本發(fā)明涉及一種電抗器線圈繞線組合模具。
背景技術:
電抗器線圈的繞線通常是選擇適當直徑的繞線模固定在繞線機上,然后將導線繞制在繞線模上。繞線模有許多種,其中一種是將兩個擋板和一個方塊形的鐵盒打上孔,直接安裝到繞線機上,繞好線圈后,拆下?lián)醢澹∠吕@好線圈的方塊形的鐵盒,直接用錘子敲出鐵盒,使其與線圈分離。這樣不僅會容易損壞線圈絕緣層,還會使繞線模變形,造成不能使用。2015年4月8日公布的CN 204257395 U中國實用新型專利公布的電抗器線圈繞線組合模具使用了角型鋼和擋板配合的設計,通過更換不同大小的擋板,繞線模具可以變換不同尺寸,但是因為擋板通過螺栓固定在限位板上,在線圈取下來之前并不能改變模具的大小,因此仍不能解決繞完線后模具不易取出的問題。
技術實現要素:
本發(fā)明的目的在于提供一種在繞完線后能方便與線圈分離取出的電抗器線圈繞線組合模具。
為了達到上面的目的,本發(fā)明提供一種電抗器線圈繞線組合模具,包括上下對置的上擋板和下?lián)醢澹凰錾蠐醢搴拖聯(lián)醢逯g由上至下分別由一對槽鋼結構的上層鐵板和下層鐵板構成兩層繞線單元;其中,兩層繞線單元各自的兩個槽鋼結構槽口分別相互對設,從而兩層繞線單元分別由外圍結構圍成橫向的兩個矩形口,且所述兩個矩形口方向相互垂直;所述擋板、下?lián)醢?,以及上層鐵板和下層鐵板在相互鄰接的部件之間通過貼合面穿設的螺栓固定為一體;所述擋板、下?lián)醢?,以及上層鐵板和下層鐵板位于中央豎向開設用于設置繞線軸的圓孔。
具體說,本發(fā)明電抗器線圈繞線模具包括分設在兩端的兩個擋板,兩塊相同的上層鐵板和兩塊相同的下層鐵板。上層鐵板為槽鋼形狀,包括上層鐵板第一伸出端、上層鐵板第二伸出端和上層鐵板主體。下層鐵板也為槽鋼形狀,包括下層鐵板第一伸出端、下層鐵板第二伸出端和下層鐵板主體。
兩塊上層鐵板主體相互平行,兩塊下層鐵板主體也相互平行,上層鐵板第二伸出端即其下邊的伸出端與下層鐵板第一伸出端即其上伸出端互相貼合,并通過螺絲連接上層鐵板和下層鐵板,上層鐵板主體與下層鐵板主體相互垂直。上擋板與兩塊上層鐵板用螺絲固定,并與上層鐵板主體垂直,兩塊上層鐵板鐵板伸出端之間留有空隙。兩塊下層鐵板與下?lián)醢宕怪边B接,下層鐵板伸出端之間同樣留有空隙。
采用這種設計,繞好線圈后只要先將擋板拆下,再將連接四塊鐵板的螺絲拆除,即可改變繞線模的直徑,線圈就能直接與繞線模分離,不會損壞線圈絕緣層。
附圖說明
圖1是本發(fā)明電抗器線圈繞線組合模具的整體示意圖。
圖2是擋板的俯視圖。
圖3是擋板的主視圖。
圖4是擋板的左視圖。
圖5是上層鐵板的俯視圖。
圖6是上層鐵板的主視圖。
圖7是上層鐵板的左視圖。
圖8是下層鐵板的俯視圖。
圖9是下層鐵板的主視圖。
圖10是下層鐵板的左視圖。
圖中:1,上擋板;2,下?lián)醢澹?,上層鐵板;4,下層鐵板;5,第一圓孔;6,第二圓孔;7,上層鐵板第一伸出端;8,上層鐵板第二伸出端;9,下層鐵板第一伸出端;10,下層鐵板第二伸出端;11上層鐵板主體;12,下層鐵板主體。
具體實施方式
下述非限制性實施例可以使本領域的普通技術人員更全面地理解本發(fā)明,但不以任何方式限制本發(fā)明。
如圖1到10所示,本發(fā)明的電抗器線圈繞線組合模具包括形狀相同的上擋板1和下?lián)醢?,兩塊相同的上層鐵板3和兩塊相同的下層鐵板4。上層鐵板3為槽鋼形狀,包括上層鐵板第一伸出端7、上層鐵板第二伸出端8和上層鐵板主體11。下層鐵板也為槽鋼形狀,包括下層鐵板第一伸出端9、下層鐵板第二伸出端10和下層鐵板主體12。
上層鐵板第二伸出端8與下層鐵板第一伸出端9相貼合,上層鐵板主體11和下層鐵板主體12相互垂直,之后通過上層鐵板第二伸出端8的螺紋孔與下層鐵板第一伸出端9上的螺紋孔用螺絲將上層鐵板3和下層鐵板4相連接。
上擋板1垂直連接在兩個上層鐵板3上,上層鐵板第一伸出端7貼合在上擋板1上,并通過上層鐵板第一伸出端7上的螺紋孔和上擋板1上的螺紋孔用螺絲將兩者連接。下層鐵板4和下?lián)醢?的也是同樣的方式,即通過下層鐵板第二伸出端10上的螺紋孔與下?lián)醢?上相應位置上的螺紋孔用螺絲將兩者固定。
所述鐵板的寬度和高度并無限制,可根據所需繞制的線圈規(guī)格進行設計。但下層鐵板4伸出端的長度之和不能大于上層鐵板3的寬度,同樣,上層鐵板3伸出端的長度之和也不能大于下層鐵板4的寬度以避免上層鐵板3和下層鐵板4不能順利連接。
在上擋板1和下?lián)醢?中心位置開有第一圓孔5,在下?lián)醢迳斐龆嘶蛏蠐醢迳斐龆讼鄳恢靡查_有相同大小的第二圓孔6,用來連接繞線機。
以上所述,僅為本發(fā)明較佳的具體實施方式,但本發(fā)明的保護范圍并不局限于此,任何熟悉本技術領域的技術人員在本發(fā)明披露的技術范圍內,根據本發(fā)明的技術方案及其發(fā)明構思加以等同替換或改變,都應涵蓋在本發(fā)明的保護范圍之內。