1.一種顯示基板的制作方法，包括在襯底基板上形成公共電極線的步驟，其特征在于，形成所述公共電極線的步驟包括：
形成延伸方向相同的透明導電圖形和金屬圖形，所述透明導電圖形與所述金屬圖形相接觸組成至少部分所述公共電極線，所述透明導電圖形在所述襯底基板上的正投影具有超出所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影的部分。
2.根據(jù)權利要求1所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，形成所述透明導電圖形和所述金屬圖形包括：
在所述襯底基板上依次形成所述透明導電圖形和所述金屬圖形，所述透明導電圖形在所述襯底基板上的正投影與所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影部分重合；或
在所述襯底基板上依次形成所述金屬圖形和所述透明導電圖形，所述透明導電圖形在所述襯底基板上的正投影與所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影部分重合。
3.根據(jù)權利要求1所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，形成所述透明導電圖形和所述金屬圖形包括：
通過一次構圖工藝同時形成所述透明導電圖形和所述金屬圖形，所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影完全落入所述透明導電圖形在所述襯底基板上的正投影內(nèi)。
4.根據(jù)權利要求3所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，所述通過一次構圖工藝同時形成所述透明導電圖形和所述金屬圖形包括：
依次形成透明導電層和金屬層；
在所述金屬層上涂覆光刻膠，利用半色調(diào)掩膜板或灰色調(diào)掩膜板對所述光刻膠進行曝光，顯影后形成光刻膠完全保留區(qū)域、光刻膠部分保留區(qū)域和光刻膠未保留區(qū)域；
刻蝕掉光刻膠未保留區(qū)域的透明導電層和金屬層，形成所述透明導電圖形；
去除光刻膠部分保留區(qū)域的光刻膠；
刻蝕掉光刻膠部分保留區(qū)域的金屬層，形成所述金屬圖形；
去除光刻膠完全保留區(qū)域的光刻膠。
5.根據(jù)權利要求3所述的顯示基板的制作方法，其特征在于，所述顯示基板還包括薄膜晶體管的柵極和柵線，在形成所述透明導電圖形和所述金屬圖形的同一次構圖工藝中，還形成所述薄膜晶體管的柵極和柵線。
6.一種顯示基板，包括位于襯底基板上的公共電極線，其特征在于，
至少部分所述公共電極線由延伸方向相同的透明導電圖形和金屬圖形組成，所述透明導電圖形與所述金屬圖形相接觸，且所述透明導電圖形在所述襯底基板上的正投影具有超出所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影的部分。
7.根據(jù)權利要求6所述的顯示基板，其特征在于，
所述公共電極線包括層疊設置的所述透明導電圖形和所述金屬圖形，所述透明導電圖形在所述襯底基板上的正投影與所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影部分重合，所述金屬圖形覆蓋所述透明導電圖形的部分區(qū)域；或所述透明導電圖形覆蓋所述金屬圖形的部分區(qū)域。
8.根據(jù)權利要求6所述的顯示基板，其特征在于，
所述公共電極線包括所述金屬圖形和覆蓋所述金屬圖形的所述透明導電圖形，所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影完全落入所述透明導電圖形在所述襯底基板上的正投影內(nèi)；或
所述公共電極線包括所述透明導電圖形和位于所述透明導電圖形上的所述金屬圖形，所述金屬圖形在所述襯底基板上的正投影完全落入所述透明導電圖形在所述襯底基板上的正投影內(nèi)。
9.根據(jù)權利要求6所述的顯示基板，其特征在于，所述公共電極線包括并排設置的所述金屬圖形和所述透明導電圖形。
10.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求6-9中任一項所述的顯示基板。