1.一種真空滅弧室，包括滅弧室本體，其特征在于，所述滅弧室本體包括靜端蓋板、動端蓋板和屏蔽筒，所述靜端蓋板和動端蓋板之間靠屏蔽筒連接固定，所述靜端蓋板上設(shè)有靜導(dǎo)電桿，所述靜導(dǎo)電桿與靜端蓋板螺紋連接固定，所述動端蓋板上設(shè)有動導(dǎo)電桿，所述動導(dǎo)電桿與動端蓋板滑動連接，所述的滅弧室本體內(nèi)動端蓋板端設(shè)有用于固定動導(dǎo)電桿的導(dǎo)向管，動導(dǎo)電桿周向設(shè)有波紋管，波紋管一端與導(dǎo)向管抵接，另一端設(shè)有屏蔽罩，所述屏蔽罩包裹波紋管，并且底端與波紋管的另一端抵接，所述滅弧室本體中設(shè)置有滅弧室，滅弧室內(nèi)設(shè)有冷卻槽，冷卻槽內(nèi)裝有冷卻液，冷卻槽的上下兩端分別通過固定件固定在滅弧室中。
2.如權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室，其特征在于，所述的屏蔽筒外部設(shè)有絕緣外殼。
3.如權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室，其特征在于，所述的滅弧室本體內(nèi)還設(shè)有吸氣劑。
4.如權(quán)利要求2所述的一種真空滅弧室，其特征在于，所述的靜導(dǎo)電桿上設(shè)有靜觸頭，動導(dǎo)電桿上設(shè)有動觸頭，所述靜導(dǎo)電桿與動導(dǎo)電桿之間設(shè)有接觸態(tài)和斷開態(tài)。
5.如權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室，其特征在于，所述冷卻槽分別分布在滅弧室的兩側(cè)位置上。
6.如權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室，其特征在于，所述固定件包括橫板和豎板，橫板和豎板垂直連接固定。
7.如權(quán)利要求4所述的一種真空滅弧室，其特征在于，所述靜觸頭外側(cè)設(shè)置靜均壓罩；所述絕緣外殼之間通過中間封接機(jī)構(gòu)連接。
8.如權(quán)利要求1-7任意一權(quán)利要求所述的一種真空滅弧室，其特征在于，所述波紋管的波的波面為彎曲的弧形面。
9.如權(quán)利要求1所述的一種真空滅弧室，其特征在于，在靜導(dǎo)電桿外端密封連接有排氣管，所述排氣管由兩個管子組成，內(nèi)管嵌套于外管，且內(nèi)管直徑稍小于外管。
10.如權(quán)利要求4所述的一種真空滅弧室，其特征在于，所述靜觸頭與動觸頭均為杯狀縱磁結(jié)構(gòu)；所述波紋管為鎳鈦合金材質(zhì)。