本發(fā)明涉及對(duì)板狀的被加工物進(jìn)行加工的加工裝置。

背景技術(shù)：

在對(duì)以半導(dǎo)體晶片為代表的板狀的被加工物進(jìn)行加工時(shí)，例如，使用切削裝置、磨削裝置、研磨裝置等加工裝置(例如，參照專利文獻(xiàn)1、2)。在這些加工裝置中，以被加工物的冷卻、加工的促進(jìn)、加工屑的排出等為目的，一邊向被加工物提供液體一邊完成加工。

在使用上述的加工裝置對(duì)被加工物進(jìn)行加工時(shí)，多以某種程度的較大的流量(例如，1l/min以上)來提供液體。另一方面，認(rèn)為一邊以較小的流量(例如，0.1l/min以下)提供液體一邊對(duì)被加工物進(jìn)行加工的機(jī)會(huì)今后也會(huì)增加。

專利文獻(xiàn)1：日本特開2012－106293號(hào)公報(bào)

專利文獻(xiàn)2：日本特開2015－123568號(hào)公報(bào)

但是，憑借目前為止的加工裝置中一直使用的浮子式流量計(jì)，不能對(duì)較小的流量進(jìn)行測量，不能對(duì)所提供的液體的流量是否合適進(jìn)行判定。雖然也考慮了使用如科里奧利式流量計(jì)那樣能夠?qū)^小的流量進(jìn)行測量的流量計(jì)的方法，但在該情況下，存在加工裝置的成本變高的問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明是鑒于該問題點(diǎn)而完成的，其目的在于提供加工裝置，能夠以較低的成本對(duì)以較小的流量提供液體的情況進(jìn)行確認(rèn)。

根據(jù)本發(fā)明的一方式，提供一種加工裝置，其具有一邊向由卡盤工作臺(tái)保持的被加工物提供液體一邊進(jìn)行加工的加工構(gòu)件，該加工裝置的特征在于，具有：提供噴嘴，其向被加工物提供液體；提供流路，其包含與液體的提供源連接的第1流路以及與該提供噴嘴連接的第2流路；流量調(diào)整閥，其對(duì)從該提供源提供的液體的流量進(jìn)行調(diào)整；檢測構(gòu)件，其設(shè)置于該第1流路與該第2流路之間，對(duì)液體的流動(dòng)進(jìn)行檢測；以及判定構(gòu)件，其根據(jù)該檢測構(gòu)件的檢測結(jié)果對(duì)該提供流路中是否流過規(guī)定的流量的液體進(jìn)行判定，該檢測構(gòu)件具有：檢測管部，其在上部與該第1流路的下游端連接，并且在下部與該第2流路的上游端連接，該檢測管部的內(nèi)徑比該第1流路的下游端和該第2流路的上游端大；以及檢測部，其由發(fā)光部和受光部構(gòu)成，對(duì)從該第1流路流出而在該檢測管部內(nèi)連續(xù)或斷續(xù)地落下的液體進(jìn)行檢測，該判定構(gòu)件在每單位時(shí)間的該受光部的受光量在規(guī)定的范圍內(nèi)的情況下，判定為流過該規(guī)定的流量的液體。

在本發(fā)明的一方式中，優(yōu)選在該受光部的受光量比該規(guī)定的范圍多的情況下，判定為在該提供流路中流過流量比該規(guī)定的流量小的液體或者在該提供流路中無液體流動(dòng)。

并且，在本發(fā)明的一方式中，優(yōu)選在該受光部的受光量比該規(guī)定的范圍少的情況下，判定為在該提供流路中流過流量比該規(guī)定的流量大的液體或者在該提供流路中無液體流動(dòng)。

在本發(fā)明的一方式的加工裝置中，由于使用簡單的檢測構(gòu)件，在每單位時(shí)間的受光部的受光量在規(guī)定的范圍內(nèi)的情況下，判定為流過規(guī)定的流量的液體，所以能夠以較低的成本對(duì)以較小的流量提供液體進(jìn)行確認(rèn)，其中，該檢測構(gòu)件包含如下的部件：檢測管部，其內(nèi)徑比第1流路的下游端和第2流路的上游端大；以及檢測部，其由發(fā)光部和受光部構(gòu)成，并對(duì)從第1流路流出而在檢測管部內(nèi)連續(xù)或斷續(xù)地落下的液體進(jìn)行檢測。并且，由于在該檢測構(gòu)件不存在可動(dòng)部分，所以本發(fā)明的一方式的加工裝置與具有存在可動(dòng)部分的流量計(jì)的加工裝置相比不易出現(xiàn)故障。

附圖說明

圖1是示意性地示出研磨裝置的結(jié)構(gòu)例的立體圖。

圖2是示意性地示出研磨單元的構(gòu)造等的局部剖視側(cè)視圖。

圖3的(a)是示意性地示出檢測單元的構(gòu)造等的縱剖視圖，圖3的(b)是示意性地示出檢測單元的構(gòu)造等的橫剖視圖。

圖4的(a)是示意性地示出液體斷續(xù)地落下的狀態(tài)的縱剖視圖，圖4的(b)是示出受光單元的受光量與時(shí)間的關(guān)系的圖表。

圖5的(a)是示意性地示出液體連續(xù)地落下的狀態(tài)的縱剖視圖，圖5的(b)是示出受光單元的受光量與時(shí)間的關(guān)系的圖表。

圖6的(a)是示意性地示出沒有從第1流路向檢測管提供液體的狀態(tài)的縱剖視圖，圖6的(b)是示出受光單元的受光量與時(shí)間的關(guān)系的圖表。

圖7的(a)是示意性地示出沒有從檢測管向第2流路排出液體的狀態(tài)的縱剖視圖，圖7的(b)是示出受光單元的受光量與時(shí)間的關(guān)系的圖表。

圖8是示意性地示出變形例的檢測單元的構(gòu)造等的縱剖視圖。

標(biāo)號(hào)說明

2：研磨裝置(加工裝置)；4：基臺(tái)；4a、4b：開口；6：支承構(gòu)造；8：搬送單元；10a、10b：盒；12：對(duì)準(zhǔn)機(jī)構(gòu)；14：搬入單元；16：x軸移動(dòng)工作臺(tái)；18：x軸移動(dòng)單元；20：防塵防滴罩；22：卡盤工作臺(tái)；22a：保持面；24：z軸移動(dòng)單元；26：z軸導(dǎo)軌；28：z軸移動(dòng)板；30：z軸滾珠絲杠；32：z軸脈沖電動(dòng)機(jī)；34：固定件；36：研磨單元(加工構(gòu)件)；38：主軸外殼；40：主軸；40a：貫通孔(提供噴嘴)；42：安裝座；42a：貫通孔(提供噴嘴)；44：研磨輪；46：基臺(tái)；46a：貫通孔(提供噴嘴)；48：研磨墊；48a：貫通孔(提供噴嘴)；48b：下表面(研磨面)；50：提供流路；50a：第1流路；50b：第2流路；52：檢測單元(檢測構(gòu)件)；54：流量調(diào)整閥；56：提供源；58：控制單元(判定構(gòu)件)；60：搬出單元；62：清洗單元；64：操作面板；72：檢測管(檢測管部)；72a：底壁部；72b：底壁部；72c：側(cè)壁部；72d：檢測空間；74：檢測器(檢測部)；74a：發(fā)光單元(發(fā)光部)；74b：受光單元(受光部)；11：被加工物；21：保護(hù)部件；31：液體；33：光。

具體實(shí)施方式

參照附圖對(duì)本發(fā)明的一方式的實(shí)施方式進(jìn)行說明。圖1是示意性地示出本實(shí)施方式的研磨裝置的結(jié)構(gòu)例的立體圖。另外，在本實(shí)施方式中，作為加工裝置的例子，示出了對(duì)板狀的被加工物進(jìn)行研磨加工的研磨裝置，但本發(fā)明的加工裝置也可以是對(duì)被加工物進(jìn)行切削加工的切削裝置、對(duì)被加工物進(jìn)行磨削加工的磨削裝置等。

如圖1所示，研磨裝置(加工裝置)2具有搭載有各構(gòu)成要素的長方體狀的基臺(tái)4。在基臺(tái)4的后端設(shè)置有壁狀的支承構(gòu)造6。在基臺(tái)4的上表面前部形成有開口4a，在該開口4a內(nèi)設(shè)置有對(duì)板狀的被加工物11進(jìn)行搬送的搬送單元8。

被加工物11例如是圓盤狀的半導(dǎo)體晶片、樹脂基板、陶瓷基板等，在其一側(cè)的面上粘貼有由樹脂等構(gòu)成的保護(hù)部件21(參照?qǐng)D2)。在本實(shí)施方式的研磨裝置2中，對(duì)沒有粘貼保護(hù)部件21的另一側(cè)的面進(jìn)行研磨加工。另外，被加工物11的材質(zhì)、形狀等并沒有限制。并且，也能夠省略保護(hù)部件21。

在開口4a的側(cè)方的區(qū)域內(nèi)載置有對(duì)多個(gè)被加工物11進(jìn)行收納的盒10a、10b。在載置有一側(cè)的盒10a的區(qū)域的后方設(shè)置有對(duì)準(zhǔn)機(jī)構(gòu)12。對(duì)準(zhǔn)機(jī)構(gòu)12例如對(duì)由搬送單元8從盒10a、10b搬送的被加工物11的中心的位置進(jìn)行調(diào)整。

在對(duì)準(zhǔn)機(jī)構(gòu)12的后方設(shè)置有對(duì)被加工物11進(jìn)行保持而回轉(zhuǎn)的搬入單元14。在搬入單元14的更后方形成有開口4b。在該開口4b內(nèi)配置有x軸移動(dòng)工作臺(tái)16、使x軸移動(dòng)工作臺(tái)16在x軸方向(前后方向)上移動(dòng)的x軸移動(dòng)單元18以及對(duì)x軸移動(dòng)單元18進(jìn)行覆蓋的防塵防滴罩20。

x軸移動(dòng)單元18具有與x軸方向平行的一對(duì)x軸導(dǎo)軌(未圖示)，在x軸導(dǎo)軌上以能夠滑動(dòng)的方式安裝有x軸移動(dòng)工作臺(tái)16。在x軸移動(dòng)工作臺(tái)16的下表面?zhèn)仍O(shè)置有螺母部(未圖示)，與x軸導(dǎo)軌平行的x軸滾珠絲杠(未圖示)與該螺母部螺合。

x軸滾珠絲杠的一端部與x軸脈沖電動(dòng)機(jī)(未圖示)連結(jié)。利用x軸脈沖電動(dòng)機(jī)使x軸滾珠絲杠旋轉(zhuǎn)，由此，x軸移動(dòng)工作臺(tái)16沿著x軸導(dǎo)軌在x軸方向上移動(dòng)。在x軸移動(dòng)工作臺(tái)16的上表面設(shè)置有對(duì)被加工物11進(jìn)行吸引、保持的卡盤工作臺(tái)22。

卡盤工作臺(tái)22與電動(dòng)機(jī)等旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)源(未圖示)連結(jié)，并繞與z軸方向(鉛直方向)大致平行的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)。并且，卡盤工作臺(tái)22通過上述的x軸移動(dòng)單元18在對(duì)被加工物11進(jìn)行搬入、搬出的前方的搬入搬出區(qū)域與對(duì)被加工物11進(jìn)行研磨加工的后方的研磨區(qū)域之間移動(dòng)。

卡盤工作臺(tái)22的上表面成為對(duì)被加工物11進(jìn)行吸引、保持的保持面22a。該保持面22a通過形成在卡盤工作臺(tái)22的內(nèi)部的流路(未圖示)等而與吸引源(未圖示)連接。被搬入單元14搬入到卡盤工作臺(tái)22上的被加工物11通過作用于保持面22a的吸引源的負(fù)壓而被吸引、保持。

在支承構(gòu)造6的前表面上設(shè)置有z軸移動(dòng)單元24。z軸移動(dòng)單元24具有與z軸方向平行的一對(duì)z軸導(dǎo)軌26，在該z軸導(dǎo)軌26上以能夠滑動(dòng)的方式安裝有z軸移動(dòng)板28。在z軸移動(dòng)板28的后表面?zhèn)?背面?zhèn)?設(shè)置有螺母部(未圖示)，與z軸導(dǎo)軌26平行的z軸滾珠絲杠30與該螺母部螺合。

z軸滾珠絲杠30的一端部與z軸脈沖電動(dòng)機(jī)32連結(jié)。利用z軸脈沖電動(dòng)機(jī)32使z軸滾珠絲杠30旋轉(zhuǎn)，由此，z軸移動(dòng)板28沿著z軸導(dǎo)軌26在z軸方向上移動(dòng)。在z軸移動(dòng)板28的前表面上設(shè)置有固定件34。對(duì)被加工物11進(jìn)行研磨加工的研磨單元(加工構(gòu)件)36被支承在該固定件34上。

研磨單元36具有固定在固定件34上的筒狀的主軸外殼38。在主軸外殼38的內(nèi)部收納有作為旋轉(zhuǎn)軸的主軸40，主軸40的下端部從主軸外殼38露出。在露出的主軸40的下端部固定有圓盤狀的安裝座42，在安裝座42的下表面安裝有與安裝座42大致同徑的研磨輪44。

圖2是示意性地示出研磨單元36的構(gòu)造等的局部剖視側(cè)視圖。如圖2所示，研磨輪44具有圓盤狀的基臺(tái)46。在基臺(tái)46的下表面粘接有由無紡布等構(gòu)成的研磨墊48。在基臺(tái)46和研磨墊48的中央部設(shè)置有用于提供漿料等研磨用的液體的貫通孔(提供噴嘴)46a、48a。

該貫通孔46a、48a與設(shè)置于主軸40和安裝座42的內(nèi)部的貫通孔(提供噴嘴)40a、42a連接。如圖1和圖2所示，在貫通孔40a的上端，經(jīng)由由配管等構(gòu)成的提供流路50、對(duì)液體的流動(dòng)進(jìn)行檢測的檢測單元(檢測構(gòu)件)52以及對(duì)液體的流量進(jìn)行調(diào)整的流量調(diào)整閥54等而連接有液體的提供源56。作為流量調(diào)整閥54，例如，能夠使用軟管泵。并且，通過控制單元(判定構(gòu)件)58來控制檢測單元52。

提供流路50被分成比檢測單元52靠上游側(cè)的第1流路50a和比檢測單元52靠下游側(cè)的第2流路50b。第1流路50a的上游端與液體的提供源56連接，第2流路50b的下游端與主軸40的貫通孔40a連接。流量調(diào)整閥54被設(shè)置在第1流路50a的中游部。

因此，從提供源56提供的研磨用的液體在通過流量調(diào)整閥54對(duì)流量進(jìn)行調(diào)整之后，經(jīng)過檢測單元52被輸送到貫通孔40a。被輸送到貫通孔40a的液體通過貫通孔48a等而向被加工物11提供。由此，能夠一邊提供研磨用的液體一邊對(duì)被加工物11進(jìn)行研磨加工。

主軸40的上端側(cè)與電動(dòng)機(jī)等旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)源(未圖示)連結(jié)，研磨輪44通過從該旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)源傳遞的旋轉(zhuǎn)力而旋轉(zhuǎn)。并且，研磨輪44通過上述的z軸移動(dòng)單元24而下降。由此，將研磨墊48推抵于保持在卡盤工作臺(tái)22上的被加工物11，從而能夠?qū)Ρ患庸の?1進(jìn)行研磨加工。

在利用該研磨裝置2對(duì)被加工物11進(jìn)行研磨加工時(shí)，首先，將被加工物11載置在卡盤工作臺(tái)22上以使保護(hù)部件21與保持面22a接觸，并使吸引源的負(fù)壓作用。由此，被加工物11在沒有粘貼保護(hù)部件21的另一側(cè)的面(被研磨面)朝向上方露出的狀態(tài)下被吸引、保持在卡盤工作臺(tái)22上。

接著，使卡盤工作臺(tái)22移動(dòng)至研磨區(qū)域。然后，使卡盤工作臺(tái)22與研磨輪44相互旋轉(zhuǎn)，一邊提供上述的研磨用的液體一邊將研磨墊48的下表面(研磨面)48b推抵于被加工物11的另一側(cè)的面。由此，能夠?qū)Ρ患庸の?1的另一側(cè)的面進(jìn)行研磨加工。

如圖1所示，在與搬入單元14相鄰的位置處設(shè)置有對(duì)被加工物11進(jìn)行保持并回轉(zhuǎn)的搬出單元60。在搬出單元60的前方和載置有另一側(cè)的盒10b的區(qū)域的后方配置有對(duì)研磨加工后的被加工物11進(jìn)行清洗的清洗單元62。

被清洗單元62清洗的被加工物11例如通過搬送單元8搬送并收納到盒10a、10b中。在開口4a的前方設(shè)置有用于輸入研磨加工的條件等的操作面板64。

接著，對(duì)上述的檢測單元52進(jìn)行詳述。圖3的(a)是示意性地示出檢測單元52的構(gòu)造等的縱剖視圖，圖3的(b)是示意性地示出檢測單元52的構(gòu)造等的橫剖視圖。如圖3的(a)和圖3的(b)所示，檢測單元52具有筒狀的檢測管(檢測管部)72和光學(xué)式的檢測器(檢測部)74。

檢測管72例如由能夠透過檢測器74中所使用的波長的光的材質(zhì)形成，并具有筒狀的側(cè)壁部72c和將側(cè)壁部72c的兩端封閉的兩個(gè)底壁部72a、72b。該檢測管72被配置成如圖3的(a)所示，將一側(cè)的底壁部72a定位在上方，將另一側(cè)的底壁部72b定位在下方。

上方的底壁部72a與第1流路50a的下游端連接。另一方面，下方的底壁部72b與第2流路50b的上游端連接。并且，檢測管72形成為檢測管72的內(nèi)徑(內(nèi)側(cè)的寬度)比第1流路50a的下游端的內(nèi)徑(內(nèi)側(cè)的寬度)和第2流路50b的上游端的內(nèi)徑(內(nèi)側(cè)的寬度)大。

因此，從第1流路50a的下游端流出的液體31因重力在檢測管72內(nèi)的檢測空間72d落下。落下后的液體31通過第2流路50b被提供到主軸40的貫通孔40a。

檢測器74具有：發(fā)光單元(發(fā)光部)74a，其發(fā)出透過檢測管72的側(cè)壁部72c的波長的光33；以及受光單元(受光部)74b，其接收來自發(fā)光單元74a的光33而將與受光量有關(guān)的信息(電信號(hào))發(fā)送到控制單元58。當(dāng)來自該發(fā)光單元74a的光33被落下的液體31遮擋時(shí)，受光單元74b的受光量降低。在本實(shí)施方式中，利用該現(xiàn)象來檢測液體31的流動(dòng)。

關(guān)于發(fā)光單元74a和受光單元74b之間的寬度，例如如圖3的(b)所示，形成為俯視時(shí)比檢測管72寬。由此，能夠無遺漏地對(duì)在檢測管72內(nèi)落下的液體31進(jìn)行檢測。但是，發(fā)光單元(發(fā)光部)74a和受光單元(受光部)74b的寬度、形狀等并沒有特別地限制。

接著，對(duì)由上述的檢測單元52進(jìn)行的液體31的檢測方式進(jìn)行說明。圖4的(a)是示意性地示出液體31斷續(xù)地落下的狀態(tài)的縱剖視圖，圖4的(b)是示出受光單元74b的受光量與時(shí)間的關(guān)系的圖表。如圖4的(a)所示，在液體31斷續(xù)地落下的情況下，如圖4的(b)所示，在落下的液體31遮住光33的時(shí)刻，受光單元74b的受光量稍微降低。

圖5的(a)是示意性地示出液體31連續(xù)地落下的狀態(tài)的縱剖視圖，圖5的(b)是示出受光單元74b的受光量與時(shí)間的關(guān)系的圖表。如圖5的(a)所示，在液體31連續(xù)地落下的情況下，如圖5的(b)所示，在液體31落下的期間，受光單元74b的受光量成為稍微降低的狀態(tài)。

圖6的(a)是示意性地示出沒有從第1流路50a向檢測管72提供液體31的狀態(tài)的縱剖視圖，圖6的(b)是示出受光單元74b的受光量與時(shí)間的關(guān)系的圖表。如圖6的(a)所示，在因第1流路50a的堵塞等理由而沒有從第1流路50a向檢測管72提供液體31的情況下，液體31不在檢測管72內(nèi)落下。因此，在該情況下，如圖6的(b)所示，受光單元74b的受光量也不會(huì)降低。

圖7的(a)是示意性地示出沒有從檢測管72向第2流路50b排出液體31的狀態(tài)的縱剖視圖，圖7的(b)是示出受光單元74b的受光量與時(shí)間的關(guān)系的圖表。如圖7的(a)所示，在因第2流路50b的堵塞等理由而沒有向第2流路50b排出液體31的情況下，檢測管72內(nèi)的液體31逐漸增加。因此，在該情況下，如圖7的(b)所示，當(dāng)檢測管72內(nèi)的液體31的液面的高度達(dá)到某一程度時(shí)，受光單元74b的受光量成為大幅降低的狀態(tài)。

因此，通過考慮出上述的檢測方式，能夠?qū)σ后w31的流動(dòng)進(jìn)行檢測。與受光單元74b的受光量有關(guān)的信息被通知到控制單元58中，并使用于對(duì)是否流過規(guī)定的流量的液體31進(jìn)行判定的處理中。

例如，在任意的每單位時(shí)間的受光量在規(guī)定的范圍內(nèi)的情況下，控制單元58判定為在提供流路50中流過規(guī)定的流量的液體31。規(guī)定的范圍例如被設(shè)定為包含液體31斷續(xù)地落下的情況下的受光量(圖4的(b))和液體31連續(xù)地落下的情況下的受光量(圖5的(b))。

另一方面，在受光量比規(guī)定的范圍多的情況下，控制單元58判定為提供流路50中流過流量比規(guī)定的流量小的液體31，或者在提供流路50中未流過液體31。進(jìn)而，在受光量比規(guī)定的范圍少的情況下，控制單元58判定為在提供流路50中流過流量比規(guī)定的流量大的液體31，或者在提供流路50中未流過液體。

優(yōu)選在控制單元58沒有判定為在提供流路50中流過規(guī)定的流量的液體31的情況下，向操作人員等告知該內(nèi)容。由此，能夠迅速地針對(duì)提供流路50的堵塞等問題進(jìn)行應(yīng)對(duì)。能夠通過警報(bào)燈的發(fā)光、警報(bào)聲的產(chǎn)生、操作面板64上的顯示等方法來進(jìn)行針對(duì)操作人員等的告知。

如以上那樣，在本實(shí)施方式的研磨裝置(加工裝置)2中，由于使用簡單的檢測單元(檢測構(gòu)件)52，在每單位時(shí)間的受光單元74b的受光量在規(guī)定的范圍內(nèi)的情況下，判定為流過規(guī)定的流量的液體31，所以能夠以較低的成本對(duì)以較小的流量31提供液體的情況進(jìn)行確認(rèn)，其中，檢測單元(檢測構(gòu)件)52包含如下的部件：檢測管(檢測管部)72，其內(nèi)徑比第1流路50a的下游端和第2流路50b的上游端大；以及檢測器(檢測部)74，其由發(fā)光單元(發(fā)光部)74a和受光單元(受光部)74b構(gòu)成，對(duì)從第1流路50a流出并在檢測管72內(nèi)連續(xù)或斷續(xù)地落下的液體31進(jìn)行檢測。并且，由于在該檢測單元52中不存在可動(dòng)部分，所以本實(shí)施方式的研磨裝置2與具有存在可動(dòng)部分的流量計(jì)的研磨裝置相比不易出現(xiàn)故障。

另外，本發(fā)明并不僅限于上述實(shí)施方式的記載，能夠?qū)嵤└鞣N變更。例如，雖然在上述實(shí)施方式中使用圓筒狀的檢測管72，但檢測管72也可以不是圓筒狀。并且，雖然在上述實(shí)施方式中例示了將檢測器(檢測部)74配置在檢測管(檢測管部)72的外部的檢測單元52，但也可以使檢測器74露出于檢測管72的內(nèi)部。

圖8是示意性地示出變形例的檢測單元52的構(gòu)造等的縱剖視圖。如圖8所示，在使檢測器74(發(fā)光單元74a和受光單元74b)露出于檢測管72的內(nèi)部的情況下，也可以利用不能透過檢測器74中所使用的波長的光的材質(zhì)形成檢測管72。

另外，上述實(shí)施方式的構(gòu)造、方法等只要在不脫離本發(fā)明的目的的范圍內(nèi)便能夠?qū)嵤┻m當(dāng)變更。