本申請涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示面板及其制作方法、顯示裝置。

背景技術(shù)：

平面顯示器(f1atpane1disp1ay，fpd)己成為市場上的主流產(chǎn)品，平面顯示器的種類也越來越多，如液晶顯示器(liquidcrysta1disp1ay，lcd)、有機發(fā)光二極管(organiclightemitteddiode，oled)顯示器、等離子體顯示面板(p1asmadisp1aypane1，pdp)及場發(fā)射顯示器(fieldemissiondisplay，fed)等。

現(xiàn)有技術(shù)的顯示面板通常會用到色阻膜層，例如，lcd顯示面板通常會在背光模組的出光側(cè)設(shè)置色阻膜層，以將背光模組的光轉(zhuǎn)換為不同光色的光。oled顯示面板也可以通過白光oled器件搭配色阻膜層實現(xiàn)顯示。

但對于現(xiàn)有技術(shù)的顯示面板，顯示面板的光在經(jīng)過色阻膜層后，通常會使顯示面板的亮度降低，而且，通過多次曝光制作的色阻膜層也導(dǎo)致顯示面板的制作工序較為復(fù)雜，制作成本較高的問題。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本申請?zhí)峁┮环N顯示面板及其制作方法、顯示裝置，以提高顯示面板的亮度，以及解決通過多次曝光制作色阻膜層導(dǎo)致的顯示面板的制作工序較為復(fù)雜，制作成本較高的問題。

本申請實施例提供一種顯示面板，包括多個呈陣列分布的像素單元，每一所述像素單元包括多個子像素單元，所述顯示面板在所述像素單元的出光側(cè)設(shè)置有光子晶體膜層，所述光子晶體膜層具有與每一所述子像素單元一一對應(yīng)的光子晶體區(qū)域，每一所述光子晶體區(qū)域設(shè)置有多個均勻排列的微孔結(jié)構(gòu)，且每一所述光子晶體區(qū)域的所述微孔結(jié)構(gòu)的孔徑與該所述光子晶體區(qū)域?qū)?yīng)的所述子像素單元出射的光色相對應(yīng)。

優(yōu)選的，每一所述光子晶體區(qū)域的所述微孔結(jié)構(gòu)的孔徑與該所述光子晶體區(qū)域?qū)?yīng)的所述子像素單元出射的光波長成正比。

優(yōu)選的，所述微孔結(jié)構(gòu)在所述光子晶體膜層上單層分布。

優(yōu)選的，所述微孔結(jié)構(gòu)的深度等于所述光子晶體膜層的厚度。

優(yōu)選的，每一所述光子晶體區(qū)域的相鄰兩個所述微孔結(jié)構(gòu)的中心的間距為100nm～1000nm。

優(yōu)選的，所述光子晶體膜層的材質(zhì)為感光樹脂材料、硅基半導(dǎo)體材料或金屬氧化物半導(dǎo)體材料。

優(yōu)選的，每一所述像素單元包括：第一子像素單元、第二子像素單元以及第三子像素單元，所述光子晶體膜層包括：與所述第一子像素單元對應(yīng)的第一光子晶體區(qū)域、與所述第二子像素單元對應(yīng)的第二光子晶體區(qū)域以及與所述第三子像素單元對應(yīng)的第三光子晶體區(qū)域，所述第一光子晶體區(qū)域的所述微孔結(jié)構(gòu)的孔徑與所述第一子像素單元出射的光色相對應(yīng)，所述第二光子晶體區(qū)域的所述微孔結(jié)構(gòu)的孔徑與所述第二子像素單元出射的光色相對應(yīng)，所述第三光子晶體區(qū)域的所述微孔結(jié)構(gòu)的孔徑與所述第三子像素單元出射的光色相對應(yīng)。

優(yōu)選的，所述顯示面板為oled顯示面板，所述顯示面板還包括白光oled器件。

本申請實施例還提供一種顯示裝置，包括本申請實施例提供的所述的顯示面板。

本申請實施例還提供一種顯示面板的制作方法，其中，所述顯示面板包括多個呈陣列分布的像素單元，每一所述像素單元包括多個子像素單元，所述制作方法包括：

在顯示面板的出光側(cè)形成第一薄膜層；

在所述第一薄膜層的與所述子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成與該所述子像素單元出射的光色相對應(yīng)孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，所述微孔結(jié)構(gòu)均勻排列。

優(yōu)選的，所述顯示面板的每一所述像素單元包括第一子像素單元、第二子像素單元以及第三子像素單元；

所述在所述第一薄膜層的與所述子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成與該所述子像素單元出射的光色相對應(yīng)孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，具體包括：在所述第一薄膜層的與所述第一子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第一孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在所述第一薄膜層的與所述第二子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第二孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在所述第一薄膜層的與所述第三子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第三孔徑的微孔結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選的，所述第一薄膜層為硅基半導(dǎo)體材料或金屬氧化物半導(dǎo)體材料時；

所述在所述第一薄膜層的與所述第一子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第一孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在所述第一薄膜層的與所述第二子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第二孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在所述第一薄膜層的與所述第三子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第三孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，具體包括：

在所述第一薄膜層之上涂覆一層光刻膠；

在所述光刻膠層之上形成聚合物分子膜層，其中，所述聚合物分子膜層具有以預(yù)設(shè)間距均勻排列的聚合物分子；

在掩模板的遮擋下，以第一傾斜角度的光照射第一預(yù)設(shè)時長后，平移所述掩模板一個所述光子晶體區(qū)域的距離，以第二傾斜角度的光照射第二預(yù)設(shè)時長后，平移所述掩模板一個所述光子晶體區(qū)域的距離，以具有第三傾斜角度的光照射第三預(yù)設(shè)時長后，移去所述掩模板；

去除所述聚合物分子膜層；

通過顯影，形成所述光刻膠層的圖案；

在所述光刻膠層的圖案的遮擋下，去除部分所述第一薄膜層，以在所述第一薄膜層的與所述第一子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第一孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在所述第一薄膜層的與所述第二子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第二孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在所述第一薄膜層的與所述第三子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第三孔徑的微孔結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選的，所述第一薄膜層的材質(zhì)為感光樹脂材料時；

所述在所述第一薄膜層的與所述第一子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第一孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在所述第一薄膜層的與所述第二子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第二孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在所述第一薄膜層的與所述第三子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第三孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，具體包括：

在所述第一薄膜層之上形成聚合物分子膜層，其中，所述聚合物分子膜層具有以預(yù)設(shè)間距均勻排列的聚合物分子；

在掩模板的遮擋下，以第一傾斜角度的光照射第一預(yù)設(shè)時長后，平移所述掩模板一個所述光子晶體區(qū)域的距離，以第二傾斜角度的光照射第二預(yù)設(shè)時長后，平移所述掩模板一個所述光子晶體區(qū)域的距離，以具有第三傾斜角度的光照射第三預(yù)設(shè)時長后，移去所述掩模板；

去除所述聚合物分子膜層；

通過顯影，去除部分所述第一薄膜層，以在所述第一薄膜層的與所述第一子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第一孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在所述第一薄膜層的與所述第二子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第二孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在所述第一薄膜層的與所述第三子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第三孔徑的微孔結(jié)構(gòu)。

優(yōu)選的，所述形成聚合物分子膜層，具體包括：

根據(jù)需涂覆的面積以及聚合物分子直徑，獲取需要的聚合物分子的數(shù)量；

根據(jù)需要的聚合物分子的數(shù)量以及聚合物溶液的密度，獲取需要的聚合物溶液的體積；

采用滴注的方法，在需要涂覆的區(qū)域滴注聚合物溶液。

優(yōu)選的，所述顯示面板為oled顯示面板；

所述在顯示面板的出光側(cè)形成第一薄膜層，之前，所述制作方法還包括：形成白光oled器件；

所述在顯示面板的出光側(cè)形成第一薄膜層，具體包括：在所述白光oled器件的出光側(cè)形成第一薄膜層。

本申請實施例有益效果如下：本申請實施例提供的顯示面板，通過在出光側(cè)設(shè)置光子晶體膜層，該光子晶體膜層設(shè)置有與子像素單元一一對應(yīng)的光子晶體區(qū)域，每一光子晶體區(qū)域設(shè)置有多個均勻排列的微孔結(jié)構(gòu)，且每一光子晶體區(qū)域的所述微孔結(jié)構(gòu)的孔徑與該光子晶體區(qū)域?qū)?yīng)的子像素單元出射的光色相對應(yīng)。由于具有一定孔徑且周期性均勻排列的微孔結(jié)構(gòu)可以透過相應(yīng)波長的光，而阻擋其它波長的光，進而顯示面板的光在經(jīng)過不同的光子晶體區(qū)域后，可以轉(zhuǎn)換為不同光色的光，使得光子晶體膜層可以替代傳統(tǒng)的色阻膜層，進而可以提高顯示面板的亮度，以及解決通過多次曝光制作色阻膜層導(dǎo)致的顯示面板的制作工序較為復(fù)雜，制作成本較高的問題。

附圖說明

圖1為本申請實施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本申請實施例提供的一種具有相等孔徑的光子晶體膜層；

圖3為本申請實施例提供的一種顯示面板的制備方法的流程圖；

圖4為本申請實施例一中，制備完成第一薄膜層的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本申請實施例一中，制備完成光刻膠層的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本申請實施例一中，制備完成聚合物分子的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7為本申請實施例一中，以第一傾斜角照射顯示面板時的示意圖；

圖8為本申請實施例一中，以第二傾斜角照射顯示面板時的示意圖；

圖9為本申請實施例一中，以第三傾斜角照射顯示面板時的示意圖；

圖10為本申請實施例一中，形成圖案化的光刻膠層的顯示面板結(jié)構(gòu)示意圖；

圖11為本申請實施例一中，在不同的光子晶體區(qū)域形成不同孔徑的微孔結(jié)構(gòu)的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖12為本申請實施例二中，制備完成光刻膠層的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖13為本申請實施例二中，制備完成聚合物分子的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖14為本申請實施例二中，以第一傾斜角照射顯示面板時的示意圖；

圖15為本申請實施例二中，以第二傾斜角照射顯示面板時的示意圖；

圖16為本申請實施例二中，以第三傾斜角照射顯示面板時的示意圖；

圖17為本申請實施例二中，在不同的光子晶體區(qū)域形成不同孔徑的微孔結(jié)構(gòu)的顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

下面結(jié)合說明書附圖對本申請實施例的實現(xiàn)過程進行詳細說明。需要注意的是，自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本申請，而不能理解為對本申請的限制。

參見圖1所示，本申請實施例提供一種顯示面板，包括多個呈陣列分布的像素單元，每一像素單元包括多個子像素單元，顯示面板在像素單元的出光側(cè)設(shè)置有光子晶體膜層3，光子晶體膜層3具有與每一子像素單元一一對應(yīng)的光子晶體區(qū)域，每一光子晶體區(qū)域設(shè)置有多個均勻排列的微孔結(jié)構(gòu)34，且每一光子晶體區(qū)域的微孔結(jié)構(gòu)34的孔徑與該光子晶體區(qū)域?qū)?yīng)的子像素單元出射的光色相對應(yīng)。

具體的，例如，顯示面板包括光源2，光源2分布有多個像素單元(圖1中以其中的一個像素單元進行舉例說明)，每一像素單元可以包括有三個子像素單元，每一像素單元包括：第一子像素單元21、第二子像素單元22以及第三子像素單元23。具體的，光子晶體膜層3包括多個呈陣列分布的光子晶體單元，每一光子晶體單元包括：與第一子像素單元21對應(yīng)的第一光子晶體區(qū)域31、與第二子像素單元22對應(yīng)的第二光子晶體區(qū)域32以及與第三子像素單元23對應(yīng)的第三光子晶體區(qū)域33，第一光子晶體區(qū)域31的微孔結(jié)構(gòu)34的孔徑與第一子像素單元21出射的光色相對應(yīng)，第二光子晶體區(qū)域32的微孔結(jié)構(gòu)34的孔徑與第二子像素單元22出射的光色相對應(yīng)，第三光子晶體區(qū)域33的微孔結(jié)構(gòu)34的孔徑與第三子像素單元23出射的光色相對應(yīng)。即，在具體實施時，若需要使第一子像素單元21出射紅光，則可以在第一光子晶體區(qū)域31設(shè)置孔徑與紅光對應(yīng)的微孔結(jié)構(gòu)34；若需要在第二子像素單元22出射綠光，則可以在第二光子晶體區(qū)域32設(shè)置孔徑與綠光對應(yīng)的微孔結(jié)構(gòu)34，若需要在第三子像素單元23出射藍光，在可以在第三光子晶體區(qū)域33設(shè)置孔徑與藍光對應(yīng)的微孔結(jié)構(gòu)34。具體的，由于光子晶體區(qū)域透射的光的顏色與孔徑成正比，即，例如，透射紅光一般需要的微孔的孔徑較大，而透射藍光的孔徑較小，而透射綠光的孔徑居于二者之間，而光的顏色一般與波長對應(yīng)，即，為了實現(xiàn)讓不同的子像素單元出射不同光色的光，可以設(shè)置使每一光子晶體區(qū)域的微孔結(jié)構(gòu)的孔徑與該光子晶體區(qū)域?qū)?yīng)的子像素單元出射的光波長成正比。

需要說明的是，光子晶體是一種空間呈現(xiàn)周期性分布的新型光學(xué)材料。光子晶體夠調(diào)制具有相應(yīng)波長的電磁波，當(dāng)電磁波在光子晶體結(jié)構(gòu)中傳播時，由于存在布拉格散射而受到調(diào)制，電磁波能量形成能帶結(jié)構(gòu)，能帶與能帶之間出現(xiàn)帶隙，即光子帶隙，所有能量處在光子帶隙的光子，不能進入該晶體，即，只有某種頻率的光才會在某種周期距離一定的光子晶體中被完全禁止傳播，從而被透射出來。本申請通過在不同光子晶體區(qū)域設(shè)置孔徑不同的微孔結(jié)構(gòu)，由于孔徑大小不同，使光子晶體膜層的不同光子晶體區(qū)域具有不同的介質(zhì)復(fù)合折射率，進而可以出射不同光色的光。圖2為本申請實施例提供的一種具有特定孔徑的光子晶體膜層。

由于一般只有周期性間距在亞微米級范圍內(nèi)的微孔結(jié)構(gòu)才可以起到對光的調(diào)制作用，因此，優(yōu)選的，本申請實施例中任一光子晶體區(qū)域中相鄰兩個微孔結(jié)構(gòu)的中心的間距均在100nm～1000nm。

優(yōu)選的，為了使顯示面板具有較高的亮度，微孔結(jié)構(gòu)在光子晶體膜層上單層分布。進一步，優(yōu)選的，微孔結(jié)構(gòu)的深度等于光子晶體膜層的厚度，即微孔結(jié)構(gòu)是貫穿光子晶體膜層的。

在具體實施時，所述光子晶體膜層的材質(zhì)可以為感光樹脂材料、硅基半導(dǎo)體材料或金屬氧化物半導(dǎo)體材料。

優(yōu)選的，本申請實施例的所述顯示面板為oled顯示面板，所述顯示面板還包括白光oled器件。對于現(xiàn)有技術(shù)的oled顯示面板，通常有兩種結(jié)構(gòu)，一種是白光oled搭配彩膜實現(xiàn)顯示，該種結(jié)構(gòu)的oled顯示面板，工藝制作流程相對較長，同時器件的輕薄化方面存在局限。另一種為rgb三基色獨立顯示，該種結(jié)構(gòu)的oled結(jié)構(gòu)，由于在蒸鍍工藝過程中，需要用到高精度掩模板(finemetalmask，fmm)，而fmm目前的技術(shù)水平目前可以實現(xiàn)的像素密度(pixelsperinch，ppi)范圍在1000以下，因此也限制了該結(jié)構(gòu)的oled顯示器件在未來高甚至超高ppi產(chǎn)品中的應(yīng)用，而且，rgb三基色獨立顯示的oled顯示面板，還存在由于藍光材料的壽命較短而導(dǎo)致oled顯示面板的壽命較短的問題。本申請實施例通過在oled器件上制備一層光子晶體薄膜層(該光子晶體膜層存在三種以上的光子晶體區(qū)域，分別用于透射至少包括紅綠藍三個波段的光線)，從而取代傳統(tǒng)色阻膜層中紅色色阻、綠色色阻、以及藍色色阻的位置及功能，避免了傳統(tǒng)工藝中彩膜色阻對光亮度的損失以及多次曝光引起的成本增加和工藝復(fù)雜的問題，可以使oled顯示面板實現(xiàn)高亮度、高色域的同時，還能夠確保器件具有更長的顯示壽命、更高的像素密度。

本申請實施例還提供一種顯示裝置，包括本申請實施例提供的顯示面板。

參見圖3，本申請實施例還提供一種顯示面板的制作方法，其中，顯示面板包括多個呈陣列分布的像素單元，每一像素單元包括多個子像素單元，制作方法包括：

步驟101、在顯示面板的出光側(cè)形成第一薄膜層；

步驟102、在第一薄膜層的與子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成與該子像素單元出射的光色相對應(yīng)孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，微孔結(jié)構(gòu)均勻排列。

優(yōu)選的，顯示面板的每一像素單元包括第一子像素單元、第二子像素單元以及第三子像素單元；關(guān)于步驟102，在第一薄膜層的與子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成與該子像素單元出射的光色相對應(yīng)孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，具體包括：在第一薄膜層的與第一子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第一孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在第一薄膜層的與第二子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第二孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在第一薄膜層的與第三子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第三孔徑的微孔結(jié)構(gòu)。

在具體實施時，第一薄膜層可以為硅基半導(dǎo)體材料或金屬氧化物半導(dǎo)體材料，也可以為感光樹脂材料時，當(dāng)然，也可以為其它可以刻蝕成具有孔洞結(jié)構(gòu)的任意材料。優(yōu)選的，為了簡化工藝制作，第一薄膜層選取硅基半導(dǎo)體材料。

關(guān)于如何在第一薄膜層的與第一子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第一孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在第一薄膜層的與第二子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第二孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在第一薄膜層的與第三子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第三孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，以下分別進行詳細舉例說明。

例如，第一薄膜層為現(xiàn)有技術(shù)中的顯示面板常用的可以刻蝕成微孔結(jié)構(gòu)的硅基半導(dǎo)體材料或金屬氧化物半導(dǎo)體材料，則，在第一薄膜層的與第一子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第一孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在第一薄膜層的與第二子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第二孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在第一薄膜層的與第三子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第三孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，具體包括：

在第一薄膜層之上涂覆一層光刻膠；

在光刻膠層之上形成聚合物分子膜層，其中，聚合物分子膜層具有以預(yù)設(shè)間距均勻排列的聚合物分子，其中，預(yù)設(shè)間距可以為相鄰兩個聚合物分子的中心的間距；

在掩模板的遮擋下，以第一傾斜角度的光照射第一預(yù)設(shè)時長后，平移掩模板一個光子晶體區(qū)域的距離，以第二傾斜角度的光照射第二預(yù)設(shè)時長后，平移掩模板一個光子晶體區(qū)域的距離，以具有第三傾斜角度的光照射第三預(yù)設(shè)時長后，移去掩模板；

去除聚合物分子膜層；

通過顯影，形成光刻膠層的圖案；

在光刻膠層的圖案的遮擋下，去除部分第一薄膜層，以在第一薄膜層的與第一子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第一孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在第一薄膜層的與第二子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第二孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在第一薄膜層的與第三子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第三孔徑的微孔結(jié)構(gòu)。

又例如，第一薄膜層的材質(zhì)為感光樹脂材料時，在第一薄膜層的與第一子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第一孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在第一薄膜層的與第二子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第二孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在第一薄膜層的與第三子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第三孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，具體包括：

在第一薄膜層之上形成聚合物分子膜層，其中，聚合物分子膜層具有以預(yù)設(shè)間距均勻排列的聚合物分子；

在掩模板的遮擋下，以第一傾斜角度的光照射第一預(yù)設(shè)時長后，平移掩模板一個光子晶體區(qū)域的距離，以第二傾斜角度的光照射第二預(yù)設(shè)時長后，平移掩模板一個光子晶體區(qū)域的距離，以具有第三傾斜角度的光照射第三預(yù)設(shè)時長后，移去掩模板；

去除聚合物分子膜層；

通過顯影，去除部分第一薄膜層，以在第一薄膜層的與第一子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第一孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在第一薄膜層的與第二子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第二孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在第一薄膜層的與第三子像素單元對應(yīng)的區(qū)域形成第三孔徑的微孔結(jié)構(gòu)。

在具體實施時，關(guān)于形成聚合物分子膜層，具體可以包括：

根據(jù)需涂覆的面積以及聚合物分子直徑，獲取需要的聚合物分子的數(shù)量；

根據(jù)需要的聚合物分子的數(shù)量以及聚合物溶液的密度，獲取需要的聚合物溶液的體積；

采用滴注的方法，在需要涂覆的區(qū)域滴注聚合物溶液。

在具體實施時，對于顯示面板為oled顯示面板，在顯示面板的出光側(cè)形成第一薄膜層，之前，制作方法還包括：形成白光oled器件；

在顯示面板的出光側(cè)形成第一薄膜層，具體包括：在白光oled器件的出光側(cè)形成第一薄膜層。

當(dāng)然，以上僅是通過移動掩模板與不同的曝光方向?qū)崿F(xiàn)在第一薄膜層上的不同光子晶體區(qū)域制作不同孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，在具體實施時，還可以涂覆一層聚合物分子，通過在不同光子晶體區(qū)域調(diào)節(jié)光源與覆蓋聚合物分子的顯示面板的距離，來實現(xiàn)在不同的光子區(qū)域形成不同孔徑的微孔結(jié)構(gòu)，即，由于曝光距離的遠近不同也可以實現(xiàn)形成的孔徑不同的微孔結(jié)構(gòu)。另外，還可以通過在不同的光子晶體區(qū)域形成分子直徑大小的聚合物，進而實現(xiàn)在不同光子晶體區(qū)域形成不同孔徑的微孔結(jié)構(gòu)。

為了更詳細的對本申請?zhí)峁┑慕饘傺趸锉∧ぞw管的制備方法進行說明，結(jié)合附圖4至附圖17舉例如下：

實施例一

本發(fā)明實施例提供第一種具體的顯示面板的制備方法，包括：

步驟一，在襯底基板1上形成光源2，例如，在玻璃基板上形成oled白光器件。具體形成oled白光器件的步驟與現(xiàn)有技術(shù)形成oled白光器件的步驟相同，在此不再贅述。

步驟二、在背光源2的出光側(cè)形成第一薄膜層30。此處的第一薄膜層為硅基半導(dǎo)體材料。在光源2之上形成第一薄膜層30后的示意圖如圖4所示。

步驟三、在第一薄膜層30上涂覆一層光刻膠層40。在第一薄膜層30之上形成光刻膠層40后的示意圖如圖5所示。

步驟四、采用膠體自組織的方法在光刻膠層40上形成周期性均勻排列的聚合物分子5。在光刻膠層40之上形成聚合物分子5后的示意圖如圖6所示。

具體采用膠體自組織的方法在光刻膠層上形成周期性的聚合物分子的步驟包括：

根據(jù)需涂覆的面積以及聚合物分子直徑，獲取需要的聚合物分子的數(shù)量；

根據(jù)需要的聚合物分子的數(shù)量以及聚合物溶液的密度，獲取需要的聚合物溶液的體積，此處聚合物溶液的密度可指單位體積溶液中包含的聚合物分子數(shù)量；

采用滴注的方法，在需要涂覆的區(qū)域滴注聚合物溶液。

需要說明的是，本申請實施例提供的聚合物分子是已經(jīng)制備出來的，為具有明確規(guī)格的懸濁液，聚合物分子的分子直徑大小以及聚合物溶液的密度均為已知，為一種原材料，杜邦等公司均有相關(guān)的產(chǎn)品。膠體自組織的方法是目前制備光子晶體常用的方法之一。通過將聚合物分子(如聚苯乙烯)分散在溶液里，聚合物分子一般為亞微米數(shù)量級，各聚合物分子在短程靜電作用及長程范德華力的作用下以一種精確有序的方式聚集在一起，自發(fā)排列形成規(guī)則的有序結(jié)構(gòu)。

步驟五、在掩模板6的遮擋下，以第一傾斜角度的光照射第一預(yù)設(shè)時長，參見圖7所示，平移掩模板6一個光子晶體區(qū)域的距離，以第二傾斜角度的光照射第二預(yù)設(shè)時長，參見圖8所示；平移掩模板一個光子晶體區(qū)域的距離，以具有第三傾斜角度的光照射第三預(yù)設(shè)時長，參見圖9所示；移去掩模板。具體的掩模板6可以為在與每一個像素單元中的一個子像素單元的對應(yīng)區(qū)域設(shè)置有開口，進而通過掩模板的移動以及光照方向的調(diào)整，最終在不同的光子晶體區(qū)域形成不同孔徑的微孔結(jié)構(gòu)。

步驟六、去除聚合物分子膜層。

步驟七、通過顯影，形成圖案化的光刻膠層40，其中，圖案化的光刻膠層40包括與不同像子素單元對應(yīng)的不同孔徑的光刻膠層微孔41。由于被聚合物分子遮擋的光刻膠層未受到光照，經(jīng)過顯影工藝后就會被去除。形成圖案化的光刻膠層40后的示意圖如圖10所示。

步驟八、在圖案化的光刻膠層40的遮擋下，去除部分第一薄膜層30，以在第一薄膜層30的與第一子像素單元21對應(yīng)的區(qū)域形成第一孔徑的微孔結(jié)構(gòu)34，在第一薄膜層30的與第二子像素單元22對應(yīng)的區(qū)域形成第二孔徑的微孔結(jié)構(gòu)34，在第一薄膜層30的與第三子像素單元23對應(yīng)的區(qū)域形成第三孔徑的微孔結(jié)構(gòu)34，去圖案化的光刻膠層40，進而形成最終的光子晶體膜層3。形成光子晶體膜層3后的示意圖如圖11所示。

實施例二

本發(fā)明實施例提供第二種具體的顯示面板的制備方法，包括：

步驟一，在襯底基板1上形成光源2，例如，在玻璃基板上形成oled白光器件。具體形成oled白光器件的步驟與現(xiàn)有技術(shù)形成oled白光器件的步驟相同，在此不再贅述。

步驟二、在光源2的出光側(cè)涂覆一層光刻膠層40。此處的光刻膠層40即為第一薄膜層，也即，第一薄膜層為感光樹脂材料。在光源2的出光側(cè)形成光刻膠層40后的示意圖如圖12所示。

步驟四、采用膠體自組織的方法在光刻膠層40上形成周期性均勻排列的聚合物分子5。在光刻膠層40之上形成聚合物分子5后的示意圖如圖13所示。

具體采用膠體自組織的方法在光刻膠層上形成周期性的聚合物分子的步驟與實施例一相同，在此不再贅述。

步驟五、在掩模板6的遮擋下，以第一傾斜角度的光照射第一預(yù)設(shè)時長，參見圖14所示，平移掩模板6一個光子晶體區(qū)域的距離，以第二傾斜角度的光照射第二預(yù)設(shè)時長，參見圖15所示；平移掩模板一個光子晶體區(qū)域的距離，以具有第三傾斜角度的光照射第三預(yù)設(shè)時長，參見圖16所示；移去掩模板。具體的掩模板6為在與每一個像素單元中的一個子像素單元的對應(yīng)區(qū)域設(shè)置有一個開口，進而通過掩模板的移動以及光照方向的調(diào)整，最終在不同的光子晶體區(qū)域形成不同孔徑的微孔結(jié)構(gòu)。

步驟六、去除聚合物分子膜層。

步驟七、通過顯影，去除部分光刻膠層40，以在光刻膠層40的與第一子像素單元21對應(yīng)的區(qū)域形成第一孔徑的微孔結(jié)構(gòu)34，在光刻膠層40的與第二子像素單元22對應(yīng)的區(qū)域形成第二孔徑的微孔結(jié)構(gòu)34，在光刻膠層40的與第三子像素單元23對應(yīng)的區(qū)域形成第三孔徑的微孔結(jié)構(gòu)34，進而形成最終的光子晶體膜層3。形成光子晶體膜層3后的示意圖如圖17所示。

本申請實施例有益效果如下：本申請實施例提供的顯示面板，通過在出光側(cè)設(shè)置光子晶體膜層，該光子晶體膜層設(shè)置有與子像素單元一一對應(yīng)的光子晶體區(qū)域，每一光子晶體區(qū)域設(shè)置有多個均勻排列的微孔結(jié)構(gòu)，且每一光子晶體區(qū)域的微孔結(jié)構(gòu)的孔徑與該光子晶體區(qū)域?qū)?yīng)的子像素單元出射的光色相對應(yīng)。由于具有一定孔徑且周期性均勻排列的微孔結(jié)構(gòu)可以透過相應(yīng)波長的光，而阻擋其它波長的光，進而顯示面板的光在經(jīng)過不同的光子晶體區(qū)域后，可以轉(zhuǎn)換為不同光色的光，使得光子晶體膜層可以替代傳統(tǒng)的色阻膜層，進而可以提高顯示面板的亮度，以及解決通過多次曝光制作色阻膜層導(dǎo)致的顯示面板的制作工序較為復(fù)雜，制作成本較高的問題。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本申請進行各種改動和變型而不脫離本申請的精神和范圍。這樣，倘若本申請的這些修改和變型屬于本申請權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本申請也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。