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OLED顯示基板及OLED顯示面板的制作方法

文檔序號:11762514閱讀:221來源:國知局
OLED顯示基板及OLED顯示面板的制作方法與工藝

本公開一般涉及顯示領域,并且更特別地涉及一種有機發(fā)光二極管(OLED)顯示基板、包括這樣的OLED顯示基板的OLED顯示面板,以及這樣的OLED顯示基板的制作方法。



背景技術:

有機發(fā)光二極管(OLED)顯示技術是一種利用有機功能材料在電流的驅動下產生的可逆變色來實現(xiàn)顯示的技術。OLED顯示器具有超輕、超薄、高亮度、大視角、低電壓、低功耗、快響應、高清晰度、抗震、可彎曲、低成本、工藝簡單、使用原材料少、發(fā)光效率高和溫度范圍寬等優(yōu)點,被認為是最有發(fā)展前景的新一代顯示技術。



技術實現(xiàn)要素:

本公開的一個目的是提供一種改進的OLED顯示基板、包括這樣的OLED顯示基板的OLED顯示面板,以及這樣的OLED陣列基板的制作方法。

根據本公開的一個方面,提供了一種OLED顯示基板。OLED顯示基板包括襯底、設置在襯底上方的多條柵線和數(shù)據線,柵線和數(shù)據線交叉以限定多個像素。每一個像素包括設置在襯底上的柵極層、柵極絕緣層、有源層、源漏電極層和第一電極層、有機功能材料層、第二電極層,其中源漏電極層與第一電極層同層。

在上述OLED顯示基板中,通過使源漏電極層與第一電極層同層,可以避免使用過孔將第一電極層與源漏電極層電氣連接,從而避免由于過孔斷裂等現(xiàn)象導致的顯示基板功能故障,以及因第一電極層與源漏電極層通過過孔的間接接觸而帶來的接觸阻抗的問題。進一步地,通過同層形成源漏電極層和第一電極層,可以減少圖案化工藝步驟,簡化工藝流程,從而降低生產成本并且提高生產效率。另外,整個OLED顯示基板的厚度可以減小,從而實現(xiàn)OLED顯示基板的輕薄化。

在一些實施例中,每一個像素還包括設置在第二電極層與源漏電極層之間的鈍化層。鈍化層包括有機功能材料容納槽,其中有機功能材料容納槽在襯底上的投影與第一電極層在襯底上的投影至少部分重疊。有機功能材料層設置在有機功能材料容納槽中。

在這樣的OLED顯示基板中,通過將有機功能材料層設置在鈍化層中,可以消除對像素定義層的需要,從而進一步減小整個OLED顯示基板的厚度,實現(xiàn)OLED顯示基板的輕薄化。

在一些實施例中,襯底為第一柔性襯底。這樣的OLED顯示基板可以用于實現(xiàn)柔性顯示面板。由于根據本公開實施例的OLED顯示基板相比于現(xiàn)有技術OLED顯示基板可以制作得更輕薄,因此所得到的OLED顯示面板可以實現(xiàn)更大的柔性。

在一些實施例中,OLED顯示基板還包括設置在第一柔性襯底與柵極層之間的緩沖層。該緩沖層的存在可以防止水分和氧氣滲透到柵極層中,進而影響OLED顯示基板的性能。

在一些實施例中,第一電極層包括反射電極層。反射電極層的存在可以防止有機功能材料層所發(fā)射的光從除顯示基板的意圖出光方向之外的方向出射,從而提高光利用率,改進OLED顯示基板的亮度和性能。

在一些實施例中,第二電極層為透明電極層。透明電極層允許光通過其而在OLED顯示基板的意圖出光方向上出射,從而實現(xiàn)顯示。

在一些實施例中,源漏電極層包括Mo/Al/LiF層。鋁(Al)由于其良好的導電性和低廉的價格而通常被用于制作OLED顯示基板的數(shù)據線和第一電極層。然而,由于Al層往往不能良好地附著在有源層上,因此采用鉬(Mo)層來改善Al層與有源層之間的附著。另外,氟化鋰(LiF)層能夠降低Al層與有機功能材料層之間的勢壘,提高載流子的注入效率,降低激子焠滅的概率,從而提高OLED顯示基板的穩(wěn)定性和可靠性。

在示例性實施例中,Mo層的厚度范圍為200-600埃,并且Al層的厚度范圍為2000~3000埃。然而,本領域技術人員根據本公開的教導,可以設計出具有不同厚度和組成的源漏電極層,而不限于本公開中所公開的實施例。

在一些實施例中,鈍化層包括SiNx和SiO。

在一些實施例中,鈍化層的厚度范圍為1500~2500埃。

根據本公開的另一方面,提供了一種OLED顯示面板,其包括上述任一種OLED顯示基板。

在這樣的OLED顯示面板中,通過使OLED顯示基板的源漏電極層與第一電極層同層,可以避免使用過孔將第一電極層與源漏電極層電氣連接,從而避免由于過孔斷裂等現(xiàn)象導致的顯示面板功能故障,以及因第一電極層與源漏電極層通過過孔的間接接觸而帶來的接觸阻抗的問題。進一步地,通過同層形成源漏電極層和第一電極層,可以減少圖案化工藝步驟,簡化工藝流程,從而降低生產成本并且提高生產效率。另外,整個OLED顯示面板的厚度可以減小,從而實現(xiàn)OLED顯示面板的輕薄化。

在一些實施例中,OLED顯示面板還包括設置在第二電極層上的封裝層。封裝層用于保護OLED顯示面板以防外界損害。

在一些實施例中,OLED顯示面板還包括設置在封裝層上的第二柔性襯底。該第二柔性襯底與OLED顯示基板的第一柔性襯底配合,因而得到柔性OLED顯示面板。由于根據本公開實施例的OLED顯示面板相比于現(xiàn)有技術可以制作得更輕薄,因此其能夠實現(xiàn)更大的柔性。

根據本公開的又一方面,提供了一種OLED顯示基板的制作方法。該方法包括:在襯底上形成柵極層、柵極絕緣層和有源層;在有源層上同層形成源漏電極層和第一電極層;在源漏電極層和第一電極層上形成鈍化層;在鈍化層上形成有機功能材料層;以及在有機功能材料層上形成第二電極層。

在通過上述方法制作的OLED顯示基板中,通過同層形成源漏電極層與第一電極層,可以省略制作過孔以用于將第一電極層與源漏電極層電氣連接的步驟,從而避免由于過孔斷裂等現(xiàn)象導致的顯示基板功能故障,以及因第一電極層與源漏電極層通過過孔的間接接觸而帶來的接觸阻抗的問題。進一步地,通過同層形成源漏電極層和第一電極層,可以減少圖案化工藝步驟,簡化工藝流程,從而降低生產成本并且提高生產效率。另外,整個OLED顯示基板的厚度可以減小,從而實現(xiàn)OLED顯示基板的輕薄化。

在一些實施例中,上述方法還包括在形成有機功能材料層之前在鈍化層中形成有機功能材料容納槽。有機功能材料容納槽在襯底上的投影與第一電極層在襯底上的投影至少部分重疊,并且有機功能材料層形成在有機功能材料容納槽中。

在這樣的方法中,通過在鈍化層中形成有機功能材料層,可以省略形成像素定義層的步驟,從而簡化工藝流程、降低生產成本,而同時進一步減小整個OLED顯示基板的厚度,實現(xiàn)OLED顯示基板的輕薄化。

在一些實施例中,上述方法還包括在形成柵極層之前在襯底上依次形成第一柔性襯底和緩沖層,以及在形成第二電極層之后移除襯底。

在OLED顯示基板的制造過程中,通常采用藍寶石、玻璃等剛性材料作為襯底以支撐其它層。為了得到柔性顯示基板,需要在其它層制作完成之后移除剛性襯底。該緩沖層的存在可以防止水分和氧氣滲透到柵極層中,進而影響OLED顯示基板的性能。

應當指出的是,本公開的所有方面具有類似或相同的示例實現(xiàn)和益處,在此不再贅述。

本公開的這些和其它方面將從以下描述的實施例顯而易見并且將參照以下描述的實施例加以闡述。

附圖說明

圖1示意性地圖示了根據現(xiàn)有技術的OLED顯示基板的截面圖。

圖2示意性地圖示了根據本公開的實施例的OLED顯示基板的截面圖。

圖3示意性地圖示了根據本公開的實施例的OLED顯示面板的截面圖。

圖4示意性地圖示了根據本公開的實施例的OLED顯示基板的制作方法的流程圖。

具體實施方式

以下將結合附圖詳細描述本公開的示例性實施例。附圖是示意性的,并未按比例繪制,且只是為了說明本公開的實施例而并不意圖限制本公開的保護范圍。在附圖中,相同的附圖標記表示相同或相似的部分。為了使本公開的技術方案更加清楚,本領域熟知的工藝步驟及器件結構在此省略。

以下,參照附圖通過舉例的方式來說明根據本公開實施例的OLED顯示基板、OLED顯示面板以及OLED顯示基板的制造方法的具體實現(xiàn)方式。附圖是示意性的,并未按比例繪制,且只是為了說明本公開的實施例而并不意圖限制本公開的保護范圍。

為便于描述,此處可以使用諸如“在…之下”、“在...下面”、“下”、“在…之上”、“上”等等空間相對性術語以描述如圖所示的一個元件或部件與另一個元件或部件之間的關系。應當理解,空間相對性術語是用來概括除附圖所示取向之外的使用或操作中的器件的不同取向的。例如,如果附圖中的器件翻轉過來,被描述為“在”其它元件或部件“之下”或“下面”的元件將會在其它元件或部件的“上方”。這樣,示例性術語“在...下面”就能夠涵蓋之上和之下兩種取向。器件可以采取其它取向(旋轉90度或在其它取向),此處所用的空間相對性描述符做相應解釋。

圖1示意性地圖示了根據現(xiàn)有技術的OLED顯示基板的截面圖。如圖1所示,現(xiàn)有技術OLED顯示基板包括襯底100、設置在襯底上的緩沖層102以及設置在緩沖層102上方的多條柵線和數(shù)據線(未示出),柵線和數(shù)據線交叉以限定多個像素。每一個像素包括設置在襯底上的柵極層104、柵極絕緣層106、有源層108、源漏電極層110、鈍化層112、第一電極層114、有機功能材料層118、第二電極層120。柵極104、柵極絕緣層106、源極S、漏極D以及有源層108構成晶體管。

該OLED顯示基板還包括像素定義層116。像素定義層116通常為網狀結構,其中該網狀結構的“網眼”對應各個像素,并且將各個像素的對應有機功能材料保持在像素區(qū)中,而該網狀結構的網眼壁用于界定各個像素。如圖1所示,像素定義層116將有機功能材料層118保持在對應像素的第一電極層114上方。

在如圖1所示的OLED顯示基板中,需要過孔126將晶體管的漏極D與第一電極層114電氣連接,從而通過晶體管向有機功能材料層118施加電流。然而,在實際工藝中,填充在過孔中的導電材料可能發(fā)生斷裂,導致第一電極層114與漏極D之間的電氣連接中斷,因此無法通過晶體管向有機功能材料118施加電流。另一方面,由于第一電極層114與漏極D通過過孔126間接電氣接觸,因此在二者之間可能存在接觸電阻,其將影響OLED顯示基板的電氣性能。

相應地,本公開的實施例提供了一種OLED顯示基板。如圖2所示,OLED顯示基板包括襯底200、設置在襯底200上方的多條柵線和數(shù)據線(未示出),柵線和數(shù)據線交叉以限定多個像素。每一個像素包括設置在襯底200上的柵極層204、柵極絕緣層206、有源層208、源漏電極層210和第一電極層214、有機功能材料層218、第二電極層220,其中源漏電極層210與第一電極層214同層。柵極204、柵極絕緣層206、源極S、漏極D以及有源層208構成晶體管。

每一個像素還包括設置在第二電極層220與源漏電極層210之間的鈍化層212。鈍化層212包括有機功能材料容納槽226,其中有機功能材料容納槽226在襯底200上的投影與第一電極層214在襯底200上的投影至少部分重疊。有機功能材料層218設置在有機功能材料容納槽226中。

在上述OLED顯示基板中,通過使源漏電極層210與第一電極層214同層,可以避免使用過孔將第一電極層與源漏電極層電氣連接,從而避免由于過孔斷裂等現(xiàn)象導致的顯示基板功能故障,以及因第一電極層214與源漏電極層210通過過孔的間接接觸而帶來的接觸阻抗的問題。進一步地,通過同層形成源漏電極層210和第一電極層214,可以減少圖案化工藝步驟,簡化工藝流程,從而降低生產成本并且提高生產效率。另外,相比于如圖1所示的OLED顯示基板,整個OLED顯示基板的厚度可以減小,從而實現(xiàn)OLED顯示基板的輕薄化。

此外,通過將有機功能材料層218設置在鈍化層212中,可以消除對像素定義層的需要,從而進一步減小整個OLED顯示基板的厚度,實現(xiàn)OLED顯示基板的輕薄化。

在圖2中,襯底200可以為第一柔性襯底。這樣的OLED顯示基板可以用于實現(xiàn)柔性顯示面板。由于該OLED顯示基板相比于如圖1所示的OLED顯示基板而言可以制作得更輕薄,因此所得到的OLED顯示面板可以實現(xiàn)更大的柔性。

進一步地,如圖2所示,OLED顯示基板還可以可選地包括設置在第一柔性襯底200與柵極層204之間的緩沖層202。該緩沖層202的存在可以防止水分和氧氣滲透到柵極層204中,進而影響OLED顯示基板的性能。

在一些示例性實施例中,第一電極層214包括反射電極層,并且第二電極層220為透明電極層。反射電極層的存在可以防止有機功能材料層所發(fā)射的光從除顯示基板的出光側之外的方向出射,從而提高光利用率,改進OLED顯示基板的亮度和性能。透明電極層允許光通過而在OLED顯示基板的出光側上出射,從而實現(xiàn)顯示。

源漏電極層210包括Mo/Al/LiF層,其中Mo層的厚度范圍為200-600埃,Al層的厚度范圍為2000~3000埃。鈍化層212包括SiNx和SiO,并且厚度范圍為1500~2500埃,以足夠容納有機功能材料層218。

圖3示意性地圖示了根據本公開的實施例的OLED顯示面板。如圖3所示,OLED顯示面板包括如圖2所示的OLED顯示基板,以及設置在第二電極層220上的封裝層322。封裝層322用于保護OLED顯示面板以防外界損害。當OLED顯示基板的襯底200是第一柔性襯底時,OLED顯示面板還包括設置在封裝層322上的第二柔性襯底324。第二柔性襯底324與OLED顯示基板的第一柔性襯底200配合,因而得到柔性OLED顯示面板。由于根據本公開實施例的OLED顯示面板相比于現(xiàn)有技術可以制作得更輕薄,因此其能夠實現(xiàn)更大的柔性。

在這樣的OLED顯示面板中,通過使OLED顯示基板的源漏電極層210與第一電極層214同層,可以避免使用過孔將第一電極層214與源漏電極層210電氣連接,從而避免由于過孔斷裂等現(xiàn)象導致的顯示面板功能故障,以及因第一電極層214與源漏電極層210通過過孔的間接接觸而帶來的接觸阻抗的問題。進一步地,通過同層形成源漏電極層210和第一電極層214,可以減少圖案化工藝步驟,簡化工藝流程,從而降低生產成本并且提高生產效率。另外,整個OLED顯示面板的厚度可以減小,從而實現(xiàn)OLED顯示面板的輕薄化。

應當指出的是,盡管圖1、圖2和圖3僅僅示意性地圖示了OLED顯示基板的僅一個像素,但是如本領域技術人員所已知的,OLED顯示基板可以包括如所需要的任何數(shù)目的像素。而且,盡管圖2和圖3示意性地圖示了具有底柵結構的OLED顯示基板,但是本公開的概念也同樣可以應用于具有頂柵結構的OLED顯示基板。

本公開實施例還提供了一種OLED顯示基板的制作方法400。如圖4所示,該方法400包括在步驟402處,在襯底上依次形成第一柔性襯底和緩沖層。第一柔性襯底可以由聚酰亞胺(PI)材料通過層壓或涂敷的方式制成。緩沖層可以通過等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)工藝制作。

在步驟404處,在緩沖層上形成柵極層、柵極絕緣層和有源層。柵極層可以通過濺射和圖案化工藝制作,并且柵極絕緣層和有源層可以通過PECVD和圖案化工藝制作。

在步驟406處,在有源層上同層形成源漏電極層和第一電極層。源漏電極層和第一電極層可以通過濺射和圖案化工藝制作,并且可以在同一個工藝過程中通過同一種材料制成,從而簡化工藝過程,降低生產成本。

在步驟408處,在源漏電極層和第一電極層上形成鈍化層。鈍化層可以由SiNx和SiO通過PECVD工藝制成,起到保護源漏電極層的作用。

在步驟410處,在鈍化層中形成有機功能材料容納槽,使得有機功能材料容納槽在襯底上的投影與第一電極層在襯底上的投影至少部分重疊。有機功能材料容納槽可以通過光刻和干法蝕刻來制作。

在步驟412處,在有機功能材料容納槽中形成有機功能材料層。有機功能材料層可以通過蒸鍍或噴墨打印的方式制作。

在步驟414處,在有機材料功能層上形成第二電極層。第二電極層可以通過濺射的方式制作。

最后,在步驟416處,移除襯底。襯底的移除可以通過機械剝離或激光剝離的方式來完成,并且當使用激光剝離時,由于激光可能會使第一柔性襯底發(fā)生變性,導致無法有效地隔絕水分和氧氣的滲透,因此能夠阻擋水分和氧氣滲透的緩沖層是必要的。

在通過上述方法制作的OLED顯示基板中,通過同層形成源漏電極層與第一電極層,可以省略制作過孔以用于將第一電極層與源漏電極層電氣連接的步驟,從而避免由于過孔斷裂等現(xiàn)象導致的顯示基板功能故障,以及因第一電極層與源漏電極層通過過孔的間接接觸而帶來的接觸阻抗的問題。進一步地,通過同層形成源漏電極層和第一電極層,可以減少圖案化工藝步驟,簡化工藝流程,從而降低生產成本并且提高生產效率。另外,整個OLED顯示基板的厚度可以減小,從而實現(xiàn)OLED顯示基板的輕薄化。

而且,在這樣的方法中,通過在鈍化層中形成有機功能材料層,可以省略形成像素定義層的步驟,從而簡化工藝流程、降低生產成本,而同時進一步減小整個OLED顯示基板的厚度,實現(xiàn)OLED顯示基板的輕薄化。

在上述方法400中,步驟402和416可以一起被省略,并且步驟410和412可以一起被省略。在一起省略步驟402和416的情況下,柵極層直接形成在襯底上,并且結果得到的OLED顯示基板是非柔性OLED顯示基板。在一起省略步驟410和412的情況下,有機功能材料層形成在鈍化層上方,而非形成在鈍化層中。

本領域技術人員將認識到,本公開絕不限于以上描述的示例實施例。相反,在所附權利要求的范圍內,許多修改和變型是可能的。另外,以上描述的過程不要求所描述的特定次序或順序的次序來實現(xiàn)合期望的結果。可以提供其它步驟,或者可以從所描述的過程中去除步驟。

本公開的概念可以廣泛應用于任何具有顯示功能的系統(tǒng),包括臺式計算機、膝上型計算機、移動電話、平板電腦,以及特別地,柔性顯示系統(tǒng)。另外,盡管上文已經詳細描述了幾個實施例,但是其它修改是可能的。例如,可以將組件添加到所描述的系統(tǒng)或者從所描述的系統(tǒng)移除。其它實施例可以在本公開的范圍內。本領域技術人員鑒于本公開的教導,可以實現(xiàn)眾多變型和修改而不脫離于本公開的精神和范圍。

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