說明用，并非用來對本發(fā)明加以限制。

附圖中，

圖1為現(xiàn)有的通過打印成膜方式制備有機(jī)功能層的OLED顯示器件的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為現(xiàn)有的打印成膜方式中當(dāng)空穴注入層墨水在圍成凹槽的堤壩的傾斜內(nèi)周面上爬升過高時，空穴注入層墨水與凹槽的關(guān)系示意圖；

圖3為本發(fā)明的用于打印OLED顯示器件的凹槽結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖暨本發(fā)明的OLED顯示器件制作方法的步驟2的示意圖；

圖4為本發(fā)明的OLED顯示器件制作方法的步驟3至步驟5的示意圖；

圖5為本發(fā)明的OLED顯示器件制作方法的流程圖。

具體實施方式

為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明所采取的技術(shù)手段及其效果，以下結(jié)合本發(fā)明的優(yōu)選實施例及其附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。

請參閱圖3，本發(fā)明提供一種用于打印OLED顯示器件的凹槽結(jié)構(gòu)，該凹槽結(jié)構(gòu)位于基板1上，包括堤壩2、及由堤壩2圍攏成的凹槽3；

所述堤壩2包括：第一分支堤壩層21、及層疊于所述第一分支堤壩層21上的第二分支堤壩層22；

所述第一分支堤壩層21圍攏成凹槽3的傾斜內(nèi)周面與OLED顯示器件的空穴注入層墨水形成的接觸角范圍為10°～45°，所述第二分支堤壩層22圍攏成凹槽3的傾斜內(nèi)周面與OLED顯示器件的空穴注入層墨水形成的接觸角范圍為30°～60°，所述第二分支堤壩層22圍攏成凹槽3的傾斜內(nèi)周面與OLED顯示器件的空穴傳輸層墨水及發(fā)光功能層墨水形成的接觸角范圍為10°～45°。

具體地，所述基板1上設(shè)有陽極11，所述圍攏成凹槽3的堤壩2設(shè)于所述陽極11的四周邊緣及基板1上，優(yōu)選地，所述陽極11的材料可以為氧化銦錫(Indium Tin Oxides，ITO)，所述基板1為透明基板，優(yōu)選玻璃基板。

具體地，所述第一分支堤壩層21的上表面與陽極11之間的高度差范圍為50nm～800nm，所述堤壩2的厚度小于3微米。

優(yōu)選地，所述堤壩2圍攏成凹槽3的傾斜內(nèi)周面與基板1之間的夾角為30°～60°，所述凹槽3的寬度自下往上逐漸增大。

值得一提到是，所述凹槽結(jié)構(gòu)的作用為限制墨水的流動，使墨水容置在槽內(nèi)，通過干燥烘烤后，墨水收縮在該凹槽限制的范圍內(nèi)形成薄膜，從而完成打印成膜工藝，在打印OLED顯示器件過程中，需要制作自下而上層疊設(shè)置的空穴注入層、空穴傳輸層、及發(fā)光功能層，其中空穴注入層的導(dǎo)電性最強(qiáng)，對平整性的要求較高，本發(fā)明通過將圍攏成凹槽3的堤壩劃2分為層疊設(shè)置的第一分支堤壩層21、及第二分支堤壩層22，其中第一分支堤壩層21與空穴注入層墨水呈疏水性，具體為所述第一分支堤壩層21圍攏成凹槽3的傾斜內(nèi)周面與空穴注入層墨水形成的接觸角范圍為10°～45°，所述第二分支堤壩層22與空穴注入層墨水呈弱疏水性，具體為所述第二分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內(nèi)周面與空穴注入層墨水形成的接觸角范圍為30°～60°，從而使得打印成膜制得的空穴注入層的薄膜上表面較平整，或者上表面是中間高、四周低的形態(tài)，且第二分支堤壩層22對于空穴傳輸層墨水及發(fā)光功能層墨水為適當(dāng)親水性，具體為所述第二分支堤壩層22圍攏成凹槽3的傾斜內(nèi)周面與OLED顯示器件的空穴傳輸層墨水及發(fā)光功能層墨水形成的接觸角范圍為10°～45°，使得打印成膜制得的空穴傳輸層和發(fā)光功能層呈中間薄、四周厚的形態(tài)，進(jìn)而避免因空穴注入層墨水在與凹槽2的傾斜內(nèi)周面接觸的位置爬升過高，導(dǎo)致空穴注入層邊緣漏電，提升OLED顯示器件的品質(zhì)。

需要說明的是，通過選擇不同的材料制作所述第一分支堤壩層21及第二分支堤壩層22，進(jìn)而使得第一分支堤壩層21及第二分支堤壩層22與相應(yīng)墨水形成的接觸角達(dá)到本發(fā)明的要求。

請參閱圖5，基于上述凹槽結(jié)構(gòu)，本發(fā)明提供一種OLED顯示器件的制作方法，包括如下步驟：

步驟1、提供一基板1、第一分支堤壩層材料及第二分支堤壩層材料。

具體地，所述基板1為透明基板，優(yōu)選玻璃基板，所述第一分支堤壩層材料及第二分支堤壩層材料具有不同的親/疏水性質(zhì)。

步驟2、請參閱圖3，在所述基板1上制作陽極11，使用所述第一分支堤壩層材料及第二分支堤壩層材料通過涂布、干燥、及蝕刻工藝在基板1上依次制作層疊設(shè)置的第一分支堤壩層21及第二分支堤壩層22，形成設(shè)于所述陽極11的四周邊緣及基板1上的堤壩2，所述堤壩2圍攏成凹槽3。

優(yōu)選地，所述陽極11的材料為ITO，所述堤壩2圍攏成凹槽3的傾斜內(nèi)周面與基板1之間的夾角為30°～60°，所述凹槽3的寬度自下往上逐漸增大。

步驟3、請參閱圖4，提供空穴注入層墨水，將空穴注入層墨水滴入凹槽3內(nèi)，所述空穴注入層墨水與所述第一分支堤壩層21圍攏成凹槽3的傾斜內(nèi)周面形成的接觸角范圍為10°～45°，所述空穴注入層墨水與所述第二分支堤壩層22圍攏成凹槽3的傾斜內(nèi)周面形成的接觸角范圍為30°～60°，干燥烘烤后形成空穴注入層4。

具體地，通過控制空穴注入層墨水與堤壩2形成的接觸角，可以使得打印成膜制得的空穴注入層4的上表面較平整，或者上表面是中間高、四周低的形態(tài)，優(yōu)選地，所述空穴注入層墨水與所述第一分支堤壩層21圍攏成凹槽3的傾斜內(nèi)周面形成的接觸角為30°～60°，可以使得后續(xù)形成的空穴注入層4的上表面為一平整表面。

步驟4、請參閱圖4，提供空穴傳輸層墨水，將空穴傳輸層墨水滴入凹槽3內(nèi)，所述空穴傳輸層墨水與所述第二分支堤壩層22圍攏成凹槽3的傾斜內(nèi)周面形成的接觸角范圍為10°～45°，干燥烘烤后形成層疊于所述空穴注入層4上的空穴傳輸層5。

具體地，通過控制空穴傳輸層墨水與堤壩2形成的接觸角，可以使得打印成膜制得的空穴傳輸層5呈中間薄、四周厚的形態(tài)。

步驟5、請參閱圖4，提供發(fā)光功能層墨水，將發(fā)光功能層墨水滴入凹槽3內(nèi)，所述發(fā)光功能層墨水與所述第二分支堤壩層22圍攏成凹槽3的傾斜內(nèi)周面形成的接觸角范圍為10°～45°，干燥烘烤后形成層疊于所述空穴傳輸層5上的發(fā)光功能層6。

具體地，通過控制發(fā)光功能層墨水與堤壩2形成的接觸角，可以使得打印成膜制得的發(fā)光功能層6呈中間薄、四周厚的形態(tài)，配合上述空穴傳輸層5的形態(tài)、及空穴注入層4的形態(tài)，可以避免空穴傳輸層4的邊緣漏電。

步驟6、在所述發(fā)光功能層6上依次制作電子傳輸層(未圖示)、電子注入層(未圖示)、及陰極(未圖示)。

具體地，所述電子傳輸層及電子注入層的制作方法可以選擇真空蒸鍍，優(yōu)選地，所述陰極的材料也為ITO。

綜上所述，本發(fā)明提供了一種用于打印OLED顯示器件的凹槽結(jié)構(gòu)，通過將圍攏成凹槽的堤壩劃分為層疊設(shè)置的第一分支堤壩層、及第二分支堤壩層，所述第一分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內(nèi)周面與空穴注入層墨水形成的接觸角范圍為10°～45°，所述第二分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內(nèi)周面與空穴注入層墨水形成的接觸角范圍為30°～60°，所述第二分支堤壩層圍攏成凹槽的傾斜內(nèi)周面與空穴傳輸層墨水及發(fā)光功能層墨水形成的接觸角范圍為10°～45°，從而限制空穴注入層四周向上攀爬的高度，使形成的空穴注入層的上表面平整或中間略微凸起，能夠防止空穴注入層邊緣漏電，提升OLED顯示器件的品質(zhì)。本發(fā)明還提供一種OLED顯示器件的制作方法能夠防止OLED顯示器件的空穴注入層邊緣漏電，提升OLED顯示器件的品質(zhì)。

以上所述，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形，而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。