本發(fā)明涉及柔性光探測(cè)器，具體為一種鈣鈦礦柔性光探測(cè)器及其制備方法。

背景技術(shù)：

有機(jī)-無機(jī)鈣鈦礦由于具有寬的光吸收和載流子傳輸距離，在光電領(lǐng)域引起了巨大的研究熱潮?；阝}鈦礦大尺寸單晶的光探測(cè)器取得了優(yōu)異的性能。然而大尺寸鈣鈦礦單晶卻無法采用連續(xù)的卷對(duì)卷技術(shù)制備以及柔性器件制備。雖然基于鈣鈦礦薄膜的光探測(cè)器具有重量輕、可大尺度制備和可柔性制備的優(yōu)點(diǎn)；然而目前制備的鈣鈦礦納米顆粒薄膜存在大量的晶界和缺陷，導(dǎo)致光生載流子復(fù)合嚴(yán)重，限制了量子效率和載流子壽命，成為鈣鈦礦柔性光探測(cè)器的進(jìn)一步發(fā)展的瓶頸。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題，本發(fā)明提供一種鈣鈦礦柔性光探測(cè)器及其制備方法，制備得到的鈣鈦礦薄膜質(zhì)量接近單晶，使得基于此鈣鈦礦薄膜的柔性光探測(cè)器具有非常優(yōu)異的光探測(cè)率、響應(yīng)率、彎曲穩(wěn)定性和器件壽命。

本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)：

一種鈣鈦礦柔性光探測(cè)器制備方法，包括如下步驟，

步驟1，制備鈣鈦礦溶液；

步驟2，在清洗干燥后的柔性基片上通過刮刀法制備鈣鈦礦薄膜，得到鈣鈦礦柔性薄膜；

首先，將清洗干燥后的柔性基片固定在熱臺(tái)的工作平面上，并在80-140℃溫度下預(yù)熱5分鐘；

其次，固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平基片夾角為30-90°，調(diào)節(jié)刮刀和柔性基片之間狹縫距離保持固定；通過滴加鈣鈦礦溶液填充柔性基片和刮刀之間的狹縫；

最后，在低于80％濕度的空氣或者氮?dú)猸h(huán)境下，控制熱臺(tái)溫度在80-140℃，以10-50mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀，拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在柔性基片上成膜，得到纖維晶具有單晶性質(zhì)的鈣鈦礦取向單晶纖維柔性薄膜，即所述的鈣鈦礦柔性薄膜；

步驟3，將制備得到的鈣鈦礦柔性薄膜進(jìn)行退火處理；

步驟4，在退火后的鈣鈦礦柔性薄膜上蒸鍍金電極，得到鈣鈦礦柔性光探測(cè)器。

優(yōu)選的，步驟2中，刮刀和柔性基片之間狹縫距離為50到200μm。

優(yōu)選的，步驟2中，所述滴加的鈣鈦礦溶液的體積與鈣鈦礦薄膜面積關(guān)系為3～5μl/cm²。

優(yōu)選的，步驟1中，制備鈣鈦礦溶液時(shí)；

將有機(jī)-無機(jī)鹵素鈣鈦礦前聚體加入有機(jī)溶劑中，濃度在0.5m到1.2m之間；將混合均勻后的溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌四小時(shí)以上；以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯過濾膜過濾得到鈣鈦礦溶液備用；

其中，所述有機(jī)-無機(jī)鹵素鈣鈦礦分別為mapbi3或mapbbr3；其對(duì)應(yīng)的前聚體分別為mai和pbi2，以及mabr和pbbr2；對(duì)應(yīng)的前聚體的摩爾配比為mai:pbi2＝1:(0.5-1.5)，mabr:pbbr2＝1:(0.5-1.5)；

所述的有機(jī)溶劑分別為二甲基甲酰胺、二甲基亞砜或γ-丁內(nèi)酯。

進(jìn)一步，根據(jù)不同的鈣鈦礦溶液，所述熱臺(tái)溫度分別為當(dāng)采用二甲基甲酰胺溶液時(shí)的80-120℃，當(dāng)采用二甲基亞砜溶液時(shí)的110-140℃，當(dāng)采用γ-丁內(nèi)酯溶液時(shí)的120-150℃。

優(yōu)選的，步驟3中退火時(shí)，將制備得到的鈣鈦礦柔性薄膜放置在80℃到150℃熱臺(tái)上熱退火8-10分鐘。

優(yōu)選的，步驟2中，所述的柔性襯底為柔性pet薄膜。

一種鈣鈦礦柔性光探測(cè)器，由本發(fā)明所述的制備方法制備得到。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下有益的技術(shù)效果：

本發(fā)明的鈣鈦礦光探測(cè)器中的鈣鈦礦薄膜為單向刮刀法制備的單晶鈣鈦礦取向纖維晶。該薄膜相比較于傳統(tǒng)旋涂法制備的鈣鈦礦薄膜，在性能上具有結(jié)晶質(zhì)量高，晶界少，吸收波段寬，載流子壽命長(zhǎng)，空氣穩(wěn)定好等優(yōu)點(diǎn)，在制備技術(shù)上，成本低，生產(chǎn)工藝簡(jiǎn)單，能耗低而且能大規(guī)模生產(chǎn)?；诒景l(fā)明的鈣鈦礦柔性光探測(cè)器具有十分優(yōu)異的光探測(cè)率、光響應(yīng)度、彎曲穩(wěn)定性和器件壽命。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實(shí)例中所述方法制備的鈣鈦礦取向單晶纖維柔性薄膜掃描電鏡圖。

圖2a為本發(fā)明實(shí)例中所述方法制備的鈣鈦礦取向單晶纖維柔性薄膜的透射電鏡電子衍射圖。

圖2b為本發(fā)明實(shí)例中所述方法制備的鈣鈦礦取向單晶纖維柔性薄膜的廣角掠入射x-射線衍射圖。

圖3a為本發(fā)明實(shí)例中所述方法制備的鈣鈦礦取向單晶纖維柔性薄膜的紫外吸收光譜圖；以普通旋涂法制備的鈣鈦礦納米顆粒薄膜作為參照物。

圖3b為本發(fā)明實(shí)例中所述方法制備的鈣鈦礦取向單晶纖維柔性薄膜的時(shí)間分辨光致發(fā)光譜圖；以普通旋涂法制備的鈣鈦礦納米顆粒薄膜作為參照物。

圖4a為本發(fā)明實(shí)例中所述方法制備的鈣鈦礦取向單晶纖維柔性光探測(cè)器在560nm波長(zhǎng)的光響應(yīng)；以普通旋涂法制備的鈣鈦礦納米顆粒薄膜作為參照物。

圖4b為本發(fā)明實(shí)例中所述方法制備的鈣鈦礦取向單晶纖維柔性光探測(cè)器在560nm波長(zhǎng)的光探測(cè)率；以普通旋涂法制備的鈣鈦礦納米顆粒薄膜作為參照物。

圖5a為本發(fā)明實(shí)例中所述方法制備的鈣鈦礦取向單晶纖維柔性光探測(cè)器的彎曲測(cè)試。

圖5b為本發(fā)明實(shí)例中所述方法制備的鈣鈦礦取向單晶纖維柔性光探測(cè)器的空氣中壽命測(cè)試。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的詳細(xì)說明，所述是對(duì)本發(fā)明的解釋而不是限定。

本發(fā)明一種鈣鈦礦的寬波段柔性光探測(cè)器的制備方法，包括如下步驟：

步驟1，選取高品質(zhì)對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(pet)的規(guī)整柔性基片，分別在丙酮、乙醇、異丙醇中超聲清洗15分鐘，然后用氮?dú)獯蹈煞湃胙醯入x子體處理5分鐘待用；

步驟2，將有機(jī)-無機(jī)鹵素鈣鈦礦前聚體加入有機(jī)溶劑中，濃度在0.5m到1.2m之間。將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。其中，所述有機(jī)-無機(jī)鹵素鈣鈦礦分別為mapbi3和mapbbr3。其前聚體分別為mai和pbi2，以及mabr和pbbr2。前聚體的摩爾配比為mai:pbi2＝1:(0.5-1.5)，mabr:pbbr2＝1:(0.5-1.5)。所述鈣鈦礦的有機(jī)溶劑為其良溶劑，分別為二甲基甲酰胺(dmf)，γ-丁內(nèi)酯(gbl)和二甲基亞砜(dmso)。

步驟3，將清洗干凈的pet基片固定在平整的熱臺(tái)上，并在80-140℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平基片夾角為30-90°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為50-200μm。取一定量鈣鈦礦溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以1-50mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀，拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在pet基片上成膜。其中，所述刮涂環(huán)境為低于80％濕度的空氣或者氮?dú)猸h(huán)境；根據(jù)溶液性質(zhì)不同，所述熱臺(tái)溫度分別為dmf溶液時(shí)的80-100℃,dmso溶液時(shí)的110-130℃以及gbl溶液時(shí)的120-140℃；所述滴加的鈣鈦礦溶液的體積與鈣鈦礦薄膜面積關(guān)系為：3～5μl/cm²，根據(jù)要制備的鈣鈦礦柔性薄膜尺寸，滴加相應(yīng)體積的鈣鈦礦溶液。

步驟4，停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到100℃熱臺(tái)上熱退火8-10分鐘。所制備的鈣鈦礦薄膜通過掃描電子顯微鏡形貌測(cè)試，可以觀察到高度取向的纖維晶體，如圖1a和圖1b所示；通過透射電子顯微鏡和廣角掠入射x-射線衍射晶體結(jié)構(gòu)測(cè)試，可以確定纖維晶具有單晶性質(zhì)，如圖2a和圖2b所示；通過紫外吸收光譜薄膜光吸收性質(zhì)測(cè)試，可以觀察到取向單晶纖維薄膜比傳統(tǒng)納米顆粒薄膜具有更寬的光吸收，如圖3a所示；通過時(shí)間分辨光致發(fā)光光譜光生載流子壽命測(cè)試，可以觀察到取向單晶纖維薄膜內(nèi)載流子的壽命比傳統(tǒng)納米顆粒薄膜更長(zhǎng)，如圖3b所示。其中，所述熱退火環(huán)境為低于80％濕度的空氣或者氮?dú)猸h(huán)境。

步驟5，將熱退火完畢的鈣鈦礦柔性薄膜轉(zhuǎn)入蒸發(fā)室內(nèi)，輔以掩模版進(jìn)行金電極的蒸鍍。金電極間鈣鈦礦薄膜有效尺寸為40μm寬、1mm長(zhǎng)。金電極300nm厚。光照有效面積為2.7×10^-7m²。

步驟6，keithley2400sourcemeter儀器平臺(tái)上配置可見光在480nm到750nm區(qū)間不同波段的激光光源，分別調(diào)節(jié)激光輸出波段和輸出功率(0.08到0.5mw/cm²)，測(cè)試鈣鈦礦柔性光探測(cè)器探測(cè)率和響應(yīng)性，如圖4a和圖4b所示。

步驟7，分別將新鮮制備的鈣鈦礦柔性光探測(cè)器通過1000次的彎曲測(cè)試穩(wěn)定性，如圖5a所示，以及在50-70％濕度的空氣環(huán)境中暴露48小時(shí)后的器件壽命，如圖5b所示。

本發(fā)明采用刮刀法制備出鈣鈦礦取向纖維晶的柔性光探測(cè)器。本發(fā)明的鈣鈦礦光探測(cè)器的制備方法充分利用了低成本的刮涂印刷技術(shù)，生產(chǎn)工藝簡(jiǎn)單，能耗低而且能大規(guī)模生長(zhǎng)。所制備的鈣鈦礦薄膜結(jié)晶質(zhì)量高，晶界少，吸收波段寬，載流子壽命長(zhǎng)，空氣穩(wěn)定好?；诒景l(fā)明的鈣鈦礦柔性光探測(cè)器具有十分優(yōu)異的光探測(cè)率、光響應(yīng)度、彎曲穩(wěn)定性和器件壽命。

實(shí)施例1

本發(fā)明最好的實(shí)施方式是將1.0mmapbi3的前聚體mai和pbi2以1:1摩爾比加入到二甲基甲酰胺(dmf)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在100℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為50°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為100μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以10mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到100℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。所制備的鈣鈦礦薄膜通過形貌和晶體結(jié)構(gòu)測(cè)試，以及光響應(yīng)、探測(cè)率、彎曲穩(wěn)定性和空氣中壽命測(cè)試。

實(shí)施例2

將0.5mmapbi3的前聚體mai和pbi2以1:1摩爾比加入到二甲基甲酰胺(dmf)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在80℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為50°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為50μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以10mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到100℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例3

將1.2mmapbi3的前聚體mai和pbi2以1:1摩爾比加入到二甲基甲酰胺(dmf)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在90℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為50°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為100μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以1mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到80℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例4

將1.0mmapbi3的前聚體mai和pbi2以1:0.8摩爾比加入到二甲基甲酰胺(dmf)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在100℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為60°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為100μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以10mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到100℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例5

將1.0mmapbi3的前聚體mai和pbi2以1:1.2摩爾比加入到二甲基甲酰胺(dmf)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在110℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為90°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為120μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以30mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到100℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例6

將1.2mmapbi3的前聚體mai和pbi2以1:1摩爾比加入到二甲基亞砜(dmso)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在110℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為50°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為50μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以50mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到100℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例7

將1.0mmapbi3的前聚體mai和pbi2以1:0.5摩爾比加入到二甲基亞砜(dmso)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在120℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為50°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為100μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以10mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到100℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例8

將1.0mmapbi3的前聚體mai和pbi2以1:0.8摩爾比加入到二甲基亞砜(dmso)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×10cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在130℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為50°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為200μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以10mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到100℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例9

將1.0mmapbi3的前聚體mai和pbi2以1:1.5摩爾比加入到二甲基亞砜(dmso)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在140℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為30°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為150μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以30mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到100℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例10

將1.5mmapbi3的前聚體mai和pbi2以1:1摩爾比加入到γ-丁內(nèi)酯(gbl)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在120℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為90°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為100μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以30mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到80℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例11

將1.0mmapbi3的前聚體mai和pbi2以1:1摩爾比加入到γ-丁內(nèi)酯(gbl)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在130℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為50°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為100μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以1mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到100℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例12

將1.2mmapbi3的前聚體mai和pbi2以1:1摩爾比加入到γ-丁內(nèi)酯(gbl)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在150℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為50°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為100μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以30mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到100℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例13

將1.0mmapbi3的前聚體mai和pbi2以1:1摩爾比加入到二甲基甲酰胺(dmf)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在100℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為60°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為100μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以5mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到80℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例14

將1.0mmapbi3的前聚體mai和pbi2以1:1摩爾比加入到二甲基甲酰胺(dmf)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在100℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為50°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為100μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以20mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到150℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例15

將1.0mmapbi3的前聚體mai和pbi2以1:1摩爾比加入到二甲基甲酰胺(dmf)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在100℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為50°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為100μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以30mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到100℃熱臺(tái)上熱退火5分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例16

將1.0mmapbbr3的前聚體mabr和pbbr2以1:1摩爾比加入到二甲基甲酰胺(dmf)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在80℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為50°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為150μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以50mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到100℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例17

將1.0mmapbbr3的前聚體mabr和pbbr2以1:1.2摩爾比加入到二甲基甲酰胺(dmf)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在100℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為50°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為100μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以5mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到150℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例18

將1.0mmapbbr3的前聚體mabr和pbbr2以1:0.8摩爾比加入到二甲基甲酰胺(dmf)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在100℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為50°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為50μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以5mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到150℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例19

將1.0mmapbbr3的前聚體mabr和pbbr2以1:1摩爾比加入到二甲基亞砜(dmso)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在110℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為50°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為100μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以5mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到150℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例20

將1.0mmapbbr3的前聚體mabr和pbbr2以1:1摩爾比加入到二甲基亞砜(dmso)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在120℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為50°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為100μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以5mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到100℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例21

將1.0mmapbbr3的前聚體mabr和pbbr2以1:1摩爾比加入到二甲基亞砜(dmso)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(2×10cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在140℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為50°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為100μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以5mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到80℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例22

將0.8mmapbbr3的前聚體mabr和pbbr2以1:1摩爾比加入到γ-丁內(nèi)酯(gbl)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在120℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為50°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為100μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以5mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到150℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例23

將1.2mmapbbr3的前聚體mabr和pbbr2以1:1摩爾比加入到γ-丁內(nèi)酯(gbl)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在130℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為90°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為200μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以5mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到100℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。

實(shí)施例24

將0.8mmapbbr3的前聚體mabr和pbbr2以1:1摩爾比加入到γ-丁內(nèi)酯(gbl)溶劑中，將溶液置于60℃下攪拌2小時(shí)，然后冷卻至室溫并攪拌過夜。溶液使用前以0.45μm孔徑的聚四氟乙烯(ptfe)過濾膜過濾。

將清洗干凈的pet基片(3×3cm²)固定在平整的熱臺(tái)上，并在150℃溫度下預(yù)熱5分鐘。固定刮刀并調(diào)節(jié)刮刀與水平夾角為50°。調(diào)節(jié)刮刀和基片之間狹縫距離為100μm。取40μlmai:pbi2的dmf溶液填充基片和刮刀之間的狹縫。以50mm/min的速度單向水平移動(dòng)刮刀拖動(dòng)鈣鈦礦溶液在基片上成膜。

停止刮涂后，轉(zhuǎn)移鈣鈦礦柔性薄膜到120℃熱臺(tái)上熱退火10分鐘。其他步驟與實(shí)施例1相同。