技術(shù)總結(jié)
本實(shí)用新型揭露一種單晶圓旋轉(zhuǎn)蝕刻清洗機(jī)臺(tái)的流體收集裝置，用于收集蝕刻單晶圓的流體，包含：轉(zhuǎn)盤，固定及旋轉(zhuǎn)單晶圓；至少一個(gè)回收盤，固設(shè)于該轉(zhuǎn)盤的外緣，用以收集該單晶圓旋轉(zhuǎn)時(shí)甩出的該流體；至少一個(gè)蓋盤，對(duì)應(yīng)并蓋設(shè)于該回收盤上，用以導(dǎo)引該流體流至該回收盤中；至少一個(gè)升降組，該升降組包括對(duì)稱的兩個(gè)升降單元，該升降組連設(shè)于該蓋盤，用以相對(duì)于該轉(zhuǎn)盤及該回收盤而上下作動(dòng)該蓋盤。

技術(shù)研發(fā)人員：顏錫銘
受保護(hù)的技術(shù)使用者：錫宬國際有限公司
文檔號(hào)碼：201621181947
技術(shù)研發(fā)日：2016.11.03
技術(shù)公布日：2017.06.09