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一種氧化釔陶瓷等離子溶射設(shè)備及溶射方法與流程

文檔序號(hào):12612948閱讀:來源:國(guó)知局
技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開一種氧化釔陶瓷等離子溶射設(shè)備及溶射方法,設(shè)備包括控制中心、送粉器、冷卻系統(tǒng)、等離子槍、氣體系統(tǒng)、電源和機(jī)械手,送粉器通過送粉管道連接至等離子槍內(nèi),氣體系統(tǒng)與等離子槍連接,冷卻系統(tǒng)圍繞在等離子槍周圍,電源分別與控制中心、送粉器、冷卻系統(tǒng)、等離子槍、氣體系統(tǒng)和機(jī)械手連接,等離子槍固定在機(jī)械手上。本發(fā)明等離子溶射加工,是以等離子體的能量作為熱源,把氧化釔陶瓷粉末狀固體物質(zhì)溶化,通過等離子流,將熔化后的材料加速,吹附在母體材料表面,形成皮膜。不僅可以恢復(fù)零件尺寸,而且還能提高耐磨性、耐熱性、耐腐蝕性,可以給母體材料增加原來沒有的各種優(yōu)良性能。

技術(shù)研發(fā)人員:張遠(yuǎn);熊志紅
受保護(hù)的技術(shù)使用者:深圳仕上電子科技有限公司
文檔號(hào)碼:201611247594
技術(shù)研發(fā)日:2016.12.29
技術(shù)公布日:2017.06.16

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