技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種背照式傳感器的制造方法及版圖結(jié)構(gòu)，所述版圖結(jié)構(gòu)中，金屬柵格層的范圍至少覆蓋保護(hù)層靠近像素區(qū)的像素層的邊界，從而在所述制造方法中，根據(jù)新的版圖結(jié)構(gòu)制造背照式傳感器的金屬柵格時，保護(hù)層與像素層的臺階處的金屬不需要被蝕刻掉，從而避免金屬殘余缺陷，避免影響像素區(qū)的透光率，從而提高了最終制得的背照式圖像傳感器芯片的性能。

技術(shù)研發(fā)人員：占瓊;朱繼鋒
受保護(hù)的技術(shù)使用者：武漢新芯集成電路制造有限公司
文檔號碼：201611103160
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.05
技術(shù)公布日：2017.05.31