1.一種二相流霧化清洗裝置，其特征在于，包括：
固定支架和二相流霧化噴嘴主體；
所述固定支架一端與二相流霧化清洗噴嘴主體固定連接，另一端受驅(qū)動(dòng)帶動(dòng)二相流霧化清洗噴嘴主體在晶圓表面上方運(yùn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)對(duì)整個(gè)晶圓范圍內(nèi)的均勻清洗；
所述二相流霧化清洗噴嘴主體懸設(shè)于晶圓上方，其連接第一、第二清洗介質(zhì)管路，所述第一清洗介質(zhì)管路用于向二相流霧化清洗噴嘴主體內(nèi)通入氣體清洗介質(zhì)，所述第二清洗介質(zhì)管路用于向二相流霧化清洗噴嘴主體內(nèi)通入液體清洗介質(zhì)；
所述二相流霧化清洗噴嘴主體內(nèi)設(shè)有清洗介質(zhì)混合腔，所述清洗介質(zhì)混合腔連接第一、第二清洗介質(zhì)管路，用于使通入的氣體、液體清洗介質(zhì)充分混合，并形成尺寸均勻的霧化顆粒；
所述二相流霧化清洗噴嘴主體下端設(shè)有霧化顆粒出口，所述霧化顆粒出口通過(guò)拉瓦爾噴管連接至清洗介質(zhì)混合腔；
其中，通過(guò)拉瓦爾噴管縮小霧化顆粒的尺寸，增加霧化顆粒的運(yùn)動(dòng)速度和其具有的動(dòng)能，并調(diào)整霧化顆粒從霧化顆粒出口噴出以后的運(yùn)動(dòng)軌跡，以使霧化顆粒具有垂直于晶圓表面的運(yùn)動(dòng)方向，防止霧化顆粒產(chǎn)生在水平方向上的動(dòng)能分量，以避免對(duì)晶圓表面圖形結(jié)構(gòu)造成損傷。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的二相流霧化清洗裝置，其特征在于，所述二相流霧化清洗噴嘴主體設(shè)有第一、第二入口，所述第一清洗介質(zhì)管路通過(guò)第一入口連接清洗介質(zhì)混合腔，所述第二清洗介質(zhì)管路通過(guò)第二入口連接清洗介質(zhì)混合腔。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的二相流霧化清洗裝置，其特征在于，所述清洗介質(zhì)混合腔具有垂直的筒形腔體結(jié)構(gòu)，所述第一入口連接在筒形腔體結(jié)構(gòu)頂部，所述第二入口連接在筒形腔體結(jié)構(gòu)側(cè)部。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的二相流霧化清洗裝置，其特征在于，所述拉瓦爾噴管包含上下相連的收縮部分和擴(kuò)張部分，所述收縮部分上端連接清洗介質(zhì)混合腔下端，所述擴(kuò)張部分下端連接霧化顆粒出口。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的二相流霧化清洗裝置，其特征在于，所述收縮部分為直線形收縮結(jié)構(gòu)或者是弧線形收縮結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的二相流霧化清洗裝置，其特征在于，所述收縮部分的尺寸收縮比例為10:1-2:1。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的二相流霧化清洗裝置，其特征在于，所述擴(kuò)張部分為直線形擴(kuò)張結(jié)構(gòu)或者是弧線形擴(kuò)張結(jié)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求4或7所述的二相流霧化清洗裝置，其特征在于，所述擴(kuò)張部分的尺寸擴(kuò)張比例為2:1-10:1。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的二相流霧化清洗裝置，其特征在于，所述固定支架另一端配置有一個(gè)具有旋轉(zhuǎn)升降功能的電機(jī)，其通過(guò)控制線與清洗設(shè)備控制主機(jī)連接，用于接收控制主機(jī)指令，控制固定支架在晶圓上方按設(shè)定的軌跡運(yùn)動(dòng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的二相流霧化清洗裝置，其特征在于，還包括晶圓載臺(tái)，其表面設(shè)有用于固定晶圓的夾持結(jié)構(gòu)，其下方連接有晶圓旋轉(zhuǎn)電機(jī)。