本實(shí)用新型型涉及基質(zhì)輔助激光解析（MALDI）離子源技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種用于解析離子源進(jìn)樣裝置的XY移動(dòng)平臺(tái)。

背景技術(shù)：

在基質(zhì)輔助激光解析離子源進(jìn)行的固態(tài)樣品解析過(guò)程中，樣品在常壓下形成固體，經(jīng)過(guò)進(jìn)樣系統(tǒng)，由常壓進(jìn)入真空系統(tǒng)，并需進(jìn)行精確定位，以實(shí)現(xiàn)樣品在一個(gè)微小的區(qū)域內(nèi)解析，在極短的時(shí)間間隔，激光對(duì)樣品提供高的能量，對(duì)它們進(jìn)行極快的加熱，這樣可以避免熱敏感的化合物加熱分解，基質(zhì)分子能有效地吸收激光的能量，并間接地傳給樣品分子，從而得到電離，也就實(shí)現(xiàn)了離子進(jìn)入質(zhì)量分析器，完成進(jìn)樣。

基質(zhì)輔助激光解析（MALDI）離子源進(jìn)樣裝置在真空中進(jìn)樣有著至關(guān)重要的作用，由于待測(cè)樣品（多為生物樣品）不能直接從常壓環(huán)境中立即轉(zhuǎn)變?yōu)楦哒婵窄h(huán)境，因此進(jìn)樣裝置需要保證樣品從常壓環(huán)境進(jìn)入到高真空環(huán)境的過(guò)程中逐漸適應(yīng)高真空環(huán)境，不會(huì)對(duì)樣品產(chǎn)生破壞以致影響解析結(jié)果，因此需要尋找一種能夠先進(jìn)行一種低真空過(guò)度，進(jìn)而進(jìn)入高真空的設(shè)備。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

有鑒于此，需要克服現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷中的至少一個(gè)，本實(shí)用新型提供了一種用于解析離子源進(jìn)樣裝置的XY移動(dòng)平臺(tái)，包括X移動(dòng)平臺(tái)和Y移動(dòng)平臺(tái)，所述X移動(dòng)平臺(tái)安裝在所述Y移動(dòng)平臺(tái)上，所述X移動(dòng)平臺(tái)包括基座，滑動(dòng)部件和軌道部件，所述滑動(dòng)部件滑動(dòng)安裝在所述軌道部件上，所述軌道部件安裝在所述基座上，所述X移動(dòng)平臺(tái)上包括第一擋塊和第二擋塊。

本實(shí)用新型用于一種解析離子源進(jìn)樣裝置，該裝置包括內(nèi)部具有腔室的中空部件，安裝在所述中空部件內(nèi)部的Y向平臺(tái)和安裝在所述Y向平臺(tái)上的X向平臺(tái)，放置在安裝在所述X向平臺(tái)上的靶槽平臺(tái)上的靶槽，安裝在實(shí)時(shí)中空部件內(nèi)部且與所述X向平臺(tái)正向相對(duì)的頂靶機(jī)構(gòu)和舉靶機(jī)構(gòu)，以及安裝在所述中空部件頂部的蓋板；所述蓋板上設(shè)置有檢測(cè)孔及所述樣品放置孔，所述樣品放置孔處設(shè)置有樣品蓋板；所述X向平臺(tái)具有固定安裝的第一擋塊和第二擋塊，所述頂靶機(jī)構(gòu)具有與所述第一擋塊動(dòng)態(tài)接觸的頂靶接觸部件，所述舉靶機(jī)構(gòu)具有與所述第二擋塊動(dòng)態(tài)接觸的舉靶接觸部件，所述舉靶接觸部件具有舉靶接觸前部和舉靶接觸后部，所述第二擋塊在進(jìn)靶過(guò)程中與所述舉靶接觸前部動(dòng)態(tài)接觸且在退靶過(guò)程中與所述舉靶接觸后部動(dòng)態(tài)接觸；所述舉靶機(jī)構(gòu)具有舉靶平臺(tái)，所述舉靶平臺(tái)在進(jìn)靶過(guò)程中向上托舉所述靶槽且在退靶過(guò)程中向下放下所述靶槽及將靶槽放置在所述X向平臺(tái)上的靶槽平臺(tái)上；所述頂靶機(jī)構(gòu)具有頂靶部件，所述頂靶部件在進(jìn)靶過(guò)程中向上頂起所述靶槽且在退靶過(guò)程中向下運(yùn)動(dòng)放松所述靶槽。

在操作過(guò)程中，在進(jìn)靶位時(shí)，X向平臺(tái)和Y向平臺(tái)推動(dòng)所述靶槽至預(yù)定位置過(guò)程中，所述第二擋塊與所述舉靶接觸部件的所述舉靶接觸前部接觸，推動(dòng)所述舉靶機(jī)構(gòu)中的所述舉靶平臺(tái)向上托起所述靶槽，當(dāng)X向平臺(tái)和Y向平臺(tái)繼續(xù)運(yùn)動(dòng)時(shí)，進(jìn)一步使得所述第一擋塊與所述頂靶接觸部件接觸，使得所述頂靶機(jī)構(gòu)的所述頂靶部件向上頂起所述靶槽，以使所述靶槽向上和所述蓋板緊密接觸，此時(shí)將樣品放入所述靶槽，關(guān)閉所述樣品蓋板，此時(shí)，所述靶槽與所述蓋板以及所述樣品蓋板形成已第一密封腔室，其具有相應(yīng)的抽真空通孔，如此，可以對(duì)此腔室進(jìn)行低真空處理，而整個(gè)腔室中也同步進(jìn)行高真空處理；待達(dá)到預(yù)定要求后，進(jìn)行退靶位時(shí)，X向平臺(tái)和Y向平臺(tái)向后運(yùn)動(dòng)，所述頂靶接觸部件具有回彈力，因此會(huì)頂住所述第一擋塊一同運(yùn)動(dòng)，所述頂靶部件下落，所述靶槽隨著下落至上述舉靶平臺(tái)上，所述第二擋塊隨之后退并與所述舉靶接觸前部脫離進(jìn)而帶動(dòng)所述舉靶接觸后部，使得所述舉靶平臺(tái)帶動(dòng)所述靶槽運(yùn)動(dòng)至所述X向平臺(tái)的所述靶槽平臺(tái)上，之后，X向平臺(tái)和Y向平臺(tái)運(yùn)動(dòng)至所述蓋板上的所述檢測(cè)孔位置，由此可以進(jìn)行解析處理。

根據(jù)本專利背景技術(shù)中對(duì)現(xiàn)有技術(shù)所述，由于在相應(yīng)解析過(guò)程中，樣品若快速進(jìn)入高真空環(huán)境下，必定會(huì)樣品本身造成一定的破壞，如此對(duì)檢測(cè)結(jié)果也必然存在很大誤差；而本實(shí)用新型公開(kāi)的用于解析離子源進(jìn)樣裝置的XY移動(dòng)平臺(tái)，通過(guò)XY移動(dòng)平臺(tái)的運(yùn)動(dòng)推動(dòng)舉靶頂靶機(jī)構(gòu)使得蓋板上的凹槽與靶槽平臺(tái)形成封閉腔室并由真空系統(tǒng)抽真空，以形成過(guò)渡真空腔室，可以有效地使得樣品進(jìn)行一個(gè)動(dòng)態(tài)的樣品對(duì)于真空度的適應(yīng)過(guò)程，操作更加靈活和便捷。

另外，根據(jù)本實(shí)用新型公開(kāi)的用于解析離子源進(jìn)樣裝置的XY移動(dòng)平臺(tái)還具有如下附加技術(shù)特征：

進(jìn)一步地，所述第一擋塊為一個(gè)，固定安裝在所述基座上。

更進(jìn)一步地，所述第一擋塊背離所述基座的一側(cè)為弧形面。

進(jìn)一步地，所述第二擋塊為兩塊且固定安裝在所述基座上并分布在所述第一擋塊的兩側(cè)。

更進(jìn)一步地，所述第二擋塊背離所述基座的一側(cè)為弧形面。

同時(shí)，所述頂靶接觸部件為一個(gè)且在進(jìn)靶過(guò)程和退靶過(guò)程中與所述第一擋塊動(dòng)態(tài)接觸，所述舉靶接觸部件為兩個(gè)且與所述第二擋塊一一對(duì)應(yīng)并動(dòng)態(tài)接觸。

此處的動(dòng)態(tài)接觸指的是非固定接觸，其可隨著相互之間的運(yùn)動(dòng)或處于不同的狀態(tài)位時(shí)，處于接觸或非接觸狀態(tài)。

同時(shí)，所述蓋板具有凹槽，所述凹槽與所述靶槽動(dòng)態(tài)接觸且與所述樣品蓋板形成密封腔室，所述凹槽中有聯(lián)通真空設(shè)備的凹槽真空聯(lián)通孔。

在所述凹槽中存在所述凹槽真空聯(lián)通孔，可以使得低真空處理更加方便。

同時(shí)，所述舉靶機(jī)構(gòu)還具有托塊，所述頂靶機(jī)構(gòu)安裝在所述托塊上。

同時(shí)，所述舉靶機(jī)構(gòu)具有定位桿，安裝在所述頂靶機(jī)構(gòu)的滑動(dòng)部件安裝在所述定位桿上且可上下運(yùn)動(dòng)。

同時(shí)，所述舉靶接觸部件具有軸承的可轉(zhuǎn)動(dòng)部件，所述舉靶接觸部件為滾柱結(jié)構(gòu)。

同時(shí)，所述頂靶部件具有軸承的可轉(zhuǎn)動(dòng)部件，所述頂靶接觸部件為滾柱結(jié)構(gòu)；滾動(dòng)運(yùn)動(dòng)可以更加使得整體運(yùn)動(dòng)順滑；所述滾柱結(jié)構(gòu)的外表面使用彈性體作為接觸部位，如此可以使得運(yùn)動(dòng)更加具有緩沖性。

進(jìn)一步地，所述滑動(dòng)部件上具有定位裝置。

更進(jìn)一步地，所述定位裝置位三個(gè)定位柱。

進(jìn)一步地，所述X向平臺(tái)或所述Y向平臺(tái)包括動(dòng)力源和絲杠結(jié)構(gòu)以及線性滑軌滑塊。

更進(jìn)一步地，所述Y移動(dòng)平臺(tái)包括兩個(gè)滑動(dòng)導(dǎo)軌和滑動(dòng)安裝在所述滑動(dòng)導(dǎo)軌上的滑動(dòng)塊，所述X移動(dòng)平臺(tái)安裝在所述滑動(dòng)塊上。

更進(jìn)一步地，所述動(dòng)力源為電機(jī)。

同時(shí)，所述進(jìn)樣裝置還包括真空系統(tǒng)，所述凹槽中有聯(lián)通真空設(shè)備的凹槽真空聯(lián)通孔，所述真空系統(tǒng)包括分子泵和機(jī)械泵，所述分子泵與所述腔室相聯(lián)，所述機(jī)械泵與所述分子泵相聯(lián)且與所述凹槽真空聯(lián)通孔相聯(lián)。

同時(shí)，所述舉靶機(jī)構(gòu)中的所述舉靶平臺(tái)與舉靶第一連桿上端轉(zhuǎn)動(dòng)相聯(lián)，所述舉靶第一連桿下端與所述托塊轉(zhuǎn)動(dòng)鏈接，且通過(guò)舉靶第二連桿與所述舉靶接觸部件位于所述舉靶接觸前部和所述舉靶接觸后部與所述舉靶接觸部件和位于所述舉靶機(jī)構(gòu)下部的托塊的轉(zhuǎn)動(dòng)鏈接處之間且形成四連桿結(jié)構(gòu)。

同時(shí)，所述頂靶機(jī)構(gòu)還包括底座，所述底座和所述舉靶機(jī)構(gòu)固定聯(lián)接；頂靶第一連桿，所述頂靶第一連桿下端與所述底座相聯(lián)；頂靶滑動(dòng)部件，所述頂靶滑動(dòng)部件與安裝在所述頂靶機(jī)構(gòu)上的定位桿且可上下移動(dòng)；頂靶第二連桿，所述頂靶第二連桿頂端與所述頂靶滑動(dòng)部件頂端鏈接，底端安裝所述頂靶接觸部件，中部與所述頂靶第一連桿中部鏈接；頂靶第三連桿，頂靶第四連桿，所述頂靶第三連桿的兩端分別與所述頂靶第一連桿的頂端和所述頂靶第四連桿的一端鏈接；所述頂靶第四連桿一端與所述頂靶滑動(dòng)部件的頂端及所述頂靶第二連桿的頂端共同鏈接。

本實(shí)用新型附加的方面和優(yōu)點(diǎn)將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過(guò)本實(shí)用新型的實(shí)踐了解到。

附圖說(shuō)明

本實(shí)用新型的上述和/或附加的方面和優(yōu)點(diǎn)從下面結(jié)合附圖對(duì)實(shí)施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：

圖1用于解析離子源進(jìn)樣裝置的XY移動(dòng)平臺(tái)整體示意圖；

圖2用于解析離子源進(jìn)樣裝置的XY移動(dòng)平臺(tái)（隱藏蓋板）整體示意圖；

圖3用于解析離子源進(jìn)樣裝置的XY移動(dòng)平臺(tái)（無(wú)中空部件且為頂靶機(jī)構(gòu)和舉靶機(jī)構(gòu)頂起和舉起靶槽平臺(tái)狀態(tài)時(shí)）整體示意圖；

圖4頂靶機(jī)構(gòu)與舉靶機(jī)構(gòu)一體示意圖；

圖5 X向平臺(tái)示意圖；

圖6 Y向平臺(tái)示意圖；

圖7頂靶機(jī)構(gòu)示意圖；

圖8 舉靶機(jī)構(gòu)示意圖；

圖9蓋板示意圖；

圖中，100中空部件，200 X向平臺(tái)，201靶槽平臺(tái)，202第一擋塊 203第二擋塊，204 定位裝置，205基座，206滑動(dòng)部件，207軌道部件，300 Y向平臺(tái),400舉靶機(jī)構(gòu)，401舉靶平臺(tái)， 402舉靶接觸部件，4021舉靶接觸前部 ，4022舉靶接觸后部， 403定位桿，404托塊， 405 舉靶第一連桿， 406 舉靶第二連桿，500頂靶機(jī)構(gòu)，501頂靶部件，502頂靶接觸部件，503頂靶滑動(dòng)部件， 504底座， 505頂靶第一連桿， 506頂靶第二連桿， 507頂靶第三連桿， 508頂靶第四連桿，600蓋板，601檢測(cè)孔，602樣品蓋板，603樣品放置孔，604 凹槽 ，605凹槽真空聯(lián)通孔。

具體實(shí)施方式

下面詳細(xì)描述本實(shí)用新型的實(shí)施例，所述實(shí)施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標(biāo)號(hào)表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過(guò)參考附圖描述的實(shí)施例是示例性的，僅用于解釋本實(shí)用新型，而不能解釋為對(duì)本實(shí)用新型的限制。

在本實(shí)用新型的描述中，需要理解的是，術(shù)語(yǔ) “上”、“下”、“底”、“頂”、“前”、“后”、“內(nèi)”、“外”、“橫”、“豎”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本實(shí)用新型和簡(jiǎn)化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。

在本實(shí)用新型的描述中，需要說(shuō)明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語(yǔ)“聯(lián)接”、“連通”、“相連”、“連接”、“配合”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，一體地連接，也可以是可拆卸連接；可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通；可以是直接相連，也可以通過(guò)中間媒介間接相連；“配合”可以是面與面的配合，也可以是點(diǎn)與面或線與面的配合，也包括孔軸的配合，對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語(yǔ)在本實(shí)用新型中的具體含義。

本實(shí)用新型的實(shí)用新型構(gòu)思如下，如圖1-9所示，通過(guò)XY移動(dòng)平臺(tái)（200,300）的運(yùn)動(dòng)推動(dòng)舉靶機(jī)構(gòu)400和頂靶機(jī)構(gòu)500運(yùn)動(dòng)使得具有凹槽604的蓋板600和靶槽平臺(tái)201以及靶槽形成一個(gè)動(dòng)態(tài)過(guò)渡低真空腔室，可以有效地使得樣品進(jìn)行一個(gè)動(dòng)態(tài)的樣品對(duì)于真空度的適應(yīng)過(guò)程，操作更加靈活和便捷。

根據(jù)本實(shí)用新型的實(shí)施例，如圖1-9所示，一種用于解析離子源進(jìn)樣裝置的XY移動(dòng)平臺(tái)，包括X移動(dòng)平臺(tái)200和Y移動(dòng)平臺(tái)300，所述X移動(dòng)平臺(tái)200安裝在所述Y移動(dòng)平臺(tái)300上，所述X移動(dòng)平臺(tái)200包括基座205，滑動(dòng)部件206和軌道部件207，所述滑動(dòng)部件206滑動(dòng)安裝在所述軌道部件207上，所述軌道部件207安裝在所述基座205上，所述X移動(dòng)平臺(tái)200上包括第一擋塊202和第二擋塊203。

本實(shí)用新型用于一種解析離子源進(jìn)樣裝置，該裝置包括內(nèi)部具有腔室的中空部件100，安裝在所述中空部件100內(nèi)部的Y向平臺(tái)300和安裝在所述Y向平臺(tái)300上的X向平臺(tái)200，放置在安裝在所述X向平臺(tái)200上的靶槽平臺(tái)201上的靶槽，安裝在所述中空部件100內(nèi)部且與所述X向平臺(tái)200正向相對(duì)的頂靶機(jī)構(gòu)500和舉靶機(jī)構(gòu)400，以及安裝在所述中空部件100頂部的蓋板600；所述蓋板600上設(shè)置有檢測(cè)孔601及所述樣品放置孔603，所述樣品放置孔603處設(shè)置有樣品蓋板602；所述X向平臺(tái)200具有固定安裝的第一擋塊202和第二擋塊203，所述頂靶機(jī)構(gòu)500具有與所述第一擋塊202動(dòng)態(tài)接觸的頂靶接觸部件502，所述舉靶機(jī)構(gòu)400具有與所述第二擋塊203動(dòng)態(tài)接觸的舉靶接觸部件402，所述舉靶接觸部件402具有舉靶接觸前部4021和舉靶接觸后部4022，所述第二擋塊203在進(jìn)靶過(guò)程中與所述舉靶接觸前部4021動(dòng)態(tài)接觸且在退靶過(guò)程中與所述舉靶接觸后部4022動(dòng)態(tài)接觸；所述舉靶機(jī)構(gòu)400具有舉靶平臺(tái)401，所述舉靶平臺(tái)401在進(jìn)靶過(guò)程中向上托舉所述靶槽平臺(tái)201且在退靶過(guò)程中向下放下所述靶槽平臺(tái)201及將靶槽放置在所述X向平臺(tái)200上的靶槽平臺(tái)201上；所述頂靶機(jī)構(gòu)500具有頂靶部件501，所述頂靶部件501在進(jìn)靶過(guò)程中向上頂起所述靶槽平臺(tái)201且在退靶過(guò)程中向下運(yùn)動(dòng)放松所述靶槽平臺(tái)201。

在操作過(guò)程中，在進(jìn)靶位時(shí)，X向平臺(tái)200和Y向平臺(tái)300推動(dòng)所述靶槽平臺(tái)401至預(yù)定位置過(guò)程中，所述第二擋塊203與所述舉靶接觸部件402的所述舉靶接觸前部4021接觸，推動(dòng)所述舉靶機(jī)構(gòu)400中的所述舉靶平臺(tái)401向上托起所述靶槽平臺(tái)401，當(dāng)X向平臺(tái)200和Y向平臺(tái)300繼續(xù)運(yùn)動(dòng)時(shí)，進(jìn)一步使得所述第一擋塊202與所述頂靶接觸部件501接觸，使得所述頂靶機(jī)構(gòu)500的所述頂靶部件501向上頂起所述靶槽平臺(tái)201，以使所述靶槽平臺(tái)201向上和所述蓋板600緊密接觸，此時(shí)將樣品放入所述靶槽平臺(tái)201中的靶槽中，關(guān)閉所述樣品蓋板602，此時(shí)，所述靶槽平臺(tái)201與所述蓋板600以及所述樣品蓋板602形成第一密封腔室，其具有相應(yīng)的抽真空通孔605，如此，可以對(duì)此腔室進(jìn)行低真空處理，而整個(gè)腔室中也同步進(jìn)行高真空處理，如圖1-3所示；待達(dá)到預(yù)定要求后，進(jìn)行退靶位時(shí)，X向平臺(tái)200和Y向平臺(tái)300向后運(yùn)動(dòng)，所述頂靶接觸部件502具有回彈力，因此會(huì)頂住所述第一擋塊202一同運(yùn)動(dòng)，所述頂靶部件501下落，所述靶槽平臺(tái)201隨著下落至所述舉靶平臺(tái)401上，所述第二擋塊203隨之后退并與所述舉靶接觸前部4021脫離進(jìn)而帶動(dòng)所述舉靶接觸后部4022，使得所述舉靶平臺(tái)401帶動(dòng)所述靶槽平臺(tái)201運(yùn)動(dòng)至所述X向平臺(tái)200的所述靶槽平臺(tái)上201，之后，X向平臺(tái)200和Y向平臺(tái)300運(yùn)動(dòng)至所述蓋板600上的所述檢測(cè)孔601位置，由此可以進(jìn)行解析處理。

另外，根據(jù)本實(shí)用新型公開(kāi)的用于解析離子源進(jìn)樣裝置的XY移動(dòng)平臺(tái)還具有如下附加技術(shù)特征：

根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述第一擋塊202為一個(gè)，固定安裝在所述基座505上，如圖5所示。

根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述第一擋塊202背離所述基座205的一側(cè)為弧形面，如圖5所示。

根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述第二擋塊203為兩塊且固定安裝在所述基座205上并分布在所述第一擋塊202的兩側(cè)，如圖5所示。

根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例，所述第二擋塊203背離所述基座205的一側(cè)為弧形面。

同時(shí)，所述頂靶接觸部件502為一個(gè)且在進(jìn)靶過(guò)程和退靶過(guò)程中與所述第一擋塊202動(dòng)態(tài)接觸，所述舉靶接觸部件402為兩個(gè)且與所述第二擋塊203一一對(duì)應(yīng)并動(dòng)態(tài)接觸，如圖4、5、7、8所示。

此處的動(dòng)態(tài)接觸指的是非固定接觸，其可隨著相互之間的運(yùn)動(dòng)或處于不同的狀態(tài)位時(shí)，處于接觸或非接觸狀態(tài)。

同時(shí)，所述蓋板600具有凹槽604，所述凹槽604與所述靶槽平臺(tái)201動(dòng)態(tài)接觸且與所述樣品蓋板602形成密封腔室，所述凹槽604中有聯(lián)通真空設(shè)備的凹槽真空聯(lián)通孔605，如圖9所示。

在所述凹槽604中存在所述凹槽真空聯(lián)通孔605，可以使得低真空處理更加方便。

同時(shí)，所述舉靶機(jī)構(gòu)400還具有托塊404，所述頂靶機(jī)構(gòu)500安裝在所述托塊404上，如圖4、7、8所示。

同時(shí)，所述舉靶機(jī)構(gòu)400具有定位桿403，安裝在所述頂靶機(jī)構(gòu)500的頂靶滑動(dòng)部件503安裝在所述定位桿403上且可上下運(yùn)動(dòng)，如圖4、8所示。

同時(shí)，所述舉靶接觸部件402具有軸承的可轉(zhuǎn)動(dòng)部件，所述舉靶接觸部件402為滾柱結(jié)構(gòu)，如圖8所示。

同時(shí)，所述頂靶部件500具有軸承的可轉(zhuǎn)動(dòng)部件，所述頂靶接觸部件502為滾柱結(jié)構(gòu)，如圖7所示；滾動(dòng)運(yùn)動(dòng)可以更加使得整體運(yùn)動(dòng)順滑；優(yōu)選地，所述滾柱結(jié)構(gòu)的外表面使用彈性體作為接觸部位，如此可以使得運(yùn)動(dòng)更加具有緩沖性。

同時(shí)，所述滑動(dòng)部件206上具有定位裝置204，所述定位裝置204為三個(gè)定位柱，如圖5所示。

進(jìn)一步地，所述X向平臺(tái)200或所述Y向平臺(tái)300包括動(dòng)力源和絲杠結(jié)構(gòu)以及線性滑軌滑塊。

更進(jìn)一步地，所述Y移動(dòng)平臺(tái)300包括兩個(gè)滑動(dòng)導(dǎo)軌和滑動(dòng)安裝在所述滑動(dòng)導(dǎo)軌上的滑動(dòng)塊，所述X移動(dòng)平臺(tái)200安裝在所述滑動(dòng)塊上。

更進(jìn)一步地，所述動(dòng)力源為電機(jī)。

同時(shí)，所述進(jìn)樣裝置還包括真空系統(tǒng)，所述凹槽604中有聯(lián)通真空設(shè)備的凹槽真空聯(lián)通孔605，所述真空系統(tǒng)包括分子泵和機(jī)械泵，所述分子泵與所述腔室相聯(lián)，所述機(jī)械泵與所述分子泵相聯(lián)且與所述凹槽真空聯(lián)通孔605相聯(lián)。

同時(shí)，所述舉靶機(jī)構(gòu)400中的所述舉靶平臺(tái)401與舉靶第一連桿405上端轉(zhuǎn)動(dòng)相聯(lián)，所述舉靶第一連桿405下端與所述托塊404轉(zhuǎn)動(dòng)鏈接，且通過(guò)舉靶第二連桿406與所述舉靶接觸部件402位于所述舉靶接觸前部4021和所述舉靶接觸后部4022與所述舉靶接觸部件402和位于所述舉靶機(jī)構(gòu)400下部的托塊404的轉(zhuǎn)動(dòng)鏈接處之間且形成四連桿結(jié)構(gòu)，如圖8所示。

同時(shí)，所述頂靶機(jī)構(gòu)500還包括底座504，所述底座504和所述舉靶機(jī)構(gòu)500固定聯(lián)接；頂靶第一連桿506，所述頂靶第一連桿506下端與所述底座504相聯(lián)；頂靶滑動(dòng)部件503，所述頂靶滑動(dòng)部件503與安裝在所述頂靶機(jī)構(gòu)500上的定位桿403且可上下移動(dòng)；頂靶第二連桿506，所述頂靶第二連桿506頂端與所述頂靶滑動(dòng)部件503頂端鏈接，底端安裝所述頂靶接觸部件502，中部與所述頂靶第一連桿505中部鏈接；頂靶第三連桿507，頂靶第四連桿508，所述頂靶第三連桿507的兩端分別與所述頂靶第一連桿505的頂端和所述頂靶第四連桿508的一端鏈接；所述頂靶第四連桿508一端與所述頂靶滑動(dòng)部件503的頂端及所述頂靶第二連桿502的頂端共同鏈接。

任何提及“一個(gè)實(shí)施例”、“實(shí)施例”、“示意性實(shí)施例”等意指結(jié)合該實(shí)施例描述的具體構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)包含于本實(shí)用新型的至少一個(gè)實(shí)施例中。在本說(shuō)明書(shū)各處的該示意性表述不一定指的是相同的實(shí)施例。而且，當(dāng)結(jié)合任何實(shí)施例描述具體構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)時(shí)，所主張的是，結(jié)合其他的實(shí)施例實(shí)現(xiàn)這樣的構(gòu)件、結(jié)構(gòu)或者特點(diǎn)均落在本領(lǐng)域技術(shù)人員的范圍之內(nèi)。

盡管參照本實(shí)用新型的多個(gè)示意性實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式進(jìn)行了詳細(xì)的描述，但是必須理解，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以設(shè)計(jì)出多種其他的改進(jìn)和實(shí)施例，這些改進(jìn)和實(shí)施例將落在本實(shí)用新型原理的精神和范圍之內(nèi)。具體而言，在前述公開(kāi)、附圖以及權(quán)利要求的范圍之內(nèi)，可以在零部件和/或者從屬組合布局的布置方面作出合理的變型和改進(jìn)，而不會(huì)脫離本實(shí)用新型的精神。除了零部件和/或布局方面的變型和改進(jìn)，其范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。