本實(shí)用新型涉及屬于硅片制造領(lǐng)域，特別涉及硅片硼洗臺(tái)。

背景技術(shù)：

半導(dǎo)體器件生產(chǎn)中，硅片須經(jīng)嚴(yán)格清洗。清洗的目的在于清除表面污染雜質(zhì)，包括有機(jī)物和無(wú)機(jī)物。清除污染的方法有物理清洗和化學(xué)清洗兩種。物理清洗一般是用真空電機(jī)噴真空砂進(jìn)行清洗，而化學(xué)清洗是先用硼水進(jìn)行清洗，然后再進(jìn)行酸洗、純水清洗等步驟。在用硼水清洗硅片的過(guò)程中，目前的辦法是用人工蘸取硼水對(duì)每一個(gè)硅片進(jìn)行清洗，常常出現(xiàn)因?yàn)榕鹚疁囟炔缓愣ㄓ绊懝杵鹣吹馁|(zhì)量，而且單存的人工清洗效率也不高。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足之處，本實(shí)用新型旨在提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單的硅片硼洗臺(tái)，包括支架，所述支架為雙層立體結(jié)構(gòu)，所述支架包括有第一支撐臺(tái)、第二支撐臺(tái)，所述第一支撐臺(tái)上設(shè)置有硼水瓶、旋轉(zhuǎn)臺(tái)、硅片加熱板，所述硅片加熱板上放置有硅片，所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)與所述硅片相匹配；所述第二支撐臺(tái)位于所述第一支撐臺(tái)下方，兩者之間有放置設(shè)備的空間；所述第二支撐臺(tái)上放置有與所述硼水瓶相對(duì)應(yīng)的恒溫磁力攪拌器、與所述硅片加熱板相對(duì)應(yīng)的加熱器、與所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)相連接的真空電機(jī)、控制所述真空電機(jī)瞬間停止的變頻器。

進(jìn)一步的，所述硅片硼洗臺(tái)還包括有控制面板，所述控制面板與所述加熱器、真空電機(jī)、變頻器控制連接，控制所述加熱器、真空電機(jī)、變頻器的開(kāi)啟與關(guān)閉，調(diào)節(jié)所述真空電機(jī)的旋轉(zhuǎn)速度。

進(jìn)一步的，所述硅片硼洗臺(tái)還包括有抽風(fēng)管，所述抽風(fēng)管與所述第一支撐臺(tái)上方的空間相連通，隨時(shí)抽取因?yàn)樗龉杵鹣串a(chǎn)生的異味。

本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用時(shí)，只要硅片安裝到旋轉(zhuǎn)臺(tái)上，開(kāi)動(dòng)恒溫磁力攪拌器，使得硼水處于恒溫?cái)嚢锠顟B(tài)，打開(kāi)真空電機(jī)，調(diào)節(jié)合適的轉(zhuǎn)速，工人就可以蘸取硼水對(duì)硅片進(jìn)行清洗，完成清洗后，打開(kāi)變頻器開(kāi)關(guān)，真空電機(jī)瞬間停止，工人取下硅片，就完成了一次對(duì)硅片的清洗過(guò)程，且抽風(fēng)管隨時(shí)抽取因?yàn)榕鹣串a(chǎn)生的異味，這樣就大大地提高了硼洗的效率。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)圖；

圖中，1-支架，2-硼水瓶，3-旋轉(zhuǎn)臺(tái)，4-硅片加熱板，5-硅片，6-恒溫磁力攪拌器，7-加熱器，8-真空電機(jī)，9-變頻器，10-控制面板，11-第一支撐臺(tái)、12-第二支撐臺(tái)、13-抽風(fēng)管。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合具體實(shí)施例及附圖來(lái)進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型。

一種如圖1所示的硅片硼洗臺(tái)，包括支架1，支架1為雙層立體結(jié)構(gòu)，支架1包括有第一支撐臺(tái)11、第二支撐臺(tái)12，第一支撐臺(tái)11上設(shè)置有硼水瓶2、旋轉(zhuǎn)臺(tái)3、硅片加熱板4，硅片加熱板4上放置有硅片5。旋轉(zhuǎn)臺(tái)3與硅片5相匹配，硅片5可放置在旋轉(zhuǎn)臺(tái)3上，旋轉(zhuǎn)臺(tái)3旋轉(zhuǎn)時(shí)，硅片5會(huì)隨之旋轉(zhuǎn)，而不至于飛出去。第二支撐臺(tái)12位于第一支撐臺(tái)11下方，兩者之間有放置設(shè)備的空間。第二支撐臺(tái)12上放置有與硼水瓶2相對(duì)應(yīng)的恒溫磁力攪拌器6、與硅片加熱板4相對(duì)應(yīng)的加熱器7、與旋轉(zhuǎn)臺(tái)3相連接的真空電機(jī)8、控制真空電機(jī)8瞬間停止的變頻器9。恒溫磁力攪拌器6可隔著第一支撐臺(tái)11對(duì)硼水瓶2中的硼水呈一定速率地?cái)嚢?，且使得硼水處于恒溫狀態(tài)。加熱器7可對(duì)硅片加熱板4進(jìn)行加熱，對(duì)硅片5進(jìn)行烘烤，本實(shí)用新型中，硅片加熱板4對(duì)硅片5的加熱溫度，一般處于190攝氏度左右。真空電機(jī)8旋轉(zhuǎn)可帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)臺(tái)3旋轉(zhuǎn)。硅片硼洗臺(tái)還包括有控制面板10，控制面板10與加熱器7、真空電機(jī)8、變頻器控制9連接，控制面板10上有真空電機(jī)8的啟動(dòng)、調(diào)速開(kāi)關(guān)，加熱器7的啟動(dòng)開(kāi)關(guān)，變頻器的控制開(kāi)關(guān)?？刂萍訜崞?、真空電機(jī)8、變頻器9的開(kāi)啟與關(guān)閉，調(diào)節(jié)真空電機(jī)8的旋轉(zhuǎn)速度。硅片硼洗臺(tái)還包括有抽風(fēng)管13，抽風(fēng)管13與第一支撐臺(tái)11上方的空間相連通，隨時(shí)抽取因?yàn)楣杵鹣串a(chǎn)生的異味。

本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，使用時(shí)，只要硅片5安裝到旋轉(zhuǎn)臺(tái)3上；開(kāi)動(dòng)恒溫磁力攪拌器6，使得硼水處于恒溫?cái)嚢锠顟B(tài)；開(kāi)啟加熱器7、對(duì)硅片加熱板4進(jìn)行加熱至合適溫度；打開(kāi)真空電機(jī)8，調(diào)節(jié)合適的轉(zhuǎn)速；工人就可以蘸取硼水對(duì)硅片5進(jìn)行清洗，完成清洗后，開(kāi)啟變頻器9開(kāi)關(guān)，變頻器9控制真空電機(jī)8瞬間停止，工人取下硅片5，放置在硅片加熱板4上，就完成了一次對(duì)硅片5的清洗過(guò)程，且抽風(fēng)管13隨時(shí)抽取因?yàn)榕鹣串a(chǎn)生的異味，這樣就大大地提高了硼洗的效率，在一定程度上也保護(hù)了工人健康。

以上對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例所提供的技術(shù)方案進(jìn)行了詳細(xì)介紹，本文中應(yīng)用了具體個(gè)例對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例的原理以及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述，以上實(shí)施例的說(shuō)明只適用于幫助理解本實(shí)用新型實(shí)施例的原理；同時(shí)，對(duì)于本領(lǐng)域的一般技術(shù)人員，依據(jù)本實(shí)用新型實(shí)施例，在具體實(shí)施方式以及應(yīng)用范圍上均會(huì)有改變之處，綜上所述，本說(shuō)明書(shū)內(nèi)容不應(yīng)理解為對(duì)本實(shí)用新型的限制。