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顯示模塊的制作方法

文檔序號:12807119閱讀:228來源:國知局
顯示模塊的制作方法與工藝

本發(fā)明涉及顯示模塊(displaymodule)。



背景技術(shù):

以往,作為構(gòu)成顯示裝置的基板,已知可彎折的基板,所述顯示裝置具有進行圖像顯示的顯示區(qū)域、和顯示區(qū)域外側(cè)的邊框區(qū)域。日本特開2012-128006號公報中公開了一種通過將基板的4邊彎折從而實現(xiàn)窄邊框化的技術(shù)。

有時在顯示裝置的邊框區(qū)域中,設(shè)置用于從外部的電源經(jīng)由柔性布線基板等向顯示區(qū)域供給電力的接觸部。上述接觸部的面積越大,則電阻變低,從這一觀點考慮是優(yōu)選的,但若接觸部的面積變大,則隨之而來需要擴大邊框區(qū)域。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于,提供一種能夠?qū)崿F(xiàn)接觸部的低電阻化、并且能夠?qū)崿F(xiàn)窄邊框化的顯示模塊。

本發(fā)明的一個方式的顯示模塊為具有絕緣基板、和在所述絕緣基板上的具有發(fā)光元件層的多個像素的顯示模塊,其特征在于,所述絕緣基板具有:配置有所述多個像素的顯示區(qū)域;比所述顯示區(qū)域更靠外側(cè)的邊框區(qū)域;外部區(qū)域,與所述邊框區(qū)域的與所述顯示區(qū)域相反一側(cè)接觸;和位于所述外部區(qū)域上、并且在一個方向上排列的多個端子,所述外部區(qū)域具有狹小部,所述狹小部在所述一個方向的長度小于所述顯示區(qū)域在所述一個方向的長度。

另外,本發(fā)明的其他方式的顯示模塊具有絕緣基板,所述絕緣基板具有:配置有多個像素的顯示區(qū)域;第一基板端部,在沿所述顯示區(qū)域的第一邊延伸的方向上延伸;第二基板端部,在沿所述顯示區(qū)域的與所述第一邊交叉的第二邊延伸的方向上延伸、且與所述第一基板端部交叉;和外部區(qū)域,與所述第一基板端部交叉、且向與所述顯示區(qū)域相反一側(cè)突出,所述第一基板端部具有與所述第二基板端部接觸的第一部分、和與所述外部區(qū)域接觸的第二部分,所述第一部分與所述第二部分分隔開、并且所述外部區(qū)域能夠彎曲。

附圖說明

圖1為表示第一實施方式涉及的顯示裝置的俯視圖。

圖2為表示將第一實施方式涉及的顯示裝置的聚酰亞胺膜展開后的狀態(tài)的展開俯視圖。

圖3為示意性地表示第一實施方式涉及的顯示裝置的示意截面圖、并且是圖2的a-a截面圖。

圖4a為對第一實施方式中的聚酰亞胺膜的折返工序進行說明的圖

圖4b為對第一實施方式中的聚酰亞胺膜的折返工序進行說明的圖。

圖4c為對第一實施方式中的聚酰亞胺膜的折返工序進行說明的圖。

圖5a為對第一實施方式中的聚酰亞胺膜的折返工序進行說明的圖。

圖5b為對第一實施方式中的聚酰亞胺膜的折返工序進行說明的圖。

圖6為表示將第二實施方式涉及的顯示裝置的聚酰亞胺膜展開后的狀態(tài)的展開俯視圖。

圖7a為對第二實施方式中的聚酰亞胺膜的折返工序進行說明的圖。

圖7b為對第二實施方式中的聚酰亞胺膜的折返工序進行說明的圖。

圖7c為對第二實施方式中的聚酰亞胺膜的折返工序進行說明的圖。

圖7d為對第二實施方式中的聚酰亞胺膜的折返工序進行說明的圖。

圖8為表示將第三實施方式涉及的顯示裝置的聚酰亞胺膜展開后的狀態(tài)的展開俯視圖。

附圖標記說明

10tft基板

11聚酰亞胺膜

13自發(fā)光元件層

13a有機el層

13b陽極電極

13c陰極電極

15封固膜

17堤層

20對置基板

21玻璃基板

23彩色濾光片

25黑矩陣

30密封部件

40填充件

51ic驅(qū)動器

52端子

100、200、300顯示裝置

m顯示區(qū)域

n邊框區(qū)域

o1~o4外部區(qū)域

c1~c4接觸部

l1~l10刻痕

e1~e4刻痕端部

d1~d3切口

具體實施方式

以下,對本發(fā)明的第一~第三實施方式,參照附圖進行說明。首先,參照圖1~圖3,說明第一實施方式涉及的顯示裝置。圖1為表示第一實施方式涉及的顯示裝置的俯視圖。圖2表示將第一實施方式涉及的顯示裝置的聚酰亞胺膜展開后的狀態(tài)的展開俯視圖。圖3示意性地表示第一實施方式涉及的顯示裝置的示意截面圖、并且是圖2的a-a截面圖。

如圖1所示,顯示裝置100具有進行圖像顯示的顯示區(qū)域m、和顯示區(qū)域m外側(cè)的邊框區(qū)域n。顯示區(qū)域m中以矩陣狀配置有多個單位像素。

顯示裝置100具有撓性,并且具有在作為可彎折的絕緣基板的聚酰亞胺膜11上層疊多個層的結(jié)構(gòu)。另外,如圖2所示,聚酰亞胺膜11為這樣的構(gòu)成:在展開后的狀態(tài)下,在比邊框區(qū)域n更靠外側(cè)具有外部區(qū)域o。

在第一實施方式中,作為外部區(qū)域o,構(gòu)成為具有:分別設(shè)置于顯示區(qū)域m的左右側(cè)的外部區(qū)域o1、o2;設(shè)置于顯示區(qū)域m上側(cè)的外部區(qū)域o3;設(shè)置于顯示區(qū)域m下側(cè)的外部區(qū)域o4。在外部區(qū)域o4安裝驅(qū)動器ic(integratedcircuit:集成電路)51、及與未圖示的柔性布線基板(fpc,flexibleprintedcircuits:柔性印刷基板)等電連接的端子52。此處,如圖2所示,將在顯示區(qū)域m中的一個方向上延伸的邊定義為第一邊s1、將在與第一邊s1交叉的方向上延伸的邊定義為第二邊s2。另外,將外部區(qū)域o1中的在沿第一邊s1延伸的方向上延伸的端部定義為第一基板端部e1,將在沿第二邊s2延伸的方向上延伸、并且與第一基板端部e1交叉的端部定義為第二基板端部e2。另外,將外部區(qū)域o2中的在沿第一邊s1延伸的方向上延伸的端部定義為第一基板端部e1,將在沿第二邊s2延伸的方向上延伸、并且與第二基板端部e2對置的端部定義為第三基板端部e3。另外,將第一基板端部e1與第二基板端部e2接觸的部分定義為第一部分e11、將第一基板端部e1與外部區(qū)域o3接觸的部分定義為第二部e12、將第一基板端部e1與第三基板端部e3接觸的部分定義為第三部分e13。如圖2所示,第一部分e11與第二部e12分隔開,第二部e12與第三部分e13分隔開。

如圖3所示,顯示裝置100具有:具有薄膜晶體管等的tft(thinfilmtransistor:薄膜晶體管)基板10、和與tft基板10對置設(shè)置的對置基板20。對置基板20隔著沿tft基板10的邊緣形成的密封部件30、和填充在被密封部件30包圍的區(qū)域的填充件40,而粘貼于tft基板10。

tft基板10具有上述聚酰亞胺膜11、絕緣膜12、自發(fā)光元件層13、和將自發(fā)光元件層13封固的封固膜15。

自發(fā)光元件層13為通過構(gòu)成像素的多個單位像素分別控制亮度從而發(fā)光的層。自發(fā)光元件層13至少設(shè)置于顯示區(qū)域m,并且是包含有機el(electroluminescence:電致發(fā)光)層13a、設(shè)置于有機el層13a的下層的、作為下部電極的陽極電極13b、和設(shè)置于有機el層的上層的、作為上部電極的陰極電極13c的層。需要說明的是,在第一實施方式中,將上部電極作為陰極電極、將下部電極作為陽極電極,但不限于此,也可以將上部電極作為陽極電極、將下部電極作為陰極電極。

有機el層13a之中覆蓋陽極電極13b的區(qū)域成為發(fā)光區(qū)域,通過堤層17而與陰極電極13c分隔開的區(qū)域成為非發(fā)光區(qū)域。有機el層13a構(gòu)成為從陰極側(cè)向陽極側(cè)依次層疊并配置電子傳輸層、發(fā)光層、空穴傳輸層。若對陽極電極13b和陰極電極13c施加直流電壓,則從陰極電極13c注入的空穴經(jīng)由空穴傳輸層、另一方面從陽極電極13b注入的電子經(jīng)由電子傳輸層從而分別到達有機el層13a,電子與空穴再結(jié)合。通過這種電子與空穴的再結(jié)合,有機el層13a發(fā)出規(guī)定波長的光。

另外,在顯示裝置100中,如圖3所示,陰極電極13c延伸形成至聚酰亞胺膜11的外部區(qū)域o。陰極電極13c被封固膜15被覆、但在外部區(qū)域o4中具有未被封固膜15被覆而露出的接觸部c(c1~c4)。接觸部c電連接于設(shè)置于外部的供電部,擔負對顯示區(qū)域m供給電力的作用。

在第一實施方式中,如圖2所示,在聚酰亞胺膜11之中,構(gòu)成為在外部區(qū)域o1設(shè)置接觸部c1、在外部區(qū)域o2設(shè)置接觸部c2、在外部區(qū)域o3設(shè)置接觸部c3、c4。在第一實施方式中,經(jīng)由設(shè)置于外部區(qū)域o1、o2的接觸部c1、c2而向顯示區(qū)域m進行供電。

另一方面,如圖3所示,對置基板20具有玻璃基板21、設(shè)置于玻璃基板21的下層的彩色濾光片23、和設(shè)置于彩色濾光片23的周邊的黑矩陣25。需要說明的是,在第一實施方式中,對使用玻璃基板21的構(gòu)成進行了說明,但不限于此,也可以使用具有撓性的膜等。

彩色濾光片23按配置于顯示區(qū)域m的各單位像素而分別設(shè)置,并且吸收特定波長的光、而透過其他波長的光。作為彩色濾光片23,例如可使用進行了紅r、綠g、藍b的著色的彩色濾光片。黑矩陣25以圍繞各種顏色的彩色濾光片23的方式以矩陣狀形成、并且對來自自發(fā)光元件層13的光進行遮光。

接下來,參照圖4a~圖4c、圖5a~圖5b,對聚酰亞胺膜11的折返進行說明。在第一實施方式中,通過采用將外部區(qū)域o向tft基板10的背側(cè)折返的構(gòu)成,從而實現(xiàn)窄邊框化。圖4a~圖4c及圖5a~圖5b為從背側(cè)觀察第一實施方式涉及的顯示裝置的圖、并且是說明聚酰亞胺膜的折返工序的圖。圖4a為從背側(cè)觀察將聚酰亞胺膜展開后的顯示裝置100的圖。也就是說,圖4a為從背側(cè)觀察圖2所示的顯示裝置100的圖。圖4a~圖4c、圖5a~圖5b中的虛線表示對接觸部進行透視。

首先,將外部區(qū)域o1及外部區(qū)域o2向tft基板10的背側(cè)折返,從而使之成為如圖4b所示的狀態(tài)。在圖4b的狀態(tài)中,接觸部c1、c2成為朝向顯示區(qū)域m的與顯示表面?zhèn)认喾匆粋?cè)的狀態(tài)。此外,將外部區(qū)域o3向tft基板10的背側(cè)折返從而使之成為圖4c所示的狀態(tài)。在圖4c所示的狀態(tài)中,接觸部c3、c4成為朝向顯示區(qū)域m的與顯示表面?zhèn)认喾匆粋?cè)的狀態(tài)。

然后,使用導電膠帶將設(shè)置于外部區(qū)域o3、彼此相鄰的接觸部c3與接觸部c4電連接。作為導電膠帶,可使用雙面膠。需要說明的是,在第一實施方式中,使用了導電膠帶,但不限于此,只要是能夠通電且能夠粘接的物品即可,例如可使用導電性粘接劑。

此外,以使得接觸部c2和接觸部c4重合、接觸部c1和接觸部c3重合的方式,將外部區(qū)域o4向tft基板10的背側(cè)折返。被折返的外部區(qū)域o4通過作為雙面膠的導電膠帶60(參照圖5a)而粘貼于外部區(qū)域o3。通過雙面膠,外部區(qū)域o3和外部區(qū)域o4被固定,從而保持將外部區(qū)域o1~o4折返的狀態(tài)(參照圖5b)。

另外,接觸部c1~c4通過電阻小的導電膠帶60而成為彼此電連接的狀態(tài)、并且成為電位大致相同(公共電位)的狀態(tài)。因此,與經(jīng)由金屬等而將接觸部電連接的情況相比,能夠?qū)崿F(xiàn)低電阻化。結(jié)果,能夠抑制由于電壓降低而產(chǎn)生的亮度梯度(日語:輝度傾斜)。

如以上所說明的,在第一實施方式中,由于采用了將陰極電極13c的接觸部c1~c4配置在比邊框區(qū)域n更靠外側(cè)(與對置基板20對置的區(qū)域以外的區(qū)域)的構(gòu)成,與將接觸部c1~c4配置在邊框區(qū)域n的構(gòu)成相比,能夠?qū)崿F(xiàn)窄邊框化。另外,無論邊框區(qū)域n的寬度如何,均能夠增大陰極電極13c的接觸部c1~c4的面積,因此能夠?qū)崿F(xiàn)低電阻化。

需要說明的是,對于外部區(qū)域o的形狀,不限于圖中所示的形狀。例如,也可以是將外部區(qū)域o1、o2之中的除配置有接觸部c1、c2的部分以外的區(qū)域被除去的形狀。另外,也可以適當?shù)匦纬瑟M縫、切口,以便于容易彎折聚酰亞胺膜11。

另外,為了使陰極電極彼此通電,也可以像圖3那樣設(shè)置鋁布線19作為信號布線層。通過具有一定厚度的鋁布線19而進行通電,能夠?qū)崿F(xiàn)低電阻化。需要說明的是,為了抑制鋁的腐蝕等,也可以在鋁布線19上被覆ito(indiumtinoxide:氧化銦錫)層。

接下來,參照圖6、圖7,說明第二實施方式涉及的顯示裝置200。圖6為表示將第二實施方式涉及的顯示裝置的聚酰亞胺膜展開后的狀態(tài)的展開俯視圖。圖7為說明聚酰亞胺膜的折返工序的圖。需要說明的是,在第二實施方式中,對與第一實施方式同樣的構(gòu)成使用相同標記,并省略其說明。圖7c、圖7d中的虛線表示對接觸部進行透視。

圖6所示,顯示裝置200與第一實施方式涉及的顯示裝置100同樣地具有顯示區(qū)域m、和顯示區(qū)域m外側(cè)的邊框區(qū)域n。另外,第二實施方式的聚酰亞胺膜11具有比邊框區(qū)域n更靠近外側(cè)的外部區(qū)域o。外部區(qū)域o具有:分別設(shè)置于顯示區(qū)域m的左右側(cè)的外部區(qū)域o1、o2、設(shè)置于顯示區(qū)域m上側(cè)的外部區(qū)域o3、設(shè)置于顯示區(qū)域m下側(cè)的外部區(qū)域o4。

另外,在聚酰亞胺膜11的外部區(qū)域o1設(shè)置有刻痕l1、l2,并且在外部區(qū)域o2設(shè)置有刻痕l3、l4。另外,在外部區(qū)域o1與外部區(qū)域o4的分界線處設(shè)置刻痕l5、在外部區(qū)域o2與外部區(qū)域o4的分界線處設(shè)置有刻痕l6。另外,在外部區(qū)域o1與外部區(qū)域o3的分界線處設(shè)置有刻痕l7、在外部區(qū)域o2與外部區(qū)域o3的分界線處設(shè)置有刻痕l8。

參照圖7a~圖7d,對第二實施方式的聚酰亞胺膜11的折返進行說明。

首先,將外部區(qū)域o1及外部區(qū)域o2向tft基板10的背面?zhèn)日鄯?。將上述狀態(tài)示于圖7a。圖7b為從背側(cè)觀察圖7a所示的顯示裝置200的圖。圖7c、圖7d也同樣地是從背側(cè)觀察顯示裝置的圖。

接下來,如圖7c所示,將外部區(qū)域o4向tft基板10的背側(cè)折返。此時,外部區(qū)域o1中的由刻痕l2形成的刻痕端部e1,被外部區(qū)域o1和外部區(qū)域o4中的由刻痕l5分離的部分夾住。同樣地,外部區(qū)域o2中的由刻痕l4形成的刻痕端部e2,被外部區(qū)域o2和外部區(qū)域o4中的由刻痕l6分離的部分夾住。由此,外部區(qū)域o4的折返狀態(tài)得以保持。

此外,如圖7d所示,將外部區(qū)域o3向tft基板10的背側(cè)折返。此時,外部區(qū)域o1中的由刻痕l1形成的刻痕端部e3,被外部區(qū)域o1和外部區(qū)域o3中的由刻痕l7分離的部分夾住。同樣地,外部區(qū)域o2中的由刻痕l3形成的刻痕端部e4,被外部區(qū)域o2和外部區(qū)域o3中的由刻痕l8分離的部分夾住。由此,外部區(qū)域o3的折返狀態(tài)得以保持。

如以上所說明的,在第二實施方式的構(gòu)成中,沒有使用雙面膠、粘接劑等,就能保持為將外部區(qū)域o向tft基板10的背側(cè)折返的狀態(tài)。需要說明的是,在第二實施方式中,也可以以在外部區(qū)域o被折返的狀態(tài)下使接觸部c1與接觸部c2電連接的方式,粘貼導電膠帶等。但是,在第二實施方式中,由于是如上所述在聚酰亞胺膜11中形成多個刻痕從而保持外部區(qū)域o的折返狀態(tài)的構(gòu)成,因此無需使用雙面膠作為導電膠帶。

需要說明的是,對于聚酰亞胺膜11中的刻痕,不限于第二實施方式中所示的刻痕,只要是形成為不使用膠帶就能將折返的聚酰亞胺膜11保持為折返狀態(tài)的部件即可,可適當選擇其數(shù)目、大小、位置。

接著,參照圖8,說明第三實施方式涉及的顯示裝置300。圖8為表示將第三實施方式涉及的顯示裝置的聚酰亞胺膜展開后的狀態(tài)的展開俯視圖。在第三實施方式中,除聚酰亞胺膜11的形狀外,對于其他構(gòu)成而言,與在第一實施方式中所說明的相同。另外,在第三實施方式中,由于聚酰亞胺膜11的折返方式、接觸部c的連接方法與在第一實施方式所說明的方法相同,因此省略其說明。這里,如圖8所示,將顯示區(qū)域m中的在一個方向上延伸的邊定義為第一邊s1、將在與第一邊s1交叉的方向上延伸的邊定義為第二邊s2。另外,如圖8所示,將絕緣基板10中的在沿第一邊s1延伸的方向上延伸的端部定義為第一基板端部e1、將在沿第二邊s2延伸的方向上延伸并且與第一基板端部e1交叉的端部定義為第二基板端部e2。另外,將絕緣基板10中的在沿第一邊s1延伸的方向上延伸的端部定義為第一基板端部e1、將在沿第二邊s2延伸的方向上延伸并且與第二基板端部e2對置的端部定義為第三基板端部e3。另外,將第一基板端部e1與第二基板端部e2接觸的部分定義為第一部分e11、將第一基板端部e1與外部區(qū)域o4接觸的部分定義為第二部分e12、將第一基板端部e1與第三基板端部e3接觸的部分定義為第三部分e13。如圖8所示,第一部分e11與第二部分e12分隔開、第二部分e12與第三部分e13分隔開。

如圖8所示,顯示裝置300具有顯示圖像的顯示區(qū)域m和顯示區(qū)域m外側(cè)的邊框區(qū)域n。另外,聚酰亞胺膜11具有比邊框區(qū)域n更靠外側(cè)的外部區(qū)域o。外部區(qū)域o具有:分別設(shè)置于顯示區(qū)域m的左右側(cè)的外部區(qū)域o1、o2;設(shè)置于顯示區(qū)域m上側(cè)的外部區(qū)域o31、o32;設(shè)置于顯示區(qū)域m下側(cè)的外部區(qū)域o4(狹小部)。如圖8所示,外部區(qū)域o4具有與邊框區(qū)域n接觸的第一邊b1、與第一邊b1交叉的第二邊b2、和與第一邊b1交叉且與第二邊b2對置的第三邊b3。

第三實施方式的聚酰亞胺膜11中形成切口d1,由此外部區(qū)域o1與外部區(qū)域o4成為分隔開的構(gòu)成。同樣地,通過形成切口d2,外部區(qū)域o2與外部區(qū)域o4成為分隔開的構(gòu)成。另外,通過形成切口d3,外部區(qū)域o31與外部區(qū)域o32成為分隔開的構(gòu)成。另外,在外部區(qū)域o1中設(shè)置接觸部c1,在外部區(qū)域o2中設(shè)置接觸部c2,在外部區(qū)域o31中設(shè)置接觸部c3,在外部區(qū)域o32中設(shè)置接觸部c4。另外,在外部區(qū)域o4中安裝有電連接于驅(qū)動器ic51、及柔性布線基板53等的端子52。需要說明的是,在圖8中,為便于說明,以實線表示端子52,但實際上在設(shè)置有柔性布線基板53的狀態(tài)下,端子52被柔性布線基板53覆蓋從而隱藏。

在第三實施方式涉及的顯示裝置中,與第一實施方式涉及的顯示裝置相比,由于能夠減小聚酰亞胺膜11的面積,因此除了能獲得第一實施方式中所說明的效果外,還進一步能夠?qū)崿F(xiàn)裝置的小型化、薄型化。

這里,在第三實施方式的聚酰亞胺膜11中,如圖8所示,將外部區(qū)域o31的寬度w1和切口d1的寬度w3設(shè)為相同寬度。同樣地,將外部區(qū)域o32的寬度w2和切口d2的寬度w4設(shè)為相同寬度。另外,將外部區(qū)域o4的寬度w5和切口d3的寬度w6設(shè)為相同寬度。然而,聚酰亞胺膜11不限于圖8所示形狀,例如也可以將w5設(shè)為比w3、w4更寬,或削減聚酰亞胺膜11的無用區(qū)域,從而實現(xiàn)裝置的薄型化。

需要說明的是,上述第一~第三實施方式的聚酰亞胺膜為與本發(fā)明的絕緣基板對應(yīng)的構(gòu)成、tft基板為與本發(fā)明的電路層對應(yīng)的構(gòu)成、有機el層為與有機層對應(yīng)的構(gòu)成、導電膠帶為與導電部件對應(yīng)的構(gòu)成。以上對當前被認為是本發(fā)明的一些實施方式進行了說明,但應(yīng)當理解,可對其進行各種變形,并且旨在由所附的權(quán)利要求書涵蓋落入本發(fā)明的要旨和范圍內(nèi)的所有上述變形。

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