技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)公開了一種雙電光Q開關(guān)再生放大裝置，其特征在于，包括：激光發(fā)射模塊、隔離系統(tǒng)、第一電光Q開關(guān)模塊、第二電光Q開關(guān)模塊、再生放大器模塊和同步觸發(fā)器模塊，所述同步觸發(fā)器模塊分別與所述第一電光Q開關(guān)驅(qū)動(dòng)源、所述第二電光Q開關(guān)驅(qū)動(dòng)源和所述激光發(fā)射模塊電連接。本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环N雙電光Q開關(guān)再生放大裝置，能夠避免造成光學(xué)元器件的損傷而降低激光器的使用壽命的同時(shí)，降低對(duì)脈沖能量敏感的材料的加工的影響消除連續(xù)脈沖背底和首脈沖效應(yīng)的雙電光Q開關(guān)再生放大裝置。

技術(shù)研發(fā)人員：黃玉濤;樊仲維;張鴻博;劉學(xué)松;閆瑩;麻云鳳;連富強(qiáng);白振岙
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中國科學(xué)院光電研究院
文檔號(hào)碼：201710022523
技術(shù)研發(fā)日：2017.01.12
技術(shù)公布日：2017.06.13