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一種高均勻性的紅光LED外延結(jié)構(gòu)的制作方法

文檔序號(hào):11762569閱讀:來源:國知局

技術(shù)特征:

1.一種高均勻性的紅光LED外延結(jié)構(gòu),其特征在于,包括由下而上依次設(shè)置的GaAs襯底、AlGaAs緩沖層、GaAs緩沖層、AlGaAs/AlAs DBR、AlInP N限制層、AlGaInP N波導(dǎo)層、MQW量子阱有源層、AlGaInP P波導(dǎo)層、AlInP P限制層、GaP窗口層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高均勻性的紅光LED外延結(jié)構(gòu),其特征在于,所述AlGaAs緩沖層的厚度為0.1-0.8μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高均勻性的紅光LED外延結(jié)構(gòu),其特征在于,所述AlGaAs緩沖層的厚度為0.2-0.8μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高均勻性的紅光LED外延結(jié)構(gòu),其特征在于,所述AlGaAs緩沖層的厚度為0.5μm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高均勻性的紅光LED外延結(jié)構(gòu),其特征在于,所述GaAs襯底厚度為250-375μm;所述GaAs緩沖層的厚度為0.2-0.5μm;所述AlInP N限制層的厚度為0.5-1μm;所述AlGaInP N波導(dǎo)層的厚度為0.15-0.5μm;所述MQW量子阱有源層的厚度為0.05-0.5μm;所述AlGaInP P波導(dǎo)層的厚度為0.15-0.5μm;所述AlInP P限制層的厚度為0.5-1μm;所述GaP窗口層的厚度為3-10μm。

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