1.一種準分子激光器放電腔內(nèi)聲波和激波控制結(jié)構(gòu)，應用于準分子激光器放電腔中，其特征在于，該聲波和激波控制結(jié)構(gòu)由多個微結(jié)構(gòu)組成，所述微結(jié)構(gòu)是指成一定規(guī)律分布的交錯相間的凹陷結(jié)構(gòu)或凸起結(jié)構(gòu)。
2.如權(quán)利要求1所述的準分子激光器放電腔內(nèi)聲波和激波控制結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述微結(jié)構(gòu)由周期性排列的單元結(jié)構(gòu)組成。
3.如權(quán)利要求2所述的準分子激光器放電腔內(nèi)聲波和激波控制結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述單元結(jié)構(gòu)包括第一單元和第二單元，第一單元與第二單元在相互垂直的兩個方向上周期性、間隔排列，每個單元包括多條凹槽。
4.如權(quán)利要求3所述的準分子激光器放電腔內(nèi)聲波和激波控制結(jié)構(gòu)，其特征在于，第一單元的凹槽的延伸方向不同于第二凹槽的延伸方向。
5.如權(quán)利要求3所述的準分子激光器放電腔內(nèi)聲波和激波控制結(jié)構(gòu)，其特征在于，第一單元的凹槽的延伸方向垂直于第二凹槽的延伸方向。
6.如權(quán)利要求3至5中任一項所述的準分子激光器放電腔內(nèi)聲波和激波控制結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述凹槽為燕尾形凹槽。
7.如權(quán)利要求3至5中任一項所述的準分子激光器放電腔內(nèi)聲波和激波控制結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述凹槽的寬度、間隔、深度均在0.1mm至10mm之間。
8.如權(quán)利要求3至5中任一項所述的準分子激光器放電腔內(nèi)聲波和激波控制結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述凹槽由吸聲材料構(gòu)成。
9.一種準分子激光器放電腔，其特征在于，該放電腔的內(nèi)壁附有至少一部分權(quán)利要求1～3中任一項所述的準分子激光器放電腔內(nèi)聲波和激波控制結(jié)構(gòu)。