本申請(qǐng)的實(shí)施方式涉及基板清洗裝置。

背景技術(shù)：

以往，作為對(duì)半導(dǎo)體晶圓等基板進(jìn)行處理的基板清洗裝置之一，公知有一種基板清洗裝置，在該基板清洗裝置中，使刷子與基板接觸，從刷子的外側(cè)向刷子供給處理液、同時(shí)使基板和刷子彼此旋轉(zhuǎn)，從而對(duì)基板進(jìn)行清洗處理(專(zhuān)利文獻(xiàn)1)。

現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

專(zhuān)利文獻(xiàn)

專(zhuān)利文獻(xiàn)1：日本特許第4685914號(hào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

發(fā)明要解決的問(wèn)題

然而，在上述的現(xiàn)有技術(shù)中，并沒(méi)有考慮針對(duì)將多個(gè)不同種類(lèi)的清洗液向刷子供給的情況下的不良情況的產(chǎn)生、例如、持續(xù)地供給的多個(gè)化學(xué)溶液反應(yīng)而產(chǎn)生鹽等的對(duì)策。

實(shí)施方式的一形態(tài)的目的在于提供一種即使在將多個(gè)不同種類(lèi)的清洗液向刷子供給的情況下、也能夠進(jìn)行良好的清洗處理的基板清洗裝置。

用于解決問(wèn)題的方案

實(shí)施方式的一技術(shù)方案的基板清洗裝置具備基板保持部、刷子、臂、噴出部以及引導(dǎo)構(gòu)件?；灞３植繉⒒灞３殖赡軌蛐D(zhuǎn)。刷子具有：主體部；清洗體，其設(shè)置于主體部的下部，能夠被按壓于基板；空心部，其形成于主體部，上下兩端開(kāi)口。臂借助主軸將刷子的主體部支承成能夠旋轉(zhuǎn)。噴出部設(shè)置于臂，能夠切換并噴出多個(gè)種類(lèi)的處理液。引導(dǎo)構(gòu)件配置于噴出部與刷子之間，暫且接收從噴出部噴出來(lái)的處理液并向刷子的空心部引導(dǎo)。

發(fā)明的效果

根據(jù)實(shí)施方式的一技術(shù)方案，能夠提供一種即使在將多個(gè)不同種類(lèi)的清洗液向刷子供給的情況下、也能夠進(jìn)行良好的清洗處理的基板清洗裝置。

附圖說(shuō)明

圖1是第1實(shí)施方式的基板處理系統(tǒng)的示意俯視圖。

圖2是第1實(shí)施方式的基板處理系統(tǒng)的示意側(cè)視圖。

圖3是第2處理模塊的示意俯視圖。

圖4是第2處理單元的示意俯視圖。

圖5是第2處理單元的示意側(cè)視圖。

圖6是背面刷子的示意側(cè)視圖。

圖7是表示液體承接構(gòu)件與周壁部之間的關(guān)系的圖。

圖8是背面清洗部的示意側(cè)剖視圖。

圖9是引導(dǎo)構(gòu)件的示意立體圖。

圖10是背面刷子的示意立體圖。

圖11是收容部的示意側(cè)視圖。

圖12是表示背面清洗處理的處理順序的流程圖。

圖13是第2實(shí)施方式的背面清洗部的示意側(cè)視圖。

圖14是第2實(shí)施方式的引導(dǎo)構(gòu)件以及背面刷子的示意立體圖。

圖15是圖13所示的a-a向視的示意剖視圖。

附圖標(biāo)記說(shuō)明

w、晶圓；28、第2處理單元；101、主體部；102、連接部；103、清洗體；104、液體承接構(gòu)件；111、第1主體部；112、第2主體部；113、空心部；202、基板保持部；203、回收杯；204、背面清洗部；205、第1供給部；206、第2供給部；207、周壁部；241、背面刷子；242、主軸；243、臂；244、回轉(zhuǎn)升降機(jī)構(gòu)。

具體實(shí)施方式

以下，參照附圖，詳細(xì)地說(shuō)明本申請(qǐng)所公開(kāi)的基板處理裝置的實(shí)施方式。此外，本發(fā)明并不被以下所示的實(shí)施方式限定。

(第1實(shí)施方式)

＜基板處理系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)＞

首先，參照?qǐng)D1和圖2說(shuō)明第1實(shí)施方式的基板處理系統(tǒng)1的結(jié)構(gòu)。圖1是第1實(shí)施方式的基板處理系統(tǒng)1的示意俯視圖。另外，圖2是第1實(shí)施方式的基板處理系統(tǒng)1的示意側(cè)視圖。此外，以下，為了明確位置關(guān)系，規(guī)定彼此正交的x軸、y軸以及z軸，將z軸正方向設(shè)為鉛垂朝上方向。

如圖1所示，第1實(shí)施方式的基板處理系統(tǒng)1具備輸入輸出模塊2、處理模塊3以及交接模塊4。這些以輸入輸出模塊2、交接模塊4以及處理模塊3的順序排列地配置。

基板處理系統(tǒng)1將從輸入輸出模塊2輸入的基板、在本實(shí)施方式中半導(dǎo)體晶圓(以下稱(chēng)為晶圓w)經(jīng)由交接模塊4向處理模塊3輸送，在處理模塊3中進(jìn)行處理。另外，基板處理系統(tǒng)1將處理后的晶圓w從處理模塊3經(jīng)由交接模塊4返回輸入輸出模塊2，從輸入輸出模塊2向外部交出。以下，對(duì)各模塊2～4的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。

＜輸入輸出模塊2的結(jié)構(gòu)＞

輸入輸出模塊2具備載置部11和輸送部12。可在載置部11載置以水平狀態(tài)收容多張晶圓w的多個(gè)盒c。

輸送部12與載置部11相鄰地配置，在內(nèi)部設(shè)置有主輸送裝置13。主輸送裝置13在載置部11與交接模塊4之間進(jìn)行晶圓w的輸送。

＜處理模塊3的結(jié)構(gòu)＞

如圖2所示，處理模塊3具備第1處理模塊3u和第2處理模塊3l。第1處理模塊3u和第2處理模塊3l被分隔壁、開(kāi)閉門(mén)等在空間上分隔開(kāi)，沿著高度方向排列地配置。在本實(shí)施方式中，第1處理模塊3u配置于上層側(cè)，第2處理模塊3l配置于下層側(cè)。

在第1處理模塊3u中，對(duì)電路形成面(以下記載為“表面”)朝上的狀態(tài)的晶圓w進(jìn)行處理。另一方面，在第2處理模塊3l中，對(duì)與表面相反的一側(cè)的面即背面朝上的狀態(tài)的晶圓w進(jìn)行處理。對(duì)這些第1處理模塊3u和第2處理模塊3l的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。

＜第1處理模塊3u的結(jié)構(gòu)＞

如圖1所示，第1處理模塊3u具備輸送部16、第1輸送裝置17、以及多個(gè)第1處理單元18。第1輸送裝置17配置于輸送部16的內(nèi)部，多個(gè)第1處理單元18與輸送部16相鄰地配置于輸送部16的外部。

第1輸送裝置17在交接模塊4與第1處理單元18之間進(jìn)行晶圓w的輸送。具體而言，第1輸送裝置17進(jìn)行從交接模塊4取出晶圓w而向第1處理單元18輸送的處理以及將由第1處理單元18處理好的晶圓w從第1處理單元18取出而向交接模塊4輸送的處理。

第1處理單元18對(duì)表面朝上的狀態(tài)的晶圓w進(jìn)行斜面清洗處理。斜面清洗處理是指將附著到晶圓w的周緣部(斜面部)的微粒、舟皿痕等去除的處理。

例如，第1處理單元18具備：吸附保持部，其可旋轉(zhuǎn)地吸附保持晶圓w；斜面清洗部，其通過(guò)使刷子與晶圓w的周緣部抵接來(lái)對(duì)晶圓w的周緣部進(jìn)行物理清洗；噴出部，其朝向晶圓w的周緣部噴出化學(xué)溶液。該第1處理單元18以利用吸附保持部吸附保持著表面朝上的晶圓w的背面的狀態(tài)使晶圓w旋轉(zhuǎn)。并且，第1處理單元18一邊從噴出部朝向旋轉(zhuǎn)的晶圓w的背面周緣部噴出化學(xué)溶液、一邊使斜面清洗部的刷子與晶圓w的周緣部抵接，從而將附著到晶圓w的周緣部的微粒等去除。這樣，通過(guò)將由化學(xué)溶液進(jìn)行的化學(xué)清洗和由刷子進(jìn)行的物理清洗組合，能夠提高微粒、舟皿痕等的去除性能。

＜第2處理模塊3l的結(jié)構(gòu)＞

接下來(lái)，參照?qǐng)D3對(duì)第2處理模塊3l的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。圖3是第2處理模塊3l的示意俯視圖。

如圖3所示，第2處理模塊3l具備輸送部26、第2輸送裝置27以及多個(gè)第2處理單元28。第2輸送裝置27配置于輸送部26的內(nèi)部，多個(gè)第2處理單元28與輸送部26相鄰地配置于輸送部26的外部。

第2輸送裝置27在交接模塊4與第2處理單元28之間進(jìn)行晶圓w的輸送。具體而言，第2輸送裝置27進(jìn)行從交接模塊4取出晶圓w而向第2處理單元28輸送的處理以及將由第2處理單元28處理好的晶圓w從第2處理單元28取出而向交接模塊4輸送的處理。

第2處理單元28對(duì)背面朝上的狀態(tài)的晶圓w進(jìn)行將附著到晶圓w的背面的微粒等去除的背面清洗處理。在此，參照?qǐng)D4和圖5對(duì)第2處理單元28的結(jié)構(gòu)進(jìn)行說(shuō)明。圖4是第2處理單元28的示意俯視圖。另外，圖5是第2處理單元28的示意側(cè)視圖。

如圖4和圖5所示，第2處理單元28具備腔室201、基板保持部202、回收杯203、背面清洗部204、第1供給部205、第2供給部206以及周壁部207。

腔室201收容基板保持部202、回收杯203、背面清洗部204、第1供給部205、第2供給部206以及周壁部207。在腔室201的頂部設(shè)置有在腔室201內(nèi)形成下降流的ffu(風(fēng)機(jī)過(guò)濾單元，fanfilterunit)211。

基板保持部202具備：主體部221，其直徑比晶圓w的直徑大；多個(gè)把持部222，其設(shè)置于主體部221的上表面；支柱構(gòu)件223，其支承主體部221；以及驅(qū)動(dòng)部224，其使支柱構(gòu)件223旋轉(zhuǎn)。此外，把持部222的數(shù)量并不限定于圖示的數(shù)量。

該基板保持部202通過(guò)使用多個(gè)把持部222把持晶圓w的周緣部來(lái)保持晶圓w。由此，晶圓w以與主體部221的上表面稍微分開(kāi)的狀態(tài)被水平地保持。

此外，在第2處理單元28中，對(duì)背面朝向上方的狀態(tài)、換言之表面朝向下方的狀態(tài)的晶圓w進(jìn)行背面清洗處理。因此，若在第2處理單元28中使用如第1處理單元18的吸附保持部那樣吸附晶圓w的類(lèi)型的構(gòu)件，則有可能弄臟電路形成面即表面。因此，在基板處理系統(tǒng)1中，將把持晶圓w的周緣部的類(lèi)型的構(gòu)件用作基板保持部202，以盡量避免弄臟電路形成面。

回收杯203以包圍基板保持部202的方式配置。在回收杯203的底部形成有：排液口231，其用于將從第1供給部205、第2供給部206噴出的化學(xué)溶液向腔室201的外部排出；排氣口232，其用于排出腔室201內(nèi)的氣氛氣體。此外，第2處理單元28也可以用具備對(duì)從第1供給部205噴出的化學(xué)溶液的排出目的地和從第2供給部206噴出的化學(xué)溶液的排出目的地進(jìn)行切換的機(jī)構(gòu)。

背面清洗部204具備：背面刷子241；臂243，其沿著水平方向(在此，y軸方向)延伸，借助主軸242從上方將背面刷子241支承成可旋轉(zhuǎn)；回轉(zhuǎn)升降機(jī)構(gòu)244，其使臂243回轉(zhuǎn)和升降。

背面清洗部204經(jīng)由閥244a、流量調(diào)整器(未圖示)等與第1化學(xué)溶液供給源245a連接，經(jīng)由閥244b、流量調(diào)整器(未圖示)等與第2化學(xué)溶液供給源245b連接。另外，背面清洗部204經(jīng)由閥244c、流量調(diào)整器(未圖示)等與沖洗液供給源245c連接。

背面清洗部204通過(guò)分別對(duì)閥244a、閥244b以及閥244c的開(kāi)閉進(jìn)行切換，從而能夠?qū)牡?化學(xué)溶液供給源245a供給的第1化學(xué)溶液、從第2化學(xué)溶液供給源245b供給的第2化學(xué)溶液或從沖洗液供給源245c供給的沖洗液(在此，設(shè)為純水)從背面刷子241的內(nèi)側(cè)朝向晶圓w噴出。隨后論述該背面清洗部204的具體的結(jié)構(gòu)。

在此，第1化學(xué)溶液是sc-1(氨、過(guò)氧化氫以及水的混合液)，第2化學(xué)溶液是dhf(稀氫氟酸)，但第1化學(xué)溶液并不限定于sc-1，第2化學(xué)溶液也不限定于dhf。

第1供給部205配置于周壁部207的外方。第1供給部205具備：噴嘴251；噴嘴臂252，其沿著水平方向延伸，從上方支承噴嘴251；回轉(zhuǎn)升降機(jī)構(gòu)253，其使噴嘴臂252回轉(zhuǎn)和升降。

噴嘴251經(jīng)由閥254a、流量調(diào)整器(未圖示)等與第1化學(xué)溶液供給源255a連接。另外，噴嘴251經(jīng)由閥254b、流量調(diào)整器(未圖示)等與沖洗液供給源255b連接。該第1供給部205通過(guò)打開(kāi)閥254a從而將從第1化學(xué)溶液供給源255a供給的第1化學(xué)溶液朝向晶圓w噴出。另外，第1供給部205通過(guò)打開(kāi)閥254b從而將從沖洗液供給源255b供給的純水朝向晶圓w噴出。

第2供給部206配置于周壁部207的外方。第2供給部206具備：噴嘴261；噴嘴臂262，其沿著水平方向延伸，從上方支承噴嘴261；回轉(zhuǎn)升降機(jī)構(gòu)263，其使噴嘴臂262回轉(zhuǎn)和升降。

噴嘴261經(jīng)由閥264a、流量調(diào)整器(未圖示)等與第2化學(xué)溶液供給源265a連接。另外，噴嘴261經(jīng)由閥264b、流量調(diào)整器(未圖示)等與沖洗液供給源265b連接。該第2供給部206通過(guò)打開(kāi)閥264a從而將從第2化學(xué)溶液供給源265a供給的第2化學(xué)溶液朝向晶圓w噴出。另外，第2供給部206通過(guò)打開(kāi)閥264b從而將從沖洗液供給源265b供給的純水朝向晶圓w噴出。

周壁部207以包圍基板保持部202的方式配置于回收杯203的外方，接住從基板保持部202飛散的第1化學(xué)溶液、第2化學(xué)溶液以及純水這樣的處理液。周壁部207與升降機(jī)構(gòu)271連接，利用升降機(jī)構(gòu)271可沿著鉛垂方向移動(dòng)。即、周壁部207構(gòu)成為可變更高度。

第2處理單元28如上述那樣構(gòu)成，利用基板保持部202保持背面朝上的晶圓w的周緣部而使晶圓w旋轉(zhuǎn)。并且，第2處理單元28使用第1供給部205和第2供給部206中的任一個(gè)和背面清洗部204來(lái)將附著到晶圓w的背面的微粒等去除。

此外，在第2處理單元28的腔室201內(nèi)設(shè)置有使背面清洗部204的背面刷子241、第1供給部205的噴嘴251以及第2供給部206的噴嘴261從主體部221上退避的退避位置。并且，在各退避位置分別設(shè)置有收容背面刷子241、噴嘴251以及噴嘴261的收容部208a～208c。圖4中示出了背面清洗部204、第1供給部205以及第2供給部206配置于各退避位置而背面刷子241、噴嘴251以及噴嘴261分別收容于收容部208a～208c的情形。

＜交接模塊4的結(jié)構(gòu)＞

接著，說(shuō)明交接模塊4。如圖1和圖2所示，在交接模塊4的內(nèi)部配置有多個(gè)傳遞裝置15a、15b、第1緩沖部21u、第2緩沖部21l、第1交接部22u、第2交接部22l、第1翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23a以及第2翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23b。

第1緩沖部21u、第2緩沖部21l、第1交接部22u、第2交接部22l、第1翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23a以及第2翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23b沿著高度方向排列配置。具體而言，從上起按照第1交接部22u、第1緩沖部21u、第2緩沖部21l、第2交接部22l、第1翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23a以及第2翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23b的順序依次配置(參照?qǐng)D2)。

此外，緩沖部(在此，第1緩沖部21u和第2緩沖部21l)、交接部(在此，第1交接部22u和第2交接部22l)、翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)(在此，第1翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23a和第2翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23b)的個(gè)數(shù)、高度方向上的配置并不限定于圖示的個(gè)數(shù)、高度方向上的配置。例如，也可以在交接模塊4的內(nèi)部從上起按照交接部、緩沖部、翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、交接部以及翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的順序依次配置。

傳遞裝置15a、15b具備未圖示的升降機(jī)構(gòu)，通過(guò)使用該升降機(jī)構(gòu)而沿著鉛垂方向移動(dòng)，相對(duì)于沿著高度方向排列配置的第1交接部22u等進(jìn)行晶圓w的輸入輸出。傳遞裝置15a從第1交接部22u等的y軸正方向側(cè)訪(fǎng)問(wèn)第1交接部22u等。另外，傳遞裝置15b從第1交接部22u等的y軸負(fù)方向側(cè)訪(fǎng)問(wèn)第1交接部22u等。

第1緩沖部21u、第2緩沖部21l、第1交接部22u以及第2交接部22l是可呈多層收容晶圓w的模塊。其中，第1緩沖部21u和第2緩沖部21l被主輸送裝置13和傳遞裝置15a、15b訪(fǎng)問(wèn)。

＜控制裝置的構(gòu)成＞

基板處理系統(tǒng)1具備控制裝置5(參照?qǐng)D1)?？刂蒲b置5是例如計(jì)算機(jī)，具備控制部51和存儲(chǔ)部52?？稍诖鎯?chǔ)部52儲(chǔ)存對(duì)要在基板處理系統(tǒng)1中執(zhí)行的各種處理進(jìn)行控制的程序?？刂撇?1是例如cpu(中央處理單元，centralprocessingunit)，將存儲(chǔ)到存儲(chǔ)部52的程序讀出并執(zhí)行，從而對(duì)基板處理系統(tǒng)1的動(dòng)作進(jìn)行控制。

此外，該程序既可以是記錄于由計(jì)算機(jī)可讀取的存儲(chǔ)介質(zhì)的程序，也可以是從該存儲(chǔ)介質(zhì)安裝到控制裝置5的存儲(chǔ)部52的程序。作為計(jì)算機(jī)可讀取的存儲(chǔ)介質(zhì)，存在例如硬盤(pán)(hd)、軟盤(pán)(fd)、光盤(pán)(cd)、磁光盤(pán)(mo)、存儲(chǔ)卡等。此外，控制部51也可以不使用程序而僅由硬件構(gòu)成。

＜晶圓的輸送流程＞

接著，簡(jiǎn)單地說(shuō)明基板處理系統(tǒng)1中的晶圓w的輸送流程的一個(gè)例子。在基板處理系統(tǒng)1中，首先，主輸送裝置13從盒c一并取出多張未處理的晶圓w而收容于第1緩沖部21u。接下來(lái)，傳遞裝置15a從第1緩沖部21u取出未處理的晶圓w而向第1交接部22u傳遞，第1處理模塊3u的第1輸送裝置17從第1交接部22u取出晶圓w而向第1處理單元18輸送，第1處理單元18對(duì)晶圓w進(jìn)行斜面清洗處理。若斜面清洗處理結(jié)束，則第1輸送裝置17將斜面清洗處理完畢的晶圓w從第1處理單元18取出而收容于第1交接部22u。

接下來(lái)，傳遞裝置15a將斜面清洗處理完畢的晶圓w從第1交接部22u取出而向第1翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23a傳遞，第1翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23a使該晶圓w的表背翻轉(zhuǎn)，傳遞裝置15b從第1翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23a取出晶圓w而向第2交接部22l傳遞。接下來(lái)，第2處理模塊3l的第2輸送裝置27從第2交接部22l取出晶圓w而向第2處理單元28輸送，第2處理單元28對(duì)晶圓w進(jìn)行背面清洗處理。若背面清洗處理結(jié)束，則第2輸送裝置27將背面清洗處理完畢的晶圓w從第2處理單元28取出而收容于第2交接部22l。

接下來(lái)，傳遞裝置15b從第2交接部22l取出晶圓w而向第2翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23b傳遞，第2翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23b使該晶圓w的表背翻轉(zhuǎn)，傳遞裝置15a從第2翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)23b取出晶圓w而向第2緩沖部21l傳遞，主輸送裝置13將結(jié)束了斜面清洗處理和背面清洗處理的晶圓w從第2緩沖部21l一并取出多張而收容到盒c。由此，一系列的基板處理結(jié)束。

＜背面清洗部的結(jié)構(gòu)＞

接著，參照?qǐng)D6～圖11說(shuō)明背面清洗部204的具體的結(jié)構(gòu)。首先，參照?qǐng)D6和圖7說(shuō)明背面刷子241的結(jié)構(gòu)。圖6是背面刷子241的示意側(cè)視圖。另外，圖7是表示液體承接構(gòu)件與周壁部207之間的關(guān)系的圖。

如圖6所示，背面刷子241具備主體部101、連接部102、清洗體103以及液體承接構(gòu)件104。

主體部101具有圓筒形狀，經(jīng)由連接部102與主軸242(參照?qǐng)D4)連接。主體部101具備第1主體部111和第2主體部112。第1主體部111和第2主體部112是具有相同的直徑的圓筒形狀的構(gòu)件，通過(guò)第2主體部112安裝于第1主體部111的下部，形成主體部101。

連接部102具有直徑比主體部101的直徑小的圓筒形狀。該連接部102設(shè)置于第1主體部111，相對(duì)于第1主體部111向上方突出。另外，連接部102具有插入孔121，將主軸242插入該插入孔121，利用螺釘?shù)葘⒅鬏S242和連接部102固定，從而主體部101固定于主軸242。

清洗體103設(shè)置于第2主體部112的下部，能夠按壓于晶圓w。清洗體103由許多毛束構(gòu)成，但并不限于此，也可以由例如海綿等構(gòu)成。

液體承接構(gòu)件104設(shè)置于主體部101的外周部、具體而言第2主體部112的外周部112a。液體承接構(gòu)件104具有從第2主體部112的外周部112a突出的檐形狀，利用下表面141接住從清洗體103飛散的處理液，從而能夠防止處理液越過(guò)周壁部207而飛散(參照?qǐng)D7)。液體承接構(gòu)件104具有俯視圓形狀，因此，能夠全方位地抑制處理液的飛散。

另外，液體承接構(gòu)件104配置于比清洗體103的安裝面、即、第2主體部112的下表面112b靠上方的位置，液體承接構(gòu)件104的下表面141配置于比第2主體部112的下表面112b靠上方的位置。通過(guò)如此配置，在背面清洗處理中，能夠防止在使背面刷子241朝向晶圓w的外周部移動(dòng)了之際液體承接構(gòu)件104與其他構(gòu)件發(fā)生干涉。

具體而言，如圖7所示，液體承接構(gòu)件104的下表面141配置于比基板保持部202所具備的把持部222的上端靠上方的位置。另外，液體承接構(gòu)件104的下表面141配置于比回收杯203的上端靠上方的位置。通過(guò)如此地配置，能夠防止液體承接構(gòu)件104與把持部222、回收杯203發(fā)生干涉。另外，液體承接構(gòu)件104的下表面141在不與把持部222(參照?qǐng)D5)接觸的高度、在從第2主體部112的外周部112a突出的方向上既可以是水平的，也可以向下方傾斜。在使液體承接構(gòu)件104的下表面141向下方傾斜的情況下，能夠進(jìn)一步防止液體殘留于液體承接構(gòu)件104的下表面141。而且，通過(guò)將液體承接構(gòu)件104的下表面141設(shè)為疏水性，能夠防止液體殘留于液體承接構(gòu)件104的下表面141。另外，通過(guò)將主體部101的外周部設(shè)為疏水性，能夠防止液體殘留于主體部101的外周部。

在進(jìn)行背面清洗處理中的使用了背面刷子241的處理的情況下，周壁部207配置于周壁部207的上端最高的第1高度位置h1。液體承接構(gòu)件104具有防止從清洗體103飛散的處理液越過(guò)被配置到第1高度位置h1的周壁部207的程度的直徑。如圖7所示，該直徑至少基于從清洗體103飛散的處理液可取得的相對(duì)于晶圓w的角度與周壁部207的第1高度位置h1之間的關(guān)系來(lái)決定。此外，飛散的處理液可取得的速度、晶圓w上的清洗體103的位置也可關(guān)系到直徑的決定。這樣，使用周壁部207來(lái)一定程度防止處理液的飛散、同時(shí)利用液體承接構(gòu)件104接住越過(guò)周壁部207而飛散的處理液，從而能夠?qū)⒅鼙诓?07的高度抑制得較低、同時(shí)抑制處理液的飛散。

此外，液體承接構(gòu)件104的檐形狀的上表面142朝向外方下傾。因此，能夠防止處理液殘存于上表面142。此外，上表面142的形狀無(wú)需如圖6那樣朝向外方向具有恒定的傾斜角，也可以是例如在朝向外方向的中途使傾斜角階段性地增大的多級(jí)的傾斜形狀、隨著朝向外方向去而傾斜角逐漸增大的圓弧狀的形狀。

周壁部207在一系列的基板處理中以第1高度位置h1、第2高度位置h2以及第3高度位置h3至少這3級(jí)變更高度位置。第1高度位置h1是在進(jìn)行背面清洗處理中的使用了背面刷子241的處理的情況下周壁部207所配置的高度位置。第2高度位置h2是在進(jìn)行如僅使用了例如第2供給部206的處理那樣處理液的飛散比使用背面刷子241的情況較少的處理的情況下周壁部207所配置的高度位置，設(shè)定得比第1高度位置h1低。第3高度位置h3是周壁部207的初始位置，設(shè)定成比第2高度位置h2低、例如與回收杯203相同程度的高度位置。

此外，第3高度位置h3是與背面清洗部204、第1供給部205以及第2供給部206發(fā)生干涉的高度位置，第1高度位置h1和第2高度位置h2是不與背面清洗部204、第1供給部205以及第2供給部206發(fā)生干涉的高度位置。

圖8是背面清洗部204的示意側(cè)剖視圖。如圖8所示，臂243具備沿著水平方向延伸的第1臂體246和設(shè)置于第1臂體246的下部的第2臂體247。

第1臂體246具有收容使主軸242旋轉(zhuǎn)的馬達(dá)等驅(qū)動(dòng)部246a和主軸242的一部分的第1內(nèi)部空間r1。驅(qū)動(dòng)部246a和主軸242由例如帶輪246b、246c和傳遞帶246d連接。此外，在第1內(nèi)部空間r1配置有將主軸242支承成可旋轉(zhuǎn)的軸承部246e、負(fù)荷傳感器等未圖示的設(shè)備。

在第1臂體246的下部形成有用于供主軸242貫穿的貫穿口246f。因而，第1內(nèi)部空間r1并沒(méi)有成為完全的密閉空間。

第2臂體247具有第2內(nèi)部空間r2，該第2內(nèi)部空間r2經(jīng)由第1臂體246的貫穿口246f將第1內(nèi)部空間r1和外部連通，覆蓋主軸242的經(jīng)由貫穿口246f從第1內(nèi)部空間r1暴露的一部分。

第2內(nèi)部空間r2具有與第1臂體246的貫穿口246f連通的上側(cè)內(nèi)部空間r2a和在上部與上側(cè)內(nèi)部空間r2a連通并在下部與外部連通的下側(cè)內(nèi)部空間r2b。上側(cè)內(nèi)部空間r2a和下側(cè)內(nèi)部空間r2b被環(huán)狀的第1突出部247a平緩地區(qū)分開(kāi)，該第1突出部247a從形成第2內(nèi)部空間r2的第2臂體247的內(nèi)周面向第2內(nèi)部空間r2側(cè)突出。

主軸242在配置于第2內(nèi)部空間r2內(nèi)的部分具有從外周面向徑向外方突出的環(huán)狀的第2突出部242a、242b。第2突出部242a配置于第1突出部247a的上方。另外，第2突出部242b配置于第1突出部247a的下方。

這樣，在背面清洗部204中，利用設(shè)置于第2臂體247的第2內(nèi)部空間r2的第1突出部247a和設(shè)置于主軸242的第2突出部242a、242b，在第2內(nèi)部空間r2內(nèi)形成了所謂迷宮構(gòu)造。由此，背面清洗部204能夠防止第1化學(xué)溶液、第2化學(xué)溶液等的氣氛氣體進(jìn)入第1內(nèi)部空間r1內(nèi)而使第1內(nèi)部空間r1內(nèi)的驅(qū)動(dòng)部246a等劣化。

而且，臂243具備氣體供給部247b。氣體供給部247b由在第1臂體246、第2臂體247形成的通路孔、配管等構(gòu)成，其一端與第2內(nèi)部空間r2中的下側(cè)內(nèi)部空間r2b連接，另一端經(jīng)由閥244d、流量調(diào)整器(未圖示)等與氣體供給源245d連接。該氣體供給部247b通過(guò)打開(kāi)閥244d從而將從氣體供給源245d供給的n2氣體等非活性氣體向下側(cè)內(nèi)部空間r2b供給。由此，外部氣氛氣體向下側(cè)內(nèi)部空間r2b的進(jìn)入受到非活性氣體妨礙，因此，能夠更可靠地防止第1化學(xué)溶液、第2化學(xué)溶液等的氣氛氣體進(jìn)入第1內(nèi)部空間r1內(nèi)。

另外，臂243具備吸氣部247c。吸氣部247c由在第1臂體246、第2臂體247形成的通路孔、配管等構(gòu)成，其一端與第2內(nèi)部空間r2中的上側(cè)內(nèi)部空間r2a連接，另一端與吸氣機(jī)構(gòu)247d連接。該吸氣部247c使用吸氣機(jī)構(gòu)247d而對(duì)上側(cè)內(nèi)部空間r2a內(nèi)的氣氛氣體進(jìn)行吸氣。由此，能夠防止來(lái)自收容到第1內(nèi)部空間r1內(nèi)的驅(qū)動(dòng)部246a、軸承部246e的揚(yáng)塵向外部流出而污染晶圓w等。

另外，臂243具備噴出部247e。噴出部247e由在第1臂體246、第2臂體247形成的通路孔、配管等構(gòu)成，其一端暴露于第2臂體247的下表面。另外，噴出部247e的另一端經(jīng)由閥244a、流量調(diào)整器(未圖示)等與第1化學(xué)溶液供給源245a連接，經(jīng)由閥244b、流量調(diào)整器(未圖示)等與第2化學(xué)溶液供給源245b連接，經(jīng)由閥244c、流量調(diào)整器(未圖示)等與沖洗液供給源245c連接。

該噴出部247e為了將從第1化學(xué)溶液供給源245a供給的第1化學(xué)溶液、從第2化學(xué)溶液供給源245b供給的第2化學(xué)溶液或從沖洗液供給源245c供給的純水向在背面刷子241的主體部101形成的空心部113供給，從第2臂體247的下表面鉛垂朝下地噴出。

在此，在第2臂體247上，如上述那樣形成有第2內(nèi)部空間r2，因此，難以使噴出部247e靠近第2臂體247的中央地配置。因此，噴出部247e配置于比背面刷子241的空心部113遠(yuǎn)離主軸242的位置。具體而言，噴出部247e配置于比背面刷子241的主體部101的外周部遠(yuǎn)離主軸242的位置。在該情況下，若是僅僅從噴出部247e噴出處理液，就無(wú)法向空心部113供給處理液。

因此，背面清洗部204具備引導(dǎo)構(gòu)件248。引導(dǎo)構(gòu)件248配置于噴出部247e與背面刷子241之間，暫且接住從噴出部247e噴出來(lái)的處理液并向背面刷子241的空心部113引導(dǎo)。

具體而言，引導(dǎo)構(gòu)件248具有俯視圓形的承接皿形狀，在第2臂體247的下方與第2臂體247分開(kāi)地配置。另外，引導(dǎo)構(gòu)件248在中央部具有貫穿口248e，主軸242貫穿于該貫穿口248e，并且通過(guò)利用在主軸242形成的臺(tái)階部與背面刷子241的連接部102從上下方向夾持而被固定，與主軸242一起旋轉(zhuǎn)。

在此，參照?qǐng)D9具體地說(shuō)明引導(dǎo)構(gòu)件248的結(jié)構(gòu)。圖9是引導(dǎo)構(gòu)件248的示意立體圖。

如圖9所示，引導(dǎo)構(gòu)件248具備承接面248a和排出部248b。承接面248a配置于噴出部247e的下方，是從比噴出部247e遠(yuǎn)離主軸242的位置朝向主軸242下傾的斜面。

排出部248b設(shè)置于承接面248a的位于背面刷子241的空心部113的正上方的區(qū)域，將由承接面248a承接到的處理液朝向空心部113排出。具體而言，排出部248b具備相對(duì)于承接面248a呈圓周狀排列地配置的多個(gè)排出口248b1。由此，與例如設(shè)置有單一的排出口的情況相比較，能夠使由承接面248a承接到的處理液朝向空心部113均等地落下。

另外，引導(dǎo)構(gòu)件248具備從承接面248a的外周部朝向上方豎立設(shè)置的周狀的第1壁部248c。由此，能夠防止由承接面248a承接到的處理液從承接面248a的外周部落下。另外，引導(dǎo)構(gòu)件248在排出部248b與主軸242之間具有朝向上方豎立立設(shè)置的周狀的第2壁部248d。由此，能夠防止由承接面248a承接到的處理液順著主軸242進(jìn)入連接部102的插入孔121內(nèi)。另外，能夠防止由該處理液導(dǎo)致的主軸242、連接部102的劣化。

接下來(lái)，參照?qǐng)D8和圖10說(shuō)明背面刷子241的空心部113的結(jié)構(gòu)。圖10是背面刷子241的示意立體圖。

如圖8所示，背面刷子241的主體部101具備上下兩端開(kāi)口的空心部113?？招牟?13的上部開(kāi)口113a設(shè)置于第1主體部111。上部開(kāi)口113a的內(nèi)周面設(shè)置于比引導(dǎo)構(gòu)件248的排出部248b遠(yuǎn)離主軸242的位置。

空心部113的下部開(kāi)口113b設(shè)置于第2主體部112。下部開(kāi)口113b具有比上部開(kāi)口113a的直徑小的直徑。具體而言，下部開(kāi)口113b的內(nèi)周面設(shè)置于比引導(dǎo)構(gòu)件248的排出部248b靠近主軸242的位置。因而，在從引導(dǎo)構(gòu)件248的排出部248b排出來(lái)的處理液從上部開(kāi)口113a進(jìn)入到空心部113內(nèi)之后，向主軸242側(cè)聚集而從下部開(kāi)口113b朝向晶圓w噴出。

如圖10所示，在空心部113的中途部設(shè)置有多個(gè)開(kāi)口部113c。多個(gè)開(kāi)口部113c設(shè)置于第1主體部111。另外，在各開(kāi)口部113c之間設(shè)置有第1主體部111與連接部102之間的連結(jié)部113d。

＜背面刷子的收容部的結(jié)構(gòu)＞

接著，參照?qǐng)D11說(shuō)明背面刷子241的收容部208a的結(jié)構(gòu)。圖11是收容部208a的示意側(cè)視圖。

如圖11所示，在作為背面刷子241的退避位置的收容部208a的底面281設(shè)置有對(duì)配置于退避位置的背面刷子241進(jìn)行清洗的刷子清洗部282。刷子清洗部282具有朝向鉛垂上方噴出清洗液的噴出口，經(jīng)由閥283、流量調(diào)整器(未圖示)等與清洗液供給源284連接。該刷子清洗部282將從清洗液供給源284供給的清洗液(在此，設(shè)為純水)從收容部208a的底面281上的噴出口朝向背面刷子241向鉛垂上方噴出，從而使用清洗液來(lái)對(duì)背面刷子241進(jìn)行清洗。

刷子清洗部282的噴出口配置于包括被配置于退避位置的清洗體103的外周部與液體承接構(gòu)件104的基端部的區(qū)域的鉛垂下方，向該區(qū)域供給作為清洗液的純水。由此，能夠不僅清洗清洗體103、而且清洗液體承接構(gòu)件104。

另外，在該刷子清洗處理中，背面清洗部204從背面刷子241的空心部113噴出純水。由此，能夠不僅對(duì)清洗體103的外側(cè)、也對(duì)內(nèi)側(cè)進(jìn)行清洗。

此外，在收容部208a的底面281設(shè)置有用于將在刷子清洗處理中從刷子清洗部282、空心部113噴出來(lái)的純水向外部排出的排出部285。收容部208a的底面281朝向排出部285下傾。

＜背面清洗處理的處理順序＞

接著，參照?qǐng)D12對(duì)在第2處理單元28中執(zhí)行的背面清洗處理的具體的處理順序進(jìn)行說(shuō)明。圖12是表示背面清洗處理的處理順序的流程圖。此外，控制部51通過(guò)對(duì)第2處理單元28的基板保持部202、背面清洗部204、第1供給部205以及第2供給部206等進(jìn)行控制來(lái)執(zhí)行圖12所示的各處理順序。

如圖12所示，在第2處理單元28中，在使輸入到腔室201內(nèi)的晶圓w保持到基板保持部202之后，進(jìn)行第1化學(xué)溶液處理(步驟s101)。在第1化學(xué)溶液處理中，首先，在使用第1供給部205的回轉(zhuǎn)升降機(jī)構(gòu)253來(lái)使噴嘴臂252回轉(zhuǎn)而使噴嘴251位于晶圓w的上方之后，使用背面清洗部204的回轉(zhuǎn)升降機(jī)構(gòu)244來(lái)使臂243回轉(zhuǎn)，使背面刷子241位于晶圓w的上方。之后，使用升降機(jī)構(gòu)271來(lái)使周壁部207上升，使周壁部207的高度位置從第3高度位置h3(參照?qǐng)D7)向第1高度位置h1變化。

接下來(lái)，使用基板保持部202的驅(qū)動(dòng)部224來(lái)使晶圓w旋轉(zhuǎn)，使用背面清洗部204的驅(qū)動(dòng)部246a來(lái)使背面刷子241旋轉(zhuǎn)。另外，從第1供給部205的噴嘴251向晶圓w供給作為第1化學(xué)溶液的sc-1，也從背面刷子241的空心部113向晶圓w供給sc-1。并且，在使用背面清洗部204的回轉(zhuǎn)升降機(jī)構(gòu)244來(lái)使背面刷子241下降而將清洗體103按壓于晶圓w之后，使背面刷子241和噴嘴251從晶圓w的中心部朝向外周部移動(dòng)。由此，利用基于清洗體103的物理的清洗力和基于sc-1的化學(xué)的清洗力將微粒從晶圓w去除。

若背面刷子241到達(dá)晶圓w的外周部，則使來(lái)自噴嘴251和空心部113的sc-1的供給停止，使背面刷子241上升，使背面刷子241的旋轉(zhuǎn)停止。另外，使背面刷子241和噴嘴251向晶圓w的中心部移動(dòng)。

接下來(lái)，在第2處理單元28中，進(jìn)行第1沖洗處理(步驟s102)。在第1沖洗處理中，將向晶圓w噴出的處理液從第1化學(xué)溶液切換成作為沖洗液的純水，使背面清洗部204和第1供給部205與上述的第1化學(xué)溶液處理同樣地動(dòng)作。由此，晶圓w上的sc-1被純水沖洗掉。

若背面刷子241到達(dá)晶圓w的外周部，則使來(lái)自噴嘴251和空心部113的純水的供給停止，使背面刷子241上升，使背面刷子241的旋轉(zhuǎn)停止。之后，使周壁部207從第1高度位置h1向第2高度位置h2移位，使背面刷子241和第1供給部205從晶圓w上退避。

接下來(lái)，在第2處理單元28中，進(jìn)行第2化學(xué)溶液處理(步驟s103)。在第2化學(xué)溶液處理中，首先，在將第2供給部206的噴嘴261配置到晶圓w上之后，使背面刷子241配置于晶圓w上，之后，使周壁部207從第2高度位置h2向第1高度位置h1移位。

接下來(lái)，使背面刷子241旋轉(zhuǎn)，從第2供給部206的噴嘴261向晶圓w供給作為第2化學(xué)溶液的dhf，也從背面刷子241的空心部113向晶圓w供給dhf。并且，在使背面刷子241下降而將清洗體103按壓于晶圓w之后，使背面刷子241和噴嘴261從晶圓w的中心部朝向外周部移動(dòng)。由此，利用基于清洗體103的物理的清洗力和基于dhf的化學(xué)的清洗力將微粒從晶圓w去除。

若背面刷子241到達(dá)晶圓w的外周部，使來(lái)自噴嘴261和空心部113的dhf的供給停止，使背面刷子241上升，使背面刷子241的旋轉(zhuǎn)停止。之后，使周壁部207從第1高度位置h1向第2高度位置h2移位而使背面刷子241從晶圓w上退避。

接下來(lái)，在第2處理單元28中，進(jìn)行第2沖洗處理(步驟s104)。在第2沖洗處理中，從第2供給部206的噴嘴261向晶圓w供給作為沖洗液的純水。由此，晶圓w上的dhf被純水沖洗掉。之后，使來(lái)自噴嘴261的純水的供給停止而使第2供給部206從晶圓w上退避。

接下來(lái)，在第2處理單元28中，進(jìn)行刷子清洗處理(步驟s105)。在刷子清洗處理中，在作為退避位置的收容部208a內(nèi)使背面刷子241旋轉(zhuǎn)，從底面281向包括清洗體103的外周部和液體承接構(gòu)件104的基端部的區(qū)域供給純水。另外，從旋轉(zhuǎn)的背面刷子241的空心部113噴出純水。由此，清洗體103的外側(cè)和內(nèi)側(cè)被清洗、并且液體承接構(gòu)件104被清洗。

接下來(lái)，在第2處理單元28中，進(jìn)行干燥處理(步驟s106)。在干燥處理中，使晶圓w以比第2沖洗處理時(shí)快的旋轉(zhuǎn)速度旋轉(zhuǎn)。由此，晶圓w上的純水被去除而晶圓w干燥。之后，使晶圓w的旋轉(zhuǎn)停止而使周壁部207從第2高度位置h2向第3高度位置h3移位。

此外，刷子清洗處理也可以與第2沖洗處理、干燥處理并行地進(jìn)行。另外，刷子清洗處理也可以與處理完畢的晶圓w的輸出處理、未處理的晶圓w的輸入處理并行地進(jìn)行。

這樣，在背面清洗部204中，在第1化學(xué)溶液處理、第1沖洗處理以及第2化學(xué)溶液處理中，不僅從背面刷子241的外側(cè)噴出處理液，還從背面刷子241的內(nèi)側(cè)噴出處理液，因此，能夠使從晶圓w去除了的微粒等難以殘留于清洗體103的內(nèi)側(cè)。

另外，在背面清洗部204的噴出部247e(參照?qǐng)D8)通過(guò)打開(kāi)閥244a從而噴出多個(gè)種類(lèi)的處理液中的作為第1處理液的第1化學(xué)溶液之后，接著關(guān)閉閥244a通過(guò)打開(kāi)閥244c從而噴出作為第2處理液的純水，之后，關(guān)閉閥244c通過(guò)打開(kāi)閥244b從而噴出作為第3處理液的第2化學(xué)溶液。這樣，在第1化學(xué)溶液處理之后且第2化學(xué)溶液處理之前的第1沖洗處理中，通過(guò)從背面刷子241的空心部113即清洗體103的內(nèi)側(cè)噴出純水，能夠從清洗體103將sc-1更可靠地去除。因而，能夠防止在第2化學(xué)溶液處理中dhf和sc-1發(fā)生反應(yīng)而產(chǎn)生鹽。

不過(guò)，第2處理單元28在例如電源投入后進(jìn)行使背面清洗部204、第1供給部205以及第2供給部206返回作為各自的作為初始位置的退避位置的初始化處理。在該初始化處理中，第2處理單元28使背面清洗部204的臂243、第1供給部205的噴嘴臂252以及第2供給部206的噴嘴臂262同時(shí)以相同的速度朝向退避位置回轉(zhuǎn)。

背面清洗部204的臂243以與第1供給部205的噴嘴臂252的回轉(zhuǎn)軌跡和第2供給部206的噴嘴臂262的回轉(zhuǎn)軌跡相交的軌跡使背面刷子241回轉(zhuǎn)，但如上述那樣只要使臂243和噴嘴臂252、262同時(shí)以相同的速度移動(dòng)，即使假設(shè)在電源非供給時(shí)作業(yè)人員等手動(dòng)使臂243等運(yùn)動(dòng)等而臂243等從正規(guī)的位置偏離，也能夠彼此不干涉地返回作為初始位置的退避位置。

如上述那樣，本實(shí)施方式的第2處理單元28(基板清洗裝置的一個(gè)例子)具備基板保持部202、背面刷子241(刷子的一個(gè)例子)、臂243、第1供給部205以及第2供給部206(供給部的一個(gè)例子)。基板保持部202將晶圓w(基板的一個(gè)例子)保持成可旋轉(zhuǎn)。臂243借助主軸242將背面刷子241支承成可旋轉(zhuǎn)。第1供給部205和第2供給部206向晶圓w供給處理液。另外，背面刷子241具備主體部101、清洗體103以及液體承接構(gòu)件104。主體部101與主軸242連接。清洗體103設(shè)置于主體部101的下部，能夠被按壓于晶圓w。液體承接構(gòu)件104設(shè)置于主體部101的外周部，接住從清洗體103飛散的處理液。

因而，本實(shí)施方式的第2處理單元28能夠抑制處理液的飛散。

另外，本實(shí)施方式的第2處理單元28(基板清洗裝置的一個(gè)例子)具備基板保持部202、背面刷子241(刷子的一個(gè)例子)、臂243、噴出部247e以及引導(dǎo)構(gòu)件248?；灞３植?02將晶圓w(基板的一個(gè)例子)保持成可旋轉(zhuǎn)。背面刷子241是上下兩端開(kāi)口的空心狀的刷子。臂243借助主軸242將背面刷子241支承成可旋轉(zhuǎn)。噴出部247e設(shè)置于臂243，可對(duì)多個(gè)種類(lèi)的處理液進(jìn)行切換而噴出。引導(dǎo)構(gòu)件248配置于噴出部247e與背面刷子241之間，暫且接收從噴出部247e噴出來(lái)的處理液并向所述刷子的空心部113引導(dǎo)。

因而，根據(jù)本實(shí)施方式的第2處理單元28，即使在將多個(gè)不同種類(lèi)的清洗液向背面刷子241供給的情況下也能夠進(jìn)行良好的清洗處理。另外，能夠使從晶圓w去除了的微粒等難以殘留于背面清洗部204的清洗體103。

在上述的第1實(shí)施方式中，對(duì)引導(dǎo)構(gòu)件248與背面刷子241一體化地旋轉(zhuǎn)的情況的例子進(jìn)行了說(shuō)明，但引導(dǎo)構(gòu)件248也可以不與第2臂體247一體化地旋轉(zhuǎn)。

另外，在上述的第1實(shí)施方式中，對(duì)液體承接構(gòu)件104設(shè)置于主體部101的第2主體部112的情況的例子進(jìn)行了說(shuō)明，但也可以是液體承接構(gòu)件104設(shè)置于第1主體部111。

另外，在上述的第1實(shí)施方式中，以用于對(duì)基板的背面進(jìn)行清洗的背面刷子為例進(jìn)行了說(shuō)明，但并不限于此，也可以將同樣的結(jié)構(gòu)適用于用于對(duì)表面進(jìn)行清洗、用于對(duì)基板的周緣部進(jìn)行清洗的刷子。

另外，在上述的第1實(shí)施方式中，向第2內(nèi)部空間r2(參照?qǐng)D8)的下側(cè)內(nèi)部空間r2b供給非活性氣體、同時(shí)對(duì)上側(cè)內(nèi)部空間r2a的氣氛氣體進(jìn)行吸氣，但也可以向上側(cè)內(nèi)部空間r2a供給非活性氣體、同時(shí)對(duì)下側(cè)內(nèi)部空間r2b的氣氛氣體進(jìn)行吸氣。另外，背面清洗部204未必需要具備吸氣部247c。

另外，在上述的第1實(shí)施方式中，對(duì)第1供給部205和第2供給部206這兩者構(gòu)成為可供給作為沖洗液的純水的情況的例子進(jìn)行了說(shuō)明，但也可以構(gòu)成為僅第1供給部205和第2供給部206中的任一者可供給作為沖洗液的純水。另外，背面清洗部204也可以還具備供給沖洗液的第3供給部。

(第2實(shí)施方式)

接著，參照?qǐng)D13～圖15說(shuō)明第2實(shí)施方式的背面清洗部的結(jié)構(gòu)。圖13是第2實(shí)施方式的背面清洗部的示意側(cè)視圖。圖14是第2實(shí)施方式的引導(dǎo)構(gòu)件以及背面刷子的示意立體圖。圖15是圖13所示的a-a向視的示意剖視圖。此外，在以下的說(shuō)明中，對(duì)于與已經(jīng)說(shuō)明的部分相同的部分，標(biāo)注與已經(jīng)說(shuō)明的部分相同的附圖標(biāo)記，省略重復(fù)的說(shuō)明。

如圖13、圖14所示，第2實(shí)施方式的背面清洗部204a具備背面刷子241a和引導(dǎo)構(gòu)件248a。

背面刷子241a具備主體部112a、清洗體103以及液體承接構(gòu)件104。主體部112a是圓筒形狀的構(gòu)件，具有上下兩端開(kāi)口的空心部113a。清洗體103設(shè)置于主體部112a的下部，液體承接構(gòu)件104設(shè)置于主體部112a的外周部。

引導(dǎo)構(gòu)件248a配置于噴出部247e和背面刷子241a之間，暫且接收從噴出部247e噴出來(lái)的處理液而向背面刷子241a的空心部113a引導(dǎo)。

引導(dǎo)構(gòu)件248a具備俯視呈圓形的承接皿部248a1、在承接皿部248a1的下部與承接皿部248a1形成為一體的圓柱狀的連結(jié)部248a2。

承接皿部248a1具有在主軸242的徑向上從比噴出部247e遠(yuǎn)離主軸242的位置朝向主軸242下傾的承接面248aa。

在承接面248aa設(shè)置有多個(gè)流入口248ab、第1壁部248ac以及第2壁部248ad。

多個(gè)流入口248ab在比噴出部247e靠近主軸242的位置呈圓周狀排列地配置。第1壁部248ac(周壁部的一例)在主軸242的徑向上設(shè)于比噴出部247e遠(yuǎn)離主軸242的位置，并朝向上方突出而包圍承接面248aa。第2壁部248ad設(shè)置于多個(gè)流入口248ab和主軸242之間，并朝向上方突出。

連結(jié)部248a2在下部與背面刷子241a的主體部112a連接。具體而言，在連結(jié)部248a2的下部形成有與主體部112a的上部112a1嵌合的筒狀的嵌合部248ah。嵌合部248ah的直徑比主體部112a的上部112a1的直徑大，并從外側(cè)相對(duì)于主體部112a的上部112a1嵌合。通過(guò)主體部112a連結(jié)于連結(jié)部248a2，在連結(jié)部248a2的內(nèi)部形成與空心部113a的上部開(kāi)口113aa連通的內(nèi)部空間248ai。

在連結(jié)部248a2的內(nèi)部設(shè)置有多個(gè)內(nèi)部流路248af。多個(gè)內(nèi)部流路248af在上游側(cè)與設(shè)置于承接面248aa的多個(gè)流入口248ab分別連通，在下游側(cè)與開(kāi)口于內(nèi)部空間248ai的多個(gè)流出口248ag分別連通。該多個(gè)內(nèi)部流路248af將由承接面248aa承接的處理液向空心部113a引導(dǎo)。

另外，連結(jié)部248a2具備第1插入孔248ae、第2插入孔248aj(參照?qǐng)D15)。第1插入孔248ae沿著鉛垂方向延伸，設(shè)于連結(jié)部248a2的中央部，并供主軸242插入。另外，如圖15所示，第2插入孔248aj沿著水平方向延伸，供緊固構(gòu)件200插入。第2插入孔248aj避開(kāi)多個(gè)內(nèi)部流路248af地設(shè)置。

將主軸242插入第1插入孔248ae，將緊固構(gòu)件200插入第2插入孔248aj，利用緊固構(gòu)件200將主軸242和引導(dǎo)構(gòu)件248a固定。由此，背面刷子241a成為借助引導(dǎo)構(gòu)件248a而固定于主軸242的狀態(tài)。緊固構(gòu)件200是例如螺栓，一邊相對(duì)于被形成于主軸242的螺母部旋轉(zhuǎn)一邊插入，從而引導(dǎo)構(gòu)件248a固定于主軸242。此外，在圖15中，省略形成于緊固構(gòu)件200以及主軸242的螺母部的螺紋槽而表示。

接著，說(shuō)明第2實(shí)施方式的背面清洗部204a中的處理液的流動(dòng)。在從噴出部247e噴出的處理液被引導(dǎo)構(gòu)件248a的承接面248aa承接之后，向主軸242側(cè)聚集，從多個(gè)流入口248ab流入到多個(gè)內(nèi)部流路248af。之后，處理液通過(guò)多個(gè)內(nèi)部流路248af而從多個(gè)流出口248ag排出。在從多個(gè)流出口248ag排出的處理液經(jīng)由引導(dǎo)構(gòu)件248a的內(nèi)部空間248ai向背面刷子241a的空心部113a的上部開(kāi)口113aa流入之后，向主軸242側(cè)聚集而從空心部113a的下部開(kāi)口113ab朝向晶圓w噴出。

這樣，從噴出部247e噴出的處理液通過(guò)被設(shè)置于引導(dǎo)構(gòu)件248a的內(nèi)部的多個(gè)內(nèi)部流路248af而流入背面刷子241a的空心部113a。因此，能夠抑制在從承接面248aa到空心部113a為止的期間、處理液的氣氛氣體漏出到外部。因而，在例如處理液是sc－1、dhf等化學(xué)溶液的情況下，能夠抑制在從噴出部247e到空心部113a為止的期間、化學(xué)溶液的氣氛氣體泄漏到外部而給晶圓w帶來(lái)不良影響。

另外，利用設(shè)置于承接面248aa的外周部的第1壁部248ac，能夠抑制在從噴出部247e到承接面248aa為止的期間、處理液的氣氛氣體漏出到外部。

另外，通過(guò)具備內(nèi)部流路248af，可防止在從承接面248aa到空心部113a為止的期間、處理液由于旋轉(zhuǎn)而向周?chē)w散。因而，與不具備內(nèi)部流路248af的情況相比較，能夠?qū)⒏罅髁康奶幚硪合虮趁嫠⒆?41a供給。此外，在圖12的流程圖所示的處理中，示出了從噴嘴251、261和背面刷子241這兩者供給化學(xué)溶液或沖洗液的情況，但也可存在僅從背面刷子241供給化學(xué)溶液或沖洗液的例子。在這樣的情況下，本實(shí)施方式的背面刷子241a在能夠供給大流量的處理液這一點(diǎn)上是有效的。

如上所述，第2實(shí)施方式的引導(dǎo)構(gòu)件248a在連結(jié)部248a2的內(nèi)部具備將由承接面248aa承接的處理液向空心部113a引導(dǎo)的多個(gè)內(nèi)部流路248af。因而，能夠抑制處理液的氣氛氣體漏出到外部。

此外，在上述第2實(shí)施方式中，對(duì)引導(dǎo)構(gòu)件248a具備多個(gè)流入口248ab、多個(gè)內(nèi)部流路248af以及多個(gè)流出口248ag的情況的例子進(jìn)行了說(shuō)明，但引導(dǎo)構(gòu)件248a只要具備至少一個(gè)流入口248ab、至少一個(gè)內(nèi)部流路248af以及至少一個(gè)流出口248ag即可。

進(jìn)一步的效果、變形例能夠由本領(lǐng)域技術(shù)人員容易地導(dǎo)出。因此，本發(fā)明的更廣泛的形態(tài)并不限定于如以上那樣表示且記述的特定的詳細(xì)和代表性的實(shí)施方式。因而，不脫離由權(quán)利要求書(shū)及其等同物定義的總結(jié)性的發(fā)明的概念的精神或范圍，可進(jìn)行各種變更。