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透明OLED面板和顯示裝置的制作方法

文檔序號:11679806閱讀:299來源:國知局
透明OLED面板和顯示裝置的制造方法

【技術領域】

本發(fā)明涉及顯示技術領域,尤其涉及一種透明oled面板和顯示裝置。



背景技術:

透明有機發(fā)光二極管(organiclight-emittingdiode,oled)顯示產品是指使用有機發(fā)光材料實現(xiàn)顯示功能,且具有透視效果的顯示產品。透明oled顯示產品包括顯示面板,顯示面板上設置有陰極層,如圖1所示,透明oled顯示產品的陰極層1具有鏤空區(qū)域2,以實現(xiàn)透明顯示效果。為制作圖1中陰極層1的圖案,需要使用掩膜版將鏤空區(qū)域2遮擋,然后通過蒸鍍工藝形成具有鏤空區(qū)域2的陰極層1。按照傳統(tǒng)的掩膜版設計思路,理想的掩膜版結構如圖2所示,掩膜版上的具有與圖1中的鏤空區(qū)域2對應的金屬遮擋結構30。然而,由于圖3中的各金屬遮擋結構30相互獨立浮空,因此在技術上圖3中所示的掩膜版是無法真正實現(xiàn)的,導致無法形成如圖1中所示的具有相互獨立的鏤空區(qū)域2的陰極層1結構。



技術實現(xiàn)要素:

有鑒于此,本發(fā)明實施例提供了一種透明oled面板和顯示裝置,能夠實現(xiàn)蒸鍍出具有相互獨立的鏤空區(qū)域的陰極層結構,并且在提高透過率的同時提高發(fā)光亮度。

一方面,提供一種透明oled面板,包括:

基板;

位于基板上的陣列層;

有機發(fā)光器件,位于所述陣列層背離所述基板一側;其中,在遠離所述基板的方向上,所述發(fā)光器件依次包含第一電極層、發(fā)光層和第二電極層,且所述第一電極層和所述第二電極層中的至少一個為陰極層,所述陰極層包括陰極區(qū)域和呈矩陣分布的多個鏤空區(qū)域,所述陰極區(qū)域包括多個連續(xù)覆蓋部和呈矩陣分布的多個窄部,在每行所述窄部中,多個所述窄部沿第一方向延伸并沿與所述第一方向垂直的第二方向排列,每相鄰的兩行鏤空區(qū)域之間設置有一個所述連續(xù)覆蓋部,在每行鏤空區(qū)域中,每相鄰的兩個鏤空區(qū)域之間設置有一個所述窄部,每個所述連續(xù)覆蓋部包括多個平坦區(qū)域和多個條狀凸起區(qū)域,所述多個平坦區(qū)域沿所述第二方向排列,所述多個條狀凸起區(qū)域沿所述第一方向延伸并沿所述第二方向排列,任意相鄰的兩個所述條狀凸起區(qū)域之間設置有一個所述平坦區(qū)域,任意相鄰的兩個所述平坦區(qū)域之間設置有一個所述條狀凸起區(qū)域,所述條狀凸起區(qū)域的陰極層厚度大于所述平坦區(qū)域的陰極層厚度;

沿所述第一方向延伸的信號線;

在垂直于所述面板所在平面的方向上,所述信號線的正投影和所述多個窄部中的至少部分窄部的正投影重疊,所述信號線的正投影和所述多個條狀凸起區(qū)域中的至少部分條狀凸起區(qū)域的正投影重疊。

另一方面,本發(fā)明實施例還提供一種顯示裝置,包括上述的透明oled面板。

本發(fā)明實施例中的透明oled面板和顯示裝置,能夠實現(xiàn)蒸鍍出具有相互獨立的鏤空區(qū)域的陰極層結構,并且,使能夠影響透過率的窄部和陰極層的條狀凸起區(qū)域均與信號線重疊,使陰極層對于透過率的影響降低,能夠在提高透過率的同時提高發(fā)光亮度。

【附圖說明】

為了更清楚地說明本發(fā)明實施例的技術方案,下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動性的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其它的附圖。

圖1為現(xiàn)有技術中一種透明oled面板的陰極層結構示意圖;

圖2為現(xiàn)有技術中一種理想的用于陰極層蒸鍍的掩膜版結構示意圖;

圖3為現(xiàn)有技術中一種用于陰極層蒸鍍的掩膜版結構示意圖;

圖4為使用圖3中的掩膜版進行第一次蒸鍍后得到的陰極層結構示意圖;

圖5為使用圖3中的掩膜版進行第二次蒸鍍后得到的陰極層結構示意圖;

圖6為圖5中aa’向的剖面結構示意圖;

圖7為現(xiàn)有技術中一種信號線與子像素單元對位后的結構示意圖;

圖8為現(xiàn)有技術中一種陰極層結構與子像素單元對位后的一種結構示意圖;

圖9為圖8中bb’向的剖面結構示意圖;

圖10為現(xiàn)有技術中一種陰極層結構與子像素單元對位后的另一種結構示意圖;

圖11為圖10中cc’向的剖面結構示意圖;

圖12為本發(fā)明實施例中一種透明oled面板的剖面結構示意圖;

圖13為本發(fā)明實施例中一種透明oled面板中陰極層的結構示意圖;

圖14為圖13中dd’向的剖面結構示意圖;

圖15為圖13中陰極層與信號線對位后的結構示意圖;

圖16為圖15中ee’向的剖面結構示意圖;

圖17為本發(fā)明實施例中一種用于陰極層蒸鍍的掩膜版結構示意圖;

圖18為使用圖17中的掩膜版進行第一次蒸鍍后得到的陰極層結構示意圖;

圖19為本發(fā)明實施例中一種透明oled面板中陰極層與信號線對位后的部分結構示意圖;

圖20為本發(fā)明實施例中另一種透明oled面板中陰極層與信號線對位后的部分結構示意圖;

圖21為本發(fā)明實施例中另一種透明oled面板中陰極層與信號線對位后的部分結構示意圖;

圖22為本發(fā)明實施例中一種顯示裝置的結構示意圖。

【具體實施方式】

為了更好的理解本發(fā)明的技術方案,下面結合附圖對本發(fā)明實施例進行詳細描述。

應當明確,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l(fā)明中的實施例,本領域普通技術人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其它實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。

在本發(fā)明實施例中使用的術語是僅僅出于描述特定實施例的目的,而非旨在限制本發(fā)明。在本發(fā)明實施例和所附權利要求書中所使用的單數(shù)形式的“一種”、“所述”和“該”也旨在包括多數(shù)形式,除非上下文清楚地表示其他含義。

在闡述本發(fā)明實施例之前,請參照圖3、圖4、圖5、圖6和圖7,圖3為現(xiàn)有技術中一種用于陰極層蒸鍍的掩膜版結構示意圖,圖4為使用圖3中的掩膜版進行第一次蒸鍍后得到的陰極層結構示意圖,圖5為使用圖3中的掩膜版進行第二次蒸鍍后得到的陰極層結構示意圖,圖6為圖5中aa’向的剖面結構示意圖,圖7為現(xiàn)有技術中一種信號線與子像素單元對位后的結構示意圖。如圖3所示,現(xiàn)有技術中掩膜版3上具有t形開口4,進行蒸鍍工藝后,形成如圖4中所示的陰極層結構,然后移動掩膜版3,改變掩膜版3與陣列基板的相對位置,進行第二次蒸鍍工藝,形成如圖5中所示的陰極層1結構,使陰極層1具有多個獨立的鏤空區(qū)域2,如圖7所示,陣列基板包括呈矩陣分布的多個子像素單元6,每個子像素單元6對應一個有機發(fā)光器件,每個子像素單元6作為最小顯示單元,相鄰的兩個子像素單元6的交界處設置信號線7。

在實現(xiàn)本發(fā)明過程中,發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術中至少存在如下問題:

為保證得到的陰極層1的完整性,兩次蒸鍍會有重復的部分,如圖5和6所示,通過兩次蒸鍍工藝得到的陰極層1具有條狀凸起區(qū)域51,陰極層1的條狀凸起區(qū)域51經過兩次蒸鍍,因此該處的陰極層1厚度較大。

在顯示面板的工作過程中,鏤空區(qū)域2用于實現(xiàn)透明效果,蒸鍍有陰極層材料的區(qū)域用于實現(xiàn)有機發(fā)光器件發(fā)光,以實現(xiàn)顯示功能。因此,在相鄰的兩個子像素單元6的交界處設置信號線7,透過率較低。

請參照圖8和圖9,圖8為現(xiàn)有技術中一種陰極層結構與子像素單元對位后的一種結構示意圖,圖9為圖8中bb’向的剖面結構示意圖?,F(xiàn)有技術中包括兩種將陰極層1與子像素單元對位的方式,一種方式是如圖8和圖9所示,使陰極層1上位于相鄰的兩個鏤空區(qū)域2之間的部分設置于子像素單元6的交界處,以提高透過率,但是這樣會使條狀凸起區(qū)域51位于子像素單元6的中間位置,由于陰極層1的厚度與陰極層1的透過率負相關,因此條狀凸起區(qū)域51位于子像素單元6的中間位置時,會導致該子像素單元6的發(fā)光亮度降低,并且,由于相鄰的兩個子像素單元6的交界處會設置對透過率有不良影響的信號線7,而信號線7與條狀凸起區(qū)域51無交疊,因此進一步降低了子像素單元6的發(fā)光亮度,為了解決該問題,可以減小條狀凸起區(qū)域51的寬度,來降低條狀凸起區(qū)域51對于發(fā)光亮度的不良影響,但是,條狀凸起區(qū)域51的寬度越小,則陰極層越容易斷開,從而影響信號在整個陰極層上的傳輸,除了會增加信號傳輸延遲,從而降低顯示畫面的響應速度外,還會使信號在傳輸至目標位置的過程中經過更遠的路程,從而產生更大的損耗,即,使陰極層在不同位置處接收到的電壓值有較大差異,導致不同位置處的顯示亮度的均一性較差;另一種方式請參照圖10和圖11,圖10為現(xiàn)有技術中一種陰極層結構與子像素單元對位后的另一種結構示意圖,圖11為圖10中cc’向的剖面結構示意圖。使陰極層1的條狀凸起區(qū)域51位于相鄰的兩個子像素單元6交界處,以使條狀凸起區(qū)域51和子像素單元6交界處以及信號線7交疊,從而提高子像素單元6的發(fā)光亮度,但是這樣會使陰極層1上鏤空區(qū)域2對應更多的信號線7,導致透過率的降低,為了解決該問題,可以減小鏤空區(qū)域2之間的陰極層寬度,但是,鏤空區(qū)域2之間的陰極層用于傳輸電流,若此處的陰極層寬度較小,則電阻越大,不利于電流在整個陰極層上的傳輸,另外,也可以通過透明導電材料來制作信號線7,以提高透過率,實現(xiàn)更好的透明顯示效果,但是,透明導電材料的導電性能與金屬材料相比較差,會增加信號傳輸延遲,信號傳輸延遲會降低透明oled面板顯示畫面的響應速度。

針對發(fā)明人的以上發(fā)現(xiàn),本發(fā)明實施例提供了一種透明oled面板和顯示裝置,能夠在提高透過率的同時提高發(fā)光亮度。請參照圖12-圖16,圖12為本發(fā)明實施例中一種透明oled面板的剖面結構示意圖,圖13為本發(fā)明實施例中一種透明oled面板中陰極層的結構示意圖,圖14為圖13中dd’向的剖面結構示意圖,圖15為圖13中陰極層與信號線對位后的結構示意圖,圖16為圖15中ee’向的剖面結構示意圖。本發(fā)明實施例提供一種透明oled面板,包括:基板101;位于基板101上的陣列層102,有機發(fā)光器件103,位于陣列層102背離基板101一側,其中,在遠離基板101的方向上,有機發(fā)光器件103依次包含第一電極層104、發(fā)光層105和第二電極層106,且第一電極層104和第二電極層106中的至少一個為陰極層,陰極層的結構如圖13所示,陰極層包括陰極區(qū)域(圖13的點狀填充區(qū)域)和呈矩陣分布的多個鏤空區(qū)域2,陰極區(qū)域包括多個連續(xù)覆蓋部11和呈矩陣分布的多個窄部12,在每行窄部12中,多個窄部12沿第一方向h1延伸并沿與第一方向h1垂直的第二方向h2排列,每相鄰的兩行鏤空區(qū)域2之間設置有一個連續(xù)覆蓋部11,在每行鏤空區(qū)域2中,每相鄰的兩個鏤空區(qū)域2之間設置有一個窄部12,如圖13和圖14所示,每個連續(xù)覆蓋部11包括多個平坦區(qū)域52和多個條狀凸起區(qū)域51,多個平坦區(qū)域52沿第二方向h2排列,多個條狀凸起區(qū)域51沿第一方向h1延伸并沿第二方向h2排列,任意相鄰的兩個條狀凸起區(qū)域51之間設置有一個平坦區(qū)域52,任意相鄰的兩個平坦區(qū)域52之間設置有一個條狀凸起區(qū)域51,請參照圖14,條狀凸起區(qū)域51的陰極層厚度c3大于平坦區(qū)域52的陰極層厚度c4;請參照圖15和圖16,上述透明oled面板還包括沿第一方向h1延伸的信號線7;在垂直于面板所在平面的方向上,信號線7的正投影和多個窄部12中的至少部分窄部12的正投影重疊,信號線7的正投影和多個條狀凸起區(qū)域51中的至少部分條狀凸起區(qū)域51的正投影重疊。任意相鄰的兩個連續(xù)覆蓋部11通過窄部12連接,以實現(xiàn)整個陰極層的電連接。

以下通過陰極層的蒸鍍方法進一步說明本發(fā)明實施例中的透明oled面板:

請參照圖17和圖18,圖17為本發(fā)明實施例中一種用于陰極層蒸鍍的掩膜版結構示意圖,圖18為使用圖17中的掩膜版進行第一次蒸鍍后得到的陰極層結構示意圖。本發(fā)明實施例中,在陰極層蒸鍍的過程中,使用如圖17中所示的掩膜版3,掩膜版3具有非對稱的t形開口4,開口4具有條形部41和矩形部42,在條形部41的延伸方向上,條形部41的中心線偏離矩形部42的中心線一定距離a,使用如圖17中所示的該掩膜版3進行第一次蒸鍍工藝,陰極材料穿過掩膜版3的t形開口4被蒸鍍在面板上,形成如圖18中所示的陰極層結構,然后移動掩膜版3,并改變掩膜版3與面板的相對位置,使掩膜版3的開口4對位于圖18中所示的陰極層結構中未蒸鍍的位置,進行第二次蒸鍍工藝,陰極材料穿過掩膜版3的t形開口4被蒸鍍在面板上,形成如圖13中所示的陰極層結構。這樣,最終形成的陰極層中,條狀凸起區(qū)域51即為兩次蒸鍍重疊的區(qū)域,平坦區(qū)域52即為一次蒸鍍的區(qū)域,請參照圖14,因此條狀凸起區(qū)域51的陰極層厚度c3大于平坦區(qū)域52的陰極層厚度c4。如圖17所示,根據(jù)子像素單元的寬度來設置距離a,使距離a約等于子像素單元的寬度的一半的奇數(shù)倍,由于信號線會設置于相鄰子像素單元的交界處,因此,在陰極層的圖案與子像素單元進行對位后,請參照圖15和圖16,即可以使窄部12和條狀凸起區(qū)域51恰好位于信號線7所在的位置。其中,信號線7可以為不透光的金屬材料,以保證信號傳輸延遲較小,從而提高顯示畫面的響應速度,信號線7與窄部12重疊,可以提高透過率,并且不需要減小窄部12的寬度,從而保證窄部12的導電性能,進而使陰極層的信號能夠均勻地傳輸至各子像素單元的位置,保證各子像素單元的顯示亮度均一性,如圖16所示,條狀凸起區(qū)域51與信號線7重疊,可以提高亮度,并且,不需要減小條狀凸起區(qū)域51的寬度,從而使陰極層不容易在兩次蒸鍍重疊的區(qū)域斷開,保證陰極層良好的導電性,即使陰極層的電流能夠均勻地傳輸至各子像素單元的位置,保證各子像素單元的顯示亮度均一性。

本發(fā)明實施例中的透明oled面板,能夠實現(xiàn)蒸鍍出具有相互獨立的鏤空區(qū)域的陰極層結構,并且,使能夠影響透過率的窄部和陰極層的條狀凸起區(qū)域均與信號線重疊,與現(xiàn)有技術中使信號線與條狀凸起區(qū)域或窄部重疊的方案相比,使陰極層對于透過率的影響降低,能夠在提高透過率的同時提高發(fā)光亮度。

可選地,請參照圖19和圖20,圖19為本發(fā)明實施例中一種透明oled面板中陰極層與信號線對位后的部分結構示意圖,圖20為本發(fā)明實施例中另一種透明oled面板中陰極層與信號線對位后的部分結構示意圖。上述面板包括呈矩陣分布的多個像素單元60(圖19和圖20中僅示意了兩個像素單元60),每個條狀凸起區(qū)域51位于第二方向h2上相鄰的兩個像素單元60交界處。像素單元60獨立發(fā)光,相鄰的像素單元60交界處的透過率較低,且相鄰的像素單元60交界處可以用于設置同樣對透過率有不良影響的信號線7,因此使對透過率產生不良影響的條狀凸起區(qū)域51設置于像素單元60的交界處,即將對透過率產生不良影響的結構重疊設置,可以改善條狀凸起區(qū)域51對于發(fā)光亮度的不良影響,從而提高發(fā)光亮度。

可選地,請參照圖19和圖20,每個像素單元60包括沿第二方向h2排列的三個子像素單元6,每個窄部12位于三個子像素單元6中相鄰的兩個子像素單元6交界處。有機發(fā)光器件包括多個有機發(fā)光器件單元,每個子像素單元6對應一個有機發(fā)光器件單元,子像素單元6為最小發(fā)光單元,每個子像素單元6獨立發(fā)光,相鄰的子像素單元6交界處的透過率較低,且相鄰的子像素單元6交界處可以用于設置同樣對透過率有不良影響的信號線7,因此使對透過率產生不良影響的窄部12設置于子像素單元6的交界處,即將對透過率產生不良影響的結構重疊設置,可以提高透過率。

可選地,請參照圖19、圖20和圖21,圖21為本發(fā)明實施例中另一種透明oled面板中陰極層與信號線對位后的部分結構示意圖,在相鄰的一個平坦區(qū)域52和一個窄部12中,平坦區(qū)域42沿第一方向h1延伸的中心線與窄部12沿第一方向h1延伸的中心線之間的距離為d;每個子像素單元6在第二方向h2上的寬度為e;45%×e×f<d<55%×e×f,其中,f為奇數(shù),即d約等于e的一半的奇數(shù)倍。例如,在圖19和圖20所示的結構中,f=1,d約等于e的一半,在圖21所示的結構中,f=3,d約等于d的一半的三倍。該結構下,可使窄部12恰好位于相鄰的兩個子像素單元6的交界處,相鄰的子像素單元6交界處的透過率較低,因此在此處設置窄部12能夠提高透過率,而條狀凸起區(qū)域51恰好位于相鄰的兩個像素單元60的交界處,相鄰的像素單元60交界處的透過率較低,因此在此處設置條狀凸起區(qū)域51能夠提高透過率。

可選地,f=1,該結構下,可以使更多的信號線7與窄部12以及凸起區(qū)域重疊,從而能夠進一步提高透過率。

可選地,請參照圖13,在所述第二方向h2上,任意兩個窄部12間隔距離c1之差小于5微米,窄部間隔距離c1為在第二方向h2上相鄰的兩個窄部12之間的距離,任意兩個條狀凸起區(qū)域51間隔距離c2之差小于5微米,條狀凸起區(qū)域間隔距離c2為在第二方向h2上相鄰的兩個條狀凸起區(qū)域51之間的距離。任意兩個窄部間隔距離c1之差越大,則表示鏤空區(qū)域2在第二方向h2上的分布越不均勻,鏤空區(qū)域2用于實現(xiàn)透視效果,因此,任意兩個窄部間隔距離c1之差小于5微米,即在第二方向h2上,使鏤空區(qū)域2趨近于等間距均勻分布,以改善透視效果的均一性;任意兩個條狀凸起區(qū)域間隔距離c2之差越大,則表示連續(xù)覆蓋部11上低透過率部分(即條狀凸起區(qū)域51)的分布越不均勻,連續(xù)覆蓋部11用于實現(xiàn)發(fā)光效果,因此,任意兩個條狀凸起區(qū)域間隔距離c2之差小于5微米,即在第二方向h2上,使連續(xù)覆蓋部11上低透過率部分趨近于等間距均勻分布,以改善發(fā)光亮度的均一性。

可選地,請參照圖19,每相鄰的兩列子像素單元6之間設置有至少一條信號線7,該信號線7包括數(shù)據(jù)線,一列數(shù)據(jù)線對應控制一列子像素單元6。另外,每相鄰的兩列子像素單元6之間的信號線7可以為兩條或更多的數(shù)量,本實施例中,信號線7除了可以包括數(shù)據(jù)線,還可以包括其他種類的信號線,例如電源線,電源線用于為有機發(fā)光器件提供電能以驅動有機發(fā)光器件發(fā)光,數(shù)據(jù)線用于為有機發(fā)光器件的驅動電路提供數(shù)據(jù)電壓,有機發(fā)光器件的驅動電路根據(jù)數(shù)據(jù)電壓控制有機發(fā)光器件的驅動電流值,以實現(xiàn)顯示功能,本發(fā)明實施例對于信號線的類型不做限定,本領域技術人員可以根據(jù)需求進行設置。在圖19所示的結構中,每列子像素單元6均需要設置與之對應的信號線7,通過該信號線7向對應的一列子像素單元6傳輸相對應的信號,相鄰的子像素單元6交界處的透過率較低,因此在每相鄰的兩列子像素單元6交界處均設置與這兩列子像素單元6中的其中一列所對應的信號線7,可以最大程度地降低信號線7對于透過率的影響,進一步提高透過率和發(fā)光亮度。

可選地,請參照圖20,每間隔兩列子像素單元6設置有至少一條信號線7,該信號線7包括數(shù)據(jù)線,與圖19中所示的結構不同,在圖20所示的結構中,一列數(shù)據(jù)線可以對應控制與其相鄰的兩列像素單元6,因此可以每間隔兩列子像素單元6設置相對應的信號線7。在圖20的結構中,信號線7同樣與窄部12和條狀凸起區(qū)域51重疊,從而實現(xiàn)提高透過率的同時提高發(fā)光亮度;另外,即便在部分子像素單元6的交界處沒有設置信號線7,除陰極層之外的部分在子像素單元6的交界位置也會比子像素單元6的中間區(qū)域具有更低的透過率,因此,使窄部12位于未設置信號線7的子像素單元6交界處,同樣能夠提高透過率,使條狀凸起區(qū)域51位于未設置信號線7的子像素單元6交界處,同樣能夠提高發(fā)光亮度。

可選地,請參照圖14,條狀凸起區(qū)域51的陰極層厚度c3為平坦區(qū)域52的陰極層厚度c4的1.8至2.2倍,陰極層厚度為垂直于面板方向上的尺寸,由于條狀凸起區(qū)域51會同時經過兩次蒸鍍工藝,而平坦區(qū)域52僅經過一次蒸鍍工藝,因此條狀凸起區(qū)域51的陰極層厚度c3約為平坦區(qū)域52的陰極層厚度c4的2倍。另外,需要說明的是,在圖14中示意的平坦區(qū)域52的厚度相同,但是在實際工藝過程中,由于工藝誤差等影響,兩次蒸鍍所形成的平坦區(qū)域52的厚度可能會不同,例如,第一次蒸鍍后所形成的平坦區(qū)域52的陰極層厚度為28納米,而第二次厚度后所形成的平坦區(qū)域52的陰極層厚度為33納米,條狀凸起區(qū)域51的陰極層厚度為第一次蒸鍍后所形成的平坦區(qū)域52的陰極層厚度與第二次蒸鍍后所形成的平坦區(qū)域52的陰極層厚度之和,即為61納米。因此,這里的平坦區(qū)域52的陰極層厚度c4為整個平坦區(qū)域52的陰極層平均厚度,即條狀凸起區(qū)域51的陰極層厚度為平坦區(qū)域52的陰極層平均厚度的1.8至2.2倍。

可選地,請參照圖14,條狀凸起區(qū)域51的陰極層厚度c3為10-60納米,條狀凸起區(qū)域51的陰極層厚度c3由平坦區(qū)域52的陰極層厚度c4所決定,若陰極層厚度太小,則電阻太大,在透明oled面板工作過程中,信號需要在整個陰極層進行傳輸,而較大的陰極層電阻會對信號的傳輸產生不良影響,除了會增加信號傳輸延遲,從而降低顯示畫面的響應速度外,還會使信號在傳輸至不同位置的過程中產生較大損耗,距離陰極層電壓信號源越近位置處的陰極層得到的電壓值越大,距離陰極層電壓信號源越遠位置處的陰極層得到的電壓值越小,即使陰極層在不同位置處接收到的電壓值有較大差異,從而使顯示面板整體的顯示亮度的均一性較差,若陰極層厚透太大,則會影響陰極層的透過率,從而降低顯示亮度,為兼顧兩方面的因素,設置平坦區(qū)域52的陰極層厚度c4為15納米左右,條狀凸起區(qū)域51的陰極層厚度c3為10-60納米,優(yōu)選為30納米。

可選地,請參照圖20,條狀凸起區(qū)域51在第二方向h2上的寬度d1為2-20微米。條狀凸起區(qū)域太窄容易使陰極層斷開,影響信號在整個陰極層上的傳輸,除了會增加信號傳輸延遲,從而降低顯示畫面的響應速度外,還會使陰極層在不同位置處接收到的電壓值有較大差異,例如,陰極層上的第一位置和第二位置與陰極層電壓信號源之間的距離相等,但是第一位置與陰極層電壓信號源之間的最短路徑上的陰極層均連續(xù),因此陰極層電壓信號源可以通過該最短路徑傳輸至第一位置,而第二位置與陰極層電壓信號源之間的最短路徑上的陰極層具有斷開區(qū)域,陰極層電壓信號源需要繞過陰極層斷開區(qū)域經過更遠的路徑傳輸至第二位置,信號傳輸?shù)穆窂皆竭h,則損耗越大,導致陰極層在第一位置和第二位置處接收到的電壓值有較大差異,從而影響顯示,使顯示面板整體的顯示亮度的均一性較差;而條狀凸起區(qū)域太寬會降低透過率,從而帶來顯示亮度的降低,為兼顧兩方面的因素,設置條狀凸起區(qū)域51在第二方向h2上的寬度d1為2-20微米。

可選地,請參照圖20,窄部12在第二方向h2上的寬度d2為5-30微米。在第一方向h1上,不同的連續(xù)覆蓋部11通過窄部12電連接,在透明oled面板工作過程中,信號需要在整個陰極層進行傳輸,而窄部12用于不同連續(xù)覆蓋部11之間的導電,如果窄部12在第二方向h2上的寬度d2較小,則窄部12的電阻較大,不利于信號在陰極層上的傳輸,除了會增加信號傳輸延遲,從而降低顯示畫面的響應速度外,還會使信號在傳輸至不同位置的過程中產生較大損耗,距離陰極層電壓信號源越近位置處的陰極層得到的電壓值越大,距離陰極層電壓信號源越遠位置處的陰極層得到的電壓值越小,即使陰極層在不同位置處接收到的電壓值有較大差異,從而使顯示面板整體的顯示亮度的均一性較差,如果窄部12在第二方向h2上的寬度d2較大,則會導致透過率較低,為兼顧兩方面的因素,設置窄部12在第二方向h2上的寬度d2為5-30微米。

可選地,請參照圖20,鏤空區(qū)域2在第二方向h2上的長度d3為10-100微米。鏤空區(qū)域2在第二方向h2上的長度d3由子像素單元6在第二方向h2上的寬度決定,例如,若設置三個子像素單元6對應一個鏤空區(qū)域2,則鏤空區(qū)域2在第二方向h2上的長度d3等于三個子像素單元6在第二方向h2上的寬度減去窄部12的預留寬度,根據(jù)子像素單元6的寬度,設置鏤空區(qū)域2在第二方向h2上的長度d3為10-100微米。

可選地,請參照圖15,鏤空區(qū)域2在第一方向h1上的寬度d4為10-100微米。若鏤空區(qū)域2在第一方向h1上的寬度d4越小,則透明度越低,發(fā)光亮度越高;若鏤空區(qū)域2在第一方向h1上的寬度d4越大,則透明度越高,發(fā)光亮度越低。為兼顧兩方面的因素,設置鏤空區(qū)域2在第一方向h1上的寬度d4為10-100微米。并且鏤空區(qū)域2的寬度d4與窄部12的寬度d2相關,鏤空區(qū)域2的寬度d4越大,則窄部12的寬度d2就越小,因此需要綜合考慮窄部12對于陰極層導電性能的影響來確定鏤空區(qū)域2的寬度d4。

需要說明的是,在本發(fā)明實施例中,每個子像素單元6對應一個有機發(fā)光器件,上述陰極層作為有機發(fā)光器件的陰極。本實施例中僅介紹了透明oled面板中陰極層的結構以及陰極層與信號線、像素單元和子像素單元之間的關系,對于透明oled面板中的其他結構不做限定。

請參照圖22,圖22為本發(fā)明實施例中一種顯示裝置的結構示意圖,本發(fā)明實施例提供一種顯示裝置,包括上述的透明oled面板600。

其中,透明oled面板600的具體結構和原理與上述實施例相同,在此不再贅述。顯示裝置可以是例如觸摸顯示屏、手機、平板計算機、筆記本電腦、電紙書或電視機等任何具有顯示功能的電子設備。

本發(fā)明實施例中的顯示裝置,能夠實現(xiàn)蒸鍍出具有相互獨立的鏤空區(qū)域的陰極層結構,并且,使能夠影響透過率的窄部和陰極層的條狀凸起區(qū)域均與信號線重疊,使陰極層對于透過率的影響降低,與現(xiàn)有技術中使信號線與條狀凸起區(qū)域或窄部重疊的方案相比,能夠在提高透過率的同時提高發(fā)光亮度。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例而已,并不用以限制本發(fā)明,凡在本發(fā)明的精神和原則之內,所做的任何修改、等同替換、改進等,均應包含在本發(fā)明保護的范圍之內。

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