1.一種用于支撐基板的旋轉頭，包括：
支撐板，在所述支撐板上放置基板；和
卡盤銷，所述卡盤銷設置在所述支撐板中，用于支撐所述基板的側部；
其中所述卡盤銷包括外本體和插入到所述外本體中的內本體，
所述內本體具有與所述外本體不同的材料，
所述外本體和所述內本體分別具有第一材料或第二材料中的任一種，并且
所述第一材料和所述第二材料中的一種比所述第一材料和所述第二材料中的另一種具有較低的導熱性和較好的耐熱性。
2.根據權利要求1所述的用于支撐基板的旋轉頭，其中所述第一材料包括陶瓷材料，并且所述第二材料具有樹脂材料。
3.根據權利要求2所述的用于支撐基板的旋轉頭，其中所述陶瓷材料包括碳化硅，并且所述樹脂材料具有全氟烷氧基(PFA)。
4.根據權利要求1所述的用于支撐基板的旋轉頭，其中在所述外本體的側部中形成凹槽，并且所述基板的端部與所述凹槽接觸，并且所述內本體具有桿狀。
5.根據權利要求4所述的用于支撐基板的旋轉頭，其中所述外本體被設置成包圍所述內本體的側部和頂部。
6.根據權利要求3所述的用于支撐基板的旋轉頭，其中所述外本體被設置成包圍所述內本體的側部，并且所述內本體的頂部處于高于所述外本體的頂部的水平。
7.根據權利要求5所述的用于支撐基板的旋轉頭，其中所述內本體的底部位于所述外本體的內側。
8.根據權利要求5所述的用于支撐基板的旋轉頭，其中所述內本體的所述底部被設置成突出到所述外本體的外部。
9.根據權利要求5所述的用于支撐基板的旋轉頭，其中所述旋轉頭還包括與所述卡盤銷聯接并位于所述支撐板的內側的卡盤桿、以及用于驅動所述卡盤桿的卡盤銷驅動器，其中所述卡盤桿以金屬材料提供。
10.根據權利要求1至9中任一項所述的用于支撐基板的旋轉頭，其中所述外本體具有所述第一材料，并且所述內本體具有所述第二材料。
11.根據權利要求1至9中任一項所述的用于支撐基板的旋轉頭，其中所述外本體具有所述第二材料，且所述內本體具有所述第一材料。
12.一種用于支撐基板的旋轉頭，包括：
支撐板，在所述支撐板上放置基板；和
支撐銷，所述支撐銷設置在所述支撐板中，用于支撐所述基板的底部；
其中所述支撐銷包括第一本體和具有與所述第一本體不同的材料的第二本體，所述第一本體和所述第二本體分別具有第一材料或第二材料中的任一種，并且所述第一材料和所述第二材料中的一種具有比所述第一材料和所述第二材料中的另一種更低的導熱性和更好的耐熱性。
13.根據權利要求12所述的用于支撐基板的旋轉頭，其中所述第一材料包括陶瓷材料，并且所述第二材料具有樹脂材料。
14.根據權利要求13所述的用于支撐基板的旋轉頭，其中所述陶瓷材料包括碳化硅，并且所述樹脂材料具有全氟烷氧基(PFA)。
15.根據權利要求12所述的支撐基板的旋轉頭，其中所述第一本體的頂部與所述基板的底部接觸，且所述第二本體與所述第一本體的底部聯接。
16.根據權利要求13所述的用于支撐基板的旋轉頭，其中所述第一本體被設置成包圍所述第二本體的側部和頂部，并且所述第二本體具有桿狀。
17.根據權利要求12至16中任一項所述的用于支撐基板的旋轉頭，其中所述第一本體具有所述第一材料，并且所述第二本體具有所述第二材料。
18.根據權利要求12至16中任一項所述的用于支撐基板的旋轉頭，其中所述第一本體具有所述第二材料，并且所述第二本體具有所述第一材料。
19.一種基板處理裝置，包括：
第一腔室，用于通過供應第一處理液來處理所述基板；和
第二腔室，用于通過供應第二處理液來處理所述基板；
其中所述第一腔室包括第一旋轉頭，所述第一旋轉頭包括用于在所述基板的側部支撐所述基板的第一卡盤銷和用于向放置在所述第一旋轉頭上的所述基板供應所述第一處理液的第一噴射單元，
其中所述第二腔室包括第二旋轉頭，所述第二旋轉頭包括用于從所述基板的側部支撐所述基板的第二卡盤銷和用于向放置在所述第二旋轉頭上的基板供應所述第二處理液的第二噴射單元，
其中所述第一卡盤銷包括具有彼此不同材料的第一外本體和第一內本體，
其中所述第二卡盤銷包括具有彼此不同材料的第二外本體和第二內本體，并且
其中所述第一外本體和所述第一內本體之間的相互關系被設置成不同于所述第二外本體和所述第二內本體之間的相互關系。
20.根據權利要求19所述的基板處理裝置，其中所述相互關系包括所述外本體和所述內本體之間的橫截面積之比。
21.根據權利要求19所述的基板處理裝置，其中所述相互關系包括所述外本體和所述內本體之間的長度之比。
22.根據權利要求19所述的基板處理裝置，其中所述相互關系包括所述內本體是否突出到所述外本體的外部。
23.根據權利要求19所述的基板處理裝置，其中所述相互關系包括所述外本體和所述內本體具有什么材料。
24.根據權利要求19所述的基板處理裝置，其中所述相互關系包括所述外本體和所述內本體具有什么材料，其中所述第一外本體和所述第二內本體兩者具有所述第一材料和所述第二材料中的一種，并且所述第二外本體和所述第一內本體兩者具有所述第一材料和所述第二材料中的另一種，并且其中所述第一材料和所述第二材料中的一種具有比所述第一材料和所述第二材料中的另一種更低的導熱性和更好的耐熱性。
25.根據權利要求24所述的基板處理裝置，其中所述第一材料包括陶瓷材料，并且所述第二材料具有樹脂材料。
26.根據權利要求25所述的基板處理裝置，其中所述陶瓷材料包括碳化硅，并且所述樹脂材料具有全氟烷氧基(PFA)。
27.根據權利要求24所述的基板處理裝置，其中所述第一外本體在其側部具有第一凹槽，并且所述基板的端部與所述第一凹槽接觸，其中所述第一內本體具有桿狀，所述第二外本體在其側部具有第二凹槽，并且所述基板的端部與所述第二凹槽接觸，其中所述第二內本體具有桿狀。
28.根據權利要求24所述的基板處理裝置，其中所述第一外本體被設置成包圍所述第一內本體的側部和頂部，并且所述第二外本體被設置成包圍所述第二內本體的側部和頂部。
29.根據權利要求24所述的基板處理裝置，其中所述第一外本體被設置成包圍所述第一內本體的側部，其中所述第一內本體的頂部處于高于所述第一外本體的頂部的水平，其中所述第二外本體被設置成包圍所述第二內本體的側部，并且其中所述第二內本體的頂部處于高于所述第二外本體的頂部的水平。
30.根據權利要求23至29中任一項所述的基板處理裝置，其中所述第一外本體和所述第二內本體具有所述第一材料，并且其中所述第二外本體和所述第一內本體具有所述第二材料。
31.根據權利要求23至29中任一項所述的基板處理裝置，其中所述第一外本體和所述第二內本體具有所述第二材料，并且其中所述第二外本體和所述第一內本體具有所述第一材料。
32.根據權利要求19所述的基板處理裝置，其中所述第一旋轉頭還包括用于在所述基板的所述底部支撐所述基板的第一支撐銷，其中所述第二旋轉頭還包括用于在所述基板的所述底部支撐所述基板的第二支撐銷，其中所述第二支撐銷包括彼此具有不同材料的第一本體和第二本體，其中所述第一本體和所述第二本體中的每一個具有第一材料或第二材料中的任一種，并且其中所述第一材料和所述第二材料中的一種具有比所述第一材料和所述第二材料中的另一種更低的導熱性和更好的耐熱性。
33.根據權利要求32所述的基板處理裝置，其中所述第一材料包括陶瓷材料，并且所述第二材料具有樹脂材料。
34.根據權利要求33所述的基板處理裝置，其中所述陶瓷材料包括碳化硅，并且所述樹脂材料具有全氟烷氧基(PFA)。
35.根據權利要求32所述的基板處理裝置，其中所述第一本體的頂部與所述基板的底部接觸，并且所述第二本體與所述第一本體的底部聯接。
36.根據權利要求32所述的基板處理裝置，其中所述第一本體被設置成包圍所述第二本體的側部和頂部，并且其中所述第二本體具有桿狀。
37.根據權利要求32至36中任一項所述的基板處理裝置，其中所述第一本體具有所述第一材料，并且所述第二本體具有所述第二材料。
38.根據權利要求32至36中任一項所述的基板處理裝置，其中所述第一本體具有所述第二材料，并且所述第二本體具有所述第一材料。
39.根據權利要求19至29及32至36中任一項所述的基板處理裝置，包括：第一基板處理裝置和第二基板處理裝置，
其中所述第一基板處理裝置包括第一轉位模塊和第一工藝處理模塊，所述第一轉位模塊包括其上放置容納所述基板的容器的第一裝載端口和用于將所述基板傳送到所述第一裝載端口的第一轉位機械手，并且所述第一工藝處理模塊包括用于處理所述基板的多個第一處理室和用于將所述基板傳送到所述第一處理室的第一傳送單元，
其中所述第二基板處理裝置包括第二轉位模塊和第二工藝處理模塊，所述第二轉位模塊包括其上放置容納所述基板的容器的第二裝載端口和用于將所述基板傳送到所述第二裝載端口的第二轉位機械手，并且所述第二工藝處理模塊包括多個用于處理所述基板的第二處理室和用于將所述基板傳送到所述第二處理室的第二傳送單元，
其中所述第一處理室包括所述第一腔室，并且
其中所述第二處理室包括所述第二腔室。
40.根據權利要求19至29及32至36中任一項所述的基板處理裝置，包括：第一基板處理裝置和第二基板處理裝置，
其中所述第一基板處理裝置包括第一轉位模塊和第一工藝處理模塊，所述第一轉位模塊包括其上放置容納所述基板的容器的第一裝載端口和用于將所述基板傳送到所述第一裝載端口的第一轉位機械手，并且所述第一工藝處理模塊包括多個用于處理所述基板的第一處理室和用于將所述基板傳送到所述第一處理室的第一傳送單元，
其中所述第二基板處理裝置包括第二轉位模塊和第二工藝處理模塊，所述第二轉位模塊包括其上放置容納所述基板的容器的第二裝載端口和用于將所述基板傳送到所述第二裝載端口的第二轉位機械手，并且所述第二工藝處理模塊包括多個用于處理所述基板的第二處理室和用于將所述基板傳送到所述第二處理室的第二傳送單元，
其中所述第一處理室包括所述第一腔室和所述第二腔室。
41.根據權利要求39所述的基板處理裝置，其中，所述第一處理液的溫度高于所述第二處理液的溫度。
42.根據權利要求39所述的基板處理裝置，其中所述第一基板處理裝置包括加熱所述基板并位于所述第一旋轉頭中的加熱單元。
43.根據權利要求39所述的基板處理裝置，還包括用于控制所述第一傳送單元和所述第二傳送單元的控制器，其中所述控制器控制所述第一傳送單元，使得用所述第一處理液處理所述基板時，所述基板由所述第一卡盤銷支撐；并且所述控制器控制所述第二傳送單元，使得用所述第二處理液處理所述基板時，所述基板由所述第二卡盤銷支撐。
44.一種使用根據權利要求20至29中任一項所述的基板處理裝置處理基板的方法，所述方法包括：通過供應所述第一處理液來處理由所述第一卡盤銷支撐的所述基板，和通過供應所述第二處理液來處理由所述第二卡盤銷支撐的所述基板。
45.根據權利要求44所述的方法，其中所述第一處理液具有比所述第二處理液更高的溫度。
46.根據權利要求45所述的方法，其中所述第一處理液包含酸，并且其中所述第二處理液包含硫酸。
47.根據權利要求44所述的方法，其中所述第二旋轉頭還包括用于在所述基板的底部支撐所述基板的第二支撐銷，其中所述第二支撐銷包括第一材料的第一主體和第二材料的第二主體，并且其中所述第一材料和所述第二材料中的一種具有比所述第一材料和所述第二材料中的另一種更低的導熱性和更好的耐熱性。