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真空滅弧室的屏蔽筒的固定結(jié)構(gòu)及真空滅弧室的制作方法

文檔序號:11990043閱讀:408來源:國知局

本實(shí)用新型涉及電真空器件,具體涉及真空滅弧室的屏蔽筒的固定結(jié)構(gòu)及真空滅弧室。



背景技術(shù):

真空滅弧室中所用屏蔽筒,影響其管內(nèi)電場分布、絕緣水平等關(guān)鍵技術(shù)參數(shù)?,F(xiàn)有的屏蔽筒固定方式,由于其與瓷殼配合存在問題,不能保證兩者的同軸度要求,已經(jīng)不能滿足其均壓電場,提升產(chǎn)品絕緣能力的設(shè)計(jì)要求,甚至出現(xiàn)屏蔽筒偏移導(dǎo)致瓷殼擊穿,產(chǎn)品報(bào)廢的現(xiàn)象。

目前、真空滅弧室所用的屏蔽筒,由于其與瓷殼固定方式不合理,造成屏蔽筒與瓷殼的同軸度偏差過大,影響真空滅弧室內(nèi)部電場的均勻分布,進(jìn)一步影響產(chǎn)品的絕緣水平,存在質(zhì)量隱患。

為此,期望尋求一種技術(shù)方案,以至少減輕上述問題。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

一方面,本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是,提供一種真空滅弧室的屏蔽筒的固定結(jié)構(gòu),其能保證真空滅弧室的屏蔽筒與該真空滅弧室的瓷殼之間的同軸度。

另一方面,本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題是,提供一種真空滅弧室,該真空滅弧室的屏蔽筒與該真空滅弧室的瓷殼之間的同軸度滿足內(nèi)部均壓電場、提升耐壓水平的要求。

為解決一方面的技術(shù)問題,本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案。

一種真空滅弧室的屏蔽筒的固定結(jié)構(gòu),所述真空滅弧室包括瓷殼;該固定結(jié)構(gòu)包括:

設(shè)置于所述屏蔽筒外壁面的呈圓臺狀的與該屏蔽筒同心的對中定位臺;以及

設(shè)置于所述瓷殼內(nèi)壁面的與該瓷殼同心的與所述對中定位臺適配的對中定位口;

其中,所述對中定位臺與所述對中定位口同心。

還包括固定于所述瓷殼與所述屏蔽筒之間的中間封接環(huán)。

所述中間封接環(huán)呈L型,其一邊與所述屏蔽筒的外壁面固定,其另一邊與所述對中定位口的沿所述瓷殼徑向延伸的面固定。

所述對中定位臺由所述屏蔽筒的側(cè)壁縮徑形成。

所述對中定位臺與所述對中定位口的同軸度<φ0.5mm。

為解決另一方面的技術(shù)問題,本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案。

一種真空滅弧室,包括上述結(jié)構(gòu)的真空滅弧室的屏蔽筒的固定結(jié)構(gòu)。

本實(shí)用新型具有下述有益技術(shù)效果。

本實(shí)用新型的瓷殼的對中定位口與屏蔽筒的對中定位臺采用面接觸,能保證屏蔽筒與瓷殼配合的同軸度,以滿足設(shè)計(jì)要求(同軸度<φ0.5mm),進(jìn)而均壓電場,提升產(chǎn)品絕緣水平。并且采用中間封接環(huán)把屏蔽筒與瓷殼固定封接在一起的方法,能提高屏蔽筒與瓷殼配合的同軸度的穩(wěn)定性。

附圖說明

圖1示意性示出本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)圖。

具體實(shí)施方式

為能詳細(xì)說明本實(shí)用新型的技術(shù)特征及功效,并可依照本說明書的內(nèi)容來實(shí)現(xiàn),下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的實(shí)施方式進(jìn)一步說明。

圖1示例性示出本實(shí)用新型眾多實(shí)施例中的一種真空滅弧室的屏蔽筒的固定結(jié)構(gòu)的實(shí)施例。該真空滅弧室的屏蔽筒的固定結(jié)構(gòu),真空滅弧室包括瓷殼1。該固定結(jié)構(gòu)包括對中定位口11及對中定位臺21。

對中定位臺21設(shè)置于屏蔽筒2外壁面,其呈圓臺狀,其與屏蔽筒2同心。本實(shí)施例中,對中定位臺21由屏蔽筒2的側(cè)壁縮徑形成。

對中定位口11設(shè)置于瓷殼1內(nèi)壁面,其與瓷殼1同心,并且其與對中定位臺21適配。

當(dāng)屏蔽筒2封接于瓷殼1內(nèi)時,對中定位臺21與對中定位口11同心,從而保證屏蔽筒2與瓷殼1的同軸要求。

在一些實(shí)施例中,還包括固定于瓷殼1與屏蔽筒2之間的中間封接環(huán)3,以提高屏蔽筒與瓷殼配合的同軸度的穩(wěn)定性。

在一些實(shí)施例中,中間封接環(huán)3呈L型,其一邊與屏蔽筒2的外壁面固定,其另一邊與對中定位口11的沿瓷殼1徑向延伸的面固定。例如,本實(shí)施例采用焊接固定,從而形成焊接層4、5。

為滿足產(chǎn)品實(shí)際要求,對中定位臺21與對中定位口11的同軸度<φ0.5mm較佳。

本實(shí)用新型還描述一種真空滅弧室,包括上述結(jié)構(gòu)的真空滅弧室的屏蔽筒的固定結(jié)構(gòu)。

需要說明的是,上述具體實(shí)施方式中所描述的各個具體技術(shù)特征,在不矛盾的情況下,可以通過任何適合的方式進(jìn)行組合。為了避免不必要的重復(fù),本實(shí)用新型對各種可能的組合方式不再進(jìn)行描述。

上面參照實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)描述,是說明性的而不是限制性的,在不脫離本實(shí)用新型總體構(gòu)思下的變化和修改,均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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