本發(fā)明涉及硅片清洗領(lǐng)域，特別是涉及金剛線切割后的硅片領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

目前對(duì)金剛線切割后的硅片一般都是直接通過堿性清洗劑進(jìn)行清洗，這樣使得硅片表面殘留的金屬離子、有機(jī)物、堿性清洗液不能根除，硅片在后續(xù)電池堿洗制絨過程，往往會(huì)出現(xiàn)表面制絨不均勻，呈現(xiàn)花斑現(xiàn)象。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是：如何避免由于金剛線切割后的硅片沒有清理干凈造成的硅片在后續(xù)電池堿洗制絨過程出現(xiàn)表面制絨不均勻的問題。

本發(fā)明所采用的技術(shù)方案是：發(fā)現(xiàn)硅片在后續(xù)電池堿洗制絨過程出現(xiàn)表面制絨不均勻的問題有部分原因是因?yàn)榻饎偩€切割后的硅片沒有清理干凈造成的，并采用以下步驟對(duì)金剛線切割后的硅片進(jìn)行徹底清理，一種金剛線切割后的硅片清洗方法，按照如下的步驟進(jìn)行

步驟一、將金剛線切割過的硅片在檸檬酸水溶液中清洗的步驟；

步驟二、硅片在堿性清洗劑中清洗的步驟；

步驟三、硅片在雙氧水中清洗的步驟。

作為一種優(yōu)選方式：步驟一中，檸檬酸水溶液的質(zhì)量百分比濃度為3％-5％，溫度為40-50℃，清洗過程使用超聲波。檸檬酸與硅片表面無(wú)機(jī)物反應(yīng)，生成弱酸鹽，去除表面金屬等雜質(zhì)。

作為一種優(yōu)選方式：步驟二中，堿性清洗劑的質(zhì)量百分比濃度為5％-8％，溫度為45-55℃，ph＝11～13，清洗過程使用超聲波。

作為一種優(yōu)選方式：步驟三中，雙氧水的質(zhì)量百分比濃度為4％-8％，溫度為40-45℃，清洗過程使用超聲波。深層次的祛除硅片表面殘留的堿液、有機(jī)物和金屬離子，使硅片表面損傷層祛除更潔凈。

作為一種優(yōu)選方式：步驟一中，將金剛線切割過的硅片使用純水+溢流+超聲后再在檸檬酸水溶液中清洗。避免直接使用檸檬酸水溶液造成檸檬酸的浪費(fèi)。

作為一種優(yōu)選方式：在步驟一和步驟二之間使用純水+溢流+超聲進(jìn)行清洗。避免硅片上粘接的檸檬酸破壞堿性清洗劑，造成堿性清洗劑浪費(fèi)，同時(shí)可以把硅片上聚集的溶解的有機(jī)物和金屬離子洗掉，使得后續(xù)的堿性清洗劑清洗效果更佳。

作為一種優(yōu)選方式：在步驟三之后使用純水+溢流+超聲進(jìn)行清洗。避免步驟三清理過程中在硅片表面形成的可溶的有機(jī)物和金屬離子不能被清理干凈，造成后續(xù)烘干中粘接在硅片表面。

本發(fā)明的有益效果是：通過堿洗前增加弱酸活化工藝，使得其硅片表面殘留的金屬離子更少，堿洗后增加雙氧水清洗工藝祛除表面殘留堿液、有機(jī)物、金屬離子，同時(shí)使表面損傷層去除更大。硅片在后續(xù)電池制絨過程金字塔絨面的覆蓋率更高，絨面更均一。

附圖說明

圖1是經(jīng)過本發(fā)明清洗后的制絨絨面圖；

圖2是未經(jīng)過本發(fā)明清洗后的制絨絨面圖。

具體實(shí)施方式

實(shí)施例1

一種金剛線切割后的硅片清洗方法，按照如下的步驟進(jìn)行：

配置質(zhì)量百分比濃度為3％的檸檬酸水溶液，質(zhì)量百分比濃度為5％的氫氧化鈉溶液（水溶液），配置量百分比濃度為4％的雙氧水溶液（水溶液）。

把金剛線切割后的硅片依次在以下槽體中清洗

1#槽體：采用純水+溢流+超聲方式清洗，清洗溫度40-50℃，清洗時(shí)間200s；目的是清除金剛線切割后的硅片表面殘留的大顆粒雜質(zhì)。

2#槽體：采用百分比濃度為3％的檸檬酸水溶液+超聲方式清洗，清洗溫度40-50℃，清洗時(shí)間180s；目的是清除硅片表面殘留的有機(jī)物、金屬離子。

3#槽體：采用純水+溢流+超聲方式清洗，清洗溫度45-50℃，清洗時(shí)間220s；避免硅片上粘接的檸檬酸破壞堿性清洗劑，造成堿性清洗劑浪費(fèi)，同時(shí)可以把硅片上聚集的溶解的有機(jī)物和金屬離子洗掉，使得后續(xù)的堿性清洗劑清洗效果更佳。

4#槽體：采用百分比濃度為5％的氫氧化鈉溶液+超聲方式清洗，清洗溫度45-55℃，清洗時(shí)間240s。

5#槽體：采用百分比濃度為5％的氫氧化鈉溶液+超聲方式清洗，清洗溫度45-55℃，清洗時(shí)間240s，采用階段性氫氧化鈉溶液+超聲方式清洗，能夠在消耗氫氧化鈉溶液更少的情況下，提高清洗效果。

6#槽體：采用百分比濃度為4％的雙氧水溶液+超聲方式清洗，清洗溫度45-55℃，清洗時(shí)間150s。

7#槽體：采用純水+溢流+超聲方式清洗，清洗溫度55-60℃，清洗時(shí)間240s。

8#槽體：采用純水+溢流+超聲方式清洗，清洗溫度60-65℃，清洗時(shí)間240s。

9#槽體：采用純水+溢流+超聲方式清洗，清洗溫度65-70℃，清洗時(shí)間240s，通過階段性純水+溢流+超聲方式清洗，不僅減少了對(duì)存水的消耗，而且提高了清洗效果，節(jié)省清洗時(shí)間。

10#槽體：采用加熱烘干，烘干溫度80℃，烘干時(shí)間240s。

圖1是經(jīng)過本發(fā)明清洗后的制絨絨面圖；圖2是未經(jīng)過本發(fā)明清洗后的制絨絨面圖?？梢悦黠@看出，經(jīng)過本發(fā)明清洗后，制絨絨面表面更均一。

具體實(shí)施例2

與具體實(shí)施例1不同之處在于：檸檬酸水溶液的質(zhì)量百分比濃度為5％，氫氧化鈉溶液（水溶液）質(zhì)量百分比濃度為8％，雙氧水溶液（水溶液）百分比濃度為8％。

具體實(shí)施例3

與具體實(shí)施例1不同之處在于：檸檬酸水溶液的質(zhì)量百分比濃度為4％，氫氧化鈉溶液（水溶液）質(zhì)量百分比濃度為6％，雙氧水溶液（水溶液）百分比濃度為6％。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及硅片清洗領(lǐng)域，特別是涉及金剛線切割后的硅片領(lǐng)域。一種金剛線切割后的硅片清洗方法，按照如下的步驟進(jìn)行，步驟一、將金剛線切割過的硅片在檸檬酸水溶液中清洗的步驟；步驟二、硅片在堿性清洗劑中清洗的步驟；步驟三、硅片在雙氧水中清洗的步驟。通過堿洗前增加弱酸活化工藝，使得其硅片表面殘留的金屬離子更少，堿洗后增加雙氧水清洗工藝祛除表面殘留堿液、有機(jī)物、金屬離子，同時(shí)使表面損傷層去除更大。硅片在后續(xù)電池制絨過程金字塔絨面的覆蓋率更高，絨面更均一。

技術(shù)研發(fā)人員：劉寶華;任崇榮;谷燕鉑;李東東;王立明;任歡歡;梁玲;趙強(qiáng);王瑩
受保護(hù)的技術(shù)使用者：山西潞安太陽(yáng)能科技有限責(zé)任公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.06.20
技術(shù)公布日：2017.10.10