1.一種基板處理系統(tǒng)，包括：
真空外殼；
處理室，其附接到所述真空外殼并在所述真空外殼內(nèi)限定處理區(qū)；
第一軌道組件，其被安置于所述真空外殼內(nèi)部在所述處理室的一側(cè)上；
第一升高機(jī)構(gòu)，其耦合到所述第一軌道組件并被配置成將所述第一軌道組件提升到升高后的位置以及將所述第一升高組件降低到較低的位置；
第二軌道組件，其被安置于所述真空外殼內(nèi)部在所述第一軌道組件的相對(duì)側(cè)上；
第二升高機(jī)構(gòu)，其耦合到所述第二軌道組件并被配置成將所述第二軌道組件提升到升高后的位置以及將所述第二升高組件降低到較低的位置；
第一懸臂式架子，其被配置為騎行在所述第一軌道組件上；以及
第二懸臂式架子，其被配置為騎行在所述第二軌道組件上。
2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中所述第一懸臂式架子和所述第二懸臂式架子中的每個(gè)懸臂式架子分別具有騎行在所述第一軌道組件和所述第二軌道組件上的驅(qū)動(dòng)組件。
3.如權(quán)利要求2所述的系統(tǒng)，其中所述第一懸臂式架子和所述第二懸臂式架子中的每個(gè)懸臂式架子還包括自由站立支撐組件，在所述自由站立支撐組件上附接有多個(gè)卡盤，并且所述自由站立支撐組件從相應(yīng)的驅(qū)動(dòng)組件懸臂式向外伸展。
4.如權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)，其中，當(dāng)所述第一軌道組件和所述第二軌道組件之一處于所述較低的位置時(shí)，相應(yīng)的驅(qū)動(dòng)組件的自由站立支撐組件能夠在另一驅(qū)動(dòng)組件的自由站立支撐組件之下經(jīng)過。
5.如權(quán)利要求3所述的系統(tǒng)，其中，當(dāng)所述第一軌道組件和所述第二軌道組件兩者均在較高的位置上時(shí)，位于兩個(gè)自由站立支撐組件上的所述多個(gè)卡盤在行進(jìn)方向上對(duì)齊。
6.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述處理室包括離子注入室。
7.如權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其中，所述處理區(qū)包括離子束，并且其中，所述處理區(qū)總是被至少一個(gè)基板占據(jù)，使得所述室從不處于閑置模式中，而相反所述室總是正在處理至少一個(gè)基板。
8.如權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其中，所述基板在所述離子束之下經(jīng)過，使得當(dāng)所述基板穿過所述離子束時(shí)對(duì)所述基板進(jìn)行注入。
9.如權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，其中，所述離子束被形成為寬的帶，使得所述離子束能夠同時(shí)覆蓋若干個(gè)基板的部分。
10.如權(quán)利要求6所述的系統(tǒng)，還包括放置在所述離子束的路徑中的掩模。
11.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述掩模包括梳狀區(qū)段，使得只有離子的細(xì)束被允許傳送到所述基板，從而以直線對(duì)所述基板進(jìn)行摻雜。