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適用于印刷工藝制備顯示器的像素Bank結(jié)構(gòu)及其制備方法與流程

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適用于印刷工藝制備顯示器的像素Bank結(jié)構(gòu)及其制備方法與流程

本發(fā)明屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種適用于印刷工藝制備顯示器的像素bank結(jié)構(gòu)及其制備方法。



背景技術(shù):

采用溶液加工制作OLED(有機(jī)發(fā)光二極管)以及QLED(量子點(diǎn)發(fā)光二極管)顯示器,由于其低成本、高產(chǎn)能、易于實(shí)現(xiàn)大尺寸等優(yōu)點(diǎn),是未來(lái)顯示技術(shù)發(fā)展的重要方向。其中,印刷技術(shù)被認(rèn)為是實(shí)現(xiàn)OLED以及QLED低成本和大面積全彩顯示的最有效途徑。

但作為一個(gè)新興技術(shù),采用溶液法印刷技術(shù)和印刷工藝制備的OLED或QLED,存在顯示效果不佳的問(wèn)題。雖然研究者們從材料及噴印設(shè)備的方向?qū)ζ溥M(jìn)行了改進(jìn),但是印刷設(shè)備的穩(wěn)定性以及薄膜厚度的均勻性等印刷難題一直未能達(dá)到預(yù)期結(jié)果。

在常規(guī)印刷AM-QDLED(有源矩陣量子點(diǎn)發(fā)光二極管)或AMOLED(有源矩陣有機(jī)發(fā)光二極管)器件中,為限制墨水在印刷時(shí)向四周溢出,像素界定層(PDL或Bank)設(shè)置成上窄下寬、且頂部平坦的結(jié)構(gòu),如圖1所示(1’基板,2’像素電極,3’像素Bank)。這種像素結(jié)構(gòu)中,打印過(guò)程中當(dāng)墨水軌跡發(fā)生偏移或者當(dāng)噴出墨滴產(chǎn)生彗星點(diǎn)等狀況時(shí),滴落在像素Bank頂部的墨水會(huì)遺留在Bank頂部,從而導(dǎo)致像素Bank內(nèi)部的墨水量減小,進(jìn)而造成干燥后各像素區(qū)域發(fā)光元件功能層的薄膜厚度不均勻,最終影響顯示效果。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于提供一種適用于印刷工藝制備顯示器的像素Bank結(jié)構(gòu)及其制備方法,旨在解決現(xiàn)有技術(shù)采用印刷工藝制備顯示器時(shí),墨水遺留在Bank頂部、導(dǎo)致顯示器顯示效果不佳的問(wèn)題。

本發(fā)明是這樣實(shí)現(xiàn)的,一種適用于印刷工藝制備顯示器的像素Bank結(jié)構(gòu),包括基板、圖案化像素電極和像素Bank層,所述像素Bank層包括設(shè)置在所述基板上的第一像素Bank和設(shè)置在所述第一像素Bank上表面的第二像素Bank,其中,所述第一像素Bank為上窄下寬的Bank結(jié)構(gòu),且所述第一像素Bank由親液性材料制成;所述第二像素Bank包括一對(duì)相互抵靠的導(dǎo)墨斜坡,所述導(dǎo)墨斜坡的高度沿著所述相互抵靠的導(dǎo)墨斜坡相互靠近的方向漸增設(shè)置,且所述第二像素Bank由疏液性材料制成。

以及,一種適用于印刷工藝制備顯示器的像素Bank結(jié)構(gòu)的制備方法,包括以下步驟:

提供一基板,在所述基板上制備圖案化像素電極;

在所述基板上沉積親液性Bank膜層,在所述親液性Bank膜層上沉積疏液性Bank膜層;

對(duì)所述親液性Bank膜層、疏液性Bank膜層進(jìn)行曝光顯影處理,得到上窄下寬的第一像素Bank和中間高度最高、向兩側(cè)方向高度逐漸變小的所述第二像素Bank。

本發(fā)明提供的適用于印刷工藝制備顯示器的像素Bank結(jié)構(gòu),用親液性材料制作第一像素Bank,并于其頂部引入包括一對(duì)相互抵靠的導(dǎo)墨斜坡的疏液性第二像素Bank,所述導(dǎo)墨斜坡的高度沿著所述相互抵靠的導(dǎo)墨斜坡相互靠近的方向漸增設(shè)置,因此所述第二像素Bank具有傾斜角度。采用印刷工藝制備顯示器時(shí),沉積墨水時(shí),由于疏液性第二像素Bank的設(shè)置,墨水的三相線固定于親液的第一像素bank與疏液的第二像素bank的接觸線位置,不會(huì)沿著第二像素bank鋪展爬出像素bank;同時(shí),當(dāng)有墨滴滴落在第二像素Bank頂部后,導(dǎo)墨斜坡的設(shè)置使得墨滴在第二像素Bank上具有較大的接觸角,在重力的作用下,墨滴發(fā)生滾動(dòng),沿著導(dǎo)墨斜坡爬回像素槽內(nèi),從而有效防止墨水軌跡發(fā)生偏移或者墨滴產(chǎn)生彗星點(diǎn),進(jìn)而解決印刷工藝制備顯示器時(shí)膜厚不均勻的問(wèn)題,提高整個(gè)印刷工藝的薄膜均勻性。

本發(fā)明提供的適用于印刷工藝制備顯示器的像素Bank結(jié)構(gòu)的制備方法,只需在現(xiàn)有的第一像素Bank上制備一層具有傾斜角度的疏液性第二像素Bank即可,方法簡(jiǎn)單易行,可實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)。

附圖說(shuō)明

圖1是現(xiàn)有技術(shù)提供的刷工藝制備顯示器的像素Bank結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2是本發(fā)明實(shí)施例提供的適用于印刷工藝制備顯示器的像素Bank結(jié)構(gòu)的效果示意圖;

圖3是本發(fā)明實(shí)施例提供的在基板上制備圖案化像素電極后的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖4是本發(fā)明實(shí)施例提供的沉積完親液性Bank膜層、疏液性Bank膜層后的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖5是本發(fā)明實(shí)施例提供的適用于印刷工藝制備顯示器的像素Bank結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

為了使本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題、技術(shù)方案及有益效果更加清楚明白,以下結(jié)合實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明進(jìn)行進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解,此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本發(fā)明,并不用于限定本發(fā)明。

結(jié)合圖2,本發(fā)明實(shí)施例提供了一種適用于印刷工藝制備顯示器的像素Bank結(jié)構(gòu),包括基板1、圖案化像素電極2和像素Bank層3,所述像素Bank層3包括設(shè)置在所述基板1上的第一像素Bank 31和設(shè)置在所述第一像素Bank31上表面的第二像素Bank 32,其中,所述第一像素Bank 31為上窄下寬的Bank結(jié)構(gòu),且所述第一像素Bank 31由親液性材料制成;所述第二像素Bank 32包括一對(duì)相互抵靠的導(dǎo)墨斜坡,所述導(dǎo)墨斜坡的高度沿著所述相互抵靠的導(dǎo)墨斜坡相互靠近的方向漸增設(shè)置,且所述第二像素Bank 32由疏液性材料制成。

具體的,所述基板1可選用本領(lǐng)域常規(guī)的基板1,包括但不限于TFT基板1。所述圖案化像素電極2可采用本領(lǐng)域常規(guī)像素電極材料制成。

本發(fā)明實(shí)施例中,所述像素Bank層3包括設(shè)置在所述基板1上的第一像素Bank 31和設(shè)置在所述第一像素Bank 31上表面的第二像素Bank 32。其中,所述第一像素Bank 31由親液性材料制成;所述第二像素Bank 32由疏液性材料制成。所述第一像素Bank 31與常規(guī)的bank結(jié)構(gòu)一樣,設(shè)置成上窄下寬的結(jié)構(gòu),以限制墨水在印刷時(shí)向四周溢出;且親液性的所述第一像素Bank 31設(shè)置在疏液性的所述第二像素Bank 32底部,保證了沉積墨水時(shí)墨水良好的鋪展性,從而有利于形成平整的薄膜形貌。優(yōu)選的,所述第一像素Bank 31的厚度為0.2-0.6μm。該優(yōu)選的厚度,可以保證在像素bank限定的像素槽(發(fā)光像素區(qū)域)中沉積的發(fā)光單元各功能層滿足合適的厚度。

所述第二像素Bank 32設(shè)置在所述第一像素Bank 31的頂部,具體的,所述第二像素Bank 32包括一對(duì)相互抵靠的導(dǎo)墨斜坡,所述導(dǎo)墨斜坡的高度沿著所述相互抵靠的導(dǎo)墨斜坡相互靠近的方向漸增設(shè)置。由此,所述第二像素Bank32形成具有一定傾斜角度的bank結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選的,所述導(dǎo)墨斜坡的斜坡面為平面或外側(cè)凸設(shè)的弧面。即所述第二像素Bank 32的表面呈角形或弧形,從而有利于低落在所述第二像素Bank 32的墨滴回流至像素槽中。

進(jìn)一步的,所述斜坡面為平面時(shí),所述平面延伸與所述基板1相交形成的夾角為20-45°;或所述斜坡面為弧面時(shí),所述斜坡面與所述第一像素Bank 31的交點(diǎn)的切線延伸,與所述基板1相交形成的夾角為20-45°。若所述夾角太小,不利于所述第二像素Bank 32上墨滴的流動(dòng);若所述夾角太大,后期蒸鍍陰極時(shí)會(huì)引起傾斜面陰極厚度與發(fā)光像素區(qū)域內(nèi)陰極厚度差別較大,影響顯示器件性能。

優(yōu)選的,所述第二像素Bank 32的最高點(diǎn)高度為0.5-1.0μm。若所述第二像素Bank 32的最高點(diǎn)高度過(guò)低,不利于所述第二像素Bank 32上墨滴的流動(dòng);若所述第二像素Bank 32的最高點(diǎn)高度過(guò)高,后期蒸鍍陰極時(shí)會(huì)引起傾斜面陰極厚度與發(fā)光像素區(qū)域內(nèi)陰極厚度差別較大,影響顯示器件性能。

進(jìn)一步優(yōu)選的,所述相互抵靠的導(dǎo)墨斜坡以所述第一像素Bank 31的中線為對(duì)稱軸對(duì)稱設(shè)置。本發(fā)明實(shí)施例所述第一像素Bank 31的中線,是指垂直于所述基板1的所述第一像素Bank 31的縱向切面的中線(圖2中虛線所示)。即所述疏液像素bank的最高點(diǎn)位于相連像素像個(gè)區(qū)域的中間,即在相連像素中間位置疏液像素bank最高,向著像素槽位置高度依次減小,形成傾斜角度。

本發(fā)明實(shí)施例提供的適用于印刷工藝制備顯示器的像素Bank結(jié)構(gòu),用親液性材料制作第一像素Bank,并于其頂部引入包括一對(duì)相互抵靠的導(dǎo)墨斜坡的疏液性第二像素Bank,所述導(dǎo)墨斜坡的高度沿著所述相互抵靠的導(dǎo)墨斜坡相互靠近的方向漸增設(shè)置,因此所述第二像素Bank具有傾斜角度。采用印刷工藝制備顯示器時(shí),沉積墨水時(shí),由于疏液性第二像素Bank的設(shè)置,墨水的三相線固定于親液的第一像素Bank與疏液的第二像素Bank的接觸線位置,不會(huì)沿著第二像素Bank鋪展爬出像素bank;同時(shí),當(dāng)有墨滴滴落在第二像素Bank頂部后,導(dǎo)墨斜坡的設(shè)置使得墨滴在第二像素Bank上具有較大的接觸角,在重力的作用下,墨滴發(fā)生滾動(dòng),沿著導(dǎo)墨斜坡爬回像素槽內(nèi),從而有效防止墨水軌跡發(fā)生偏移或者墨滴產(chǎn)生彗星點(diǎn),進(jìn)而解決印刷工藝制備顯示器時(shí)膜厚不均勻的問(wèn)題,提高整個(gè)印刷工藝的薄膜均勻性。

本發(fā)明實(shí)施例所述適用于印刷工藝制備顯示器的像素Bank結(jié)構(gòu),可以通過(guò)下述方法制備獲得。

以及,結(jié)合圖3-5,本發(fā)明實(shí)施了還提供了一種適用于印刷工藝制備顯示器的像素Bank結(jié)構(gòu)的制備方法,包括以下步驟:

S01.提供一基板1,在所述基板1上制備圖案化像素電極2;

S02.在所述基板1上沉積親液性Bank膜層31’,在所述親液性Bank膜層31’上沉積疏液性Bank膜層32’;

S03.對(duì)所述親液性Bank膜層31’、疏液性Bank膜層32’進(jìn)行曝光顯影處理,得到上窄下寬的第一像素Bank 31和中間高度最高、向兩側(cè)方向高度逐漸變小的所述第二像素Bank 32。

具體的,上述步驟S01中,所述基板1的類型如上文所述,在所述基板1上制備圖案化像素電極2的方法可采用本領(lǐng)域常規(guī)的方法實(shí)現(xiàn)。在所述基板1上制備圖案化像素電極2后的結(jié)構(gòu)如圖3所示。

上述步驟S02中,在所述基板1上依次沉積親液性Bank膜層31’、疏液性Bank膜層32’,所述親液性Bank膜層31’、所述疏液性Bank膜層32’為同種性質(zhì)的光阻材料制成,即所述親液性Bank膜層31’、所述疏液性Bank膜層32’同為正性光阻膜層;或所述親液性Bank膜層31’、所述疏液性Bank膜層32’同為負(fù)性光阻膜層。沉積完親液性Bank膜層31’、疏液性Bank膜層32’后的結(jié)構(gòu)如圖4所示。

上述步驟S03中,對(duì)所述親液性Bank膜層31’、疏液性Bank膜層32’進(jìn)行曝光顯影處理,得到適用于印刷工藝制備顯示器的像素Bank結(jié)構(gòu)。適用于印刷工藝制備顯示器的像素Bank結(jié)構(gòu)的一種情形如圖5所示。

優(yōu)選的,所述曝光顯影處理的方法為:

當(dāng)所述親液性Bank膜層31’、疏液性Bank膜層32’為正性光阻膜層時(shí),像素發(fā)光區(qū)域全曝光處理,像素Bank區(qū)域的曝光量從一個(gè)像素發(fā)光區(qū)域到另一個(gè)相鄰像素發(fā)光區(qū)域的中間區(qū)逐漸減小,然后顯影;

當(dāng)所述親液性Bank膜層31’、疏液性Bank膜層32’為負(fù)性光阻膜層時(shí),采用半曝光處理,像素發(fā)光區(qū)域不曝光,像素Bank區(qū)域的曝光量從一個(gè)像素發(fā)光區(qū)域到另一個(gè)相鄰像素發(fā)光區(qū)域的中間區(qū)逐漸增大,然后顯影。

本發(fā)明實(shí)施例提供的適用于印刷工藝制備顯示器的像素Bank結(jié)構(gòu)的制備方法,只需在現(xiàn)有的第一像素Bank上制備一層具有傾斜角度的疏液性第二像素Bank即可,方法簡(jiǎn)單易行,可實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本發(fā)明,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)所作的任何修改、等同替換和改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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