1.一種用于從基板移除含有鹵素的殘余物的方法，所述方法包括：
透過負載鎖定腔室的第一腔室容積來轉移基板到基板處理系統(tǒng)，所述負載鎖定腔室的所述第一腔室容積耦接至所述基板處理系統(tǒng)的轉移室；
利用含有鹵素的化學物來在一或更多個處理室中蝕刻所述基板，所述一或更多個處理室耦接至所述基板處理室的所述轉移室；
在所述負載鎖定腔室的第二腔室容積中從已蝕刻基板移除含有鹵素的殘余物；及
在移除含有鹵素的所述殘余物之后，在所述負載鎖定腔室的冷卻基板支撐組件中冷卻基板，其中所述冷卻基板支撐組件設置在所述負載鎖定腔室的所述第一腔室容積或第三腔室容積中。
2.如權利要求14所述的方法，其特征在于，冷卻所述基板包括透過所述轉移室而從所述第二腔室容積轉移所述基板到所述第一腔室容積或所述第三腔室容積。