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埋入式天線封裝結(jié)構(gòu)及其制造方法與流程

文檔序號(hào):11203021閱讀:951來(lái)源:國(guó)知局
埋入式天線封裝結(jié)構(gòu)及其制造方法與流程

本發(fā)明涉及一種埋入式天線封裝結(jié)構(gòu)及其制造方法,屬于半導(dǎo)體封裝技術(shù)領(lǐng)域。



背景技術(shù):

天線是無(wú)線通訊設(shè)備中必需的元件,在可攜式的無(wú)線通訊設(shè)備集成化、小型化、微型化的要求下,現(xiàn)在使用的方式是通過(guò)系統(tǒng)級(jí)封裝,盡可能多的把無(wú)源器件、小功率有源器件、天線埋入基板內(nèi),這就要求基板有盡可能低的介電損耗。另外,技術(shù)趨勢(shì)又要求基板盡可能薄型化,但是低損耗的基板或其他材料一般機(jī)械強(qiáng)度或剛度較低,從而會(huì)影響到整體封裝的強(qiáng)度。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)提供一種埋入式天線封裝結(jié)構(gòu)及其制造方法,它使基板與天線設(shè)計(jì)分開(kāi),天線線路獨(dú)立形成一低損耗部件,減少基板的設(shè)計(jì)難度,保證薄型基板的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度,且滿足信號(hào)傳輸?shù)姆€(wěn)定性。

本發(fā)明解決上述問(wèn)題所采用的技術(shù)方案為:一種埋入式天線封裝結(jié)構(gòu),它包括基板,所述基板正面設(shè)置有低損耗部件和芯片,所述低損耗部件內(nèi)部預(yù)制天線,所述低損耗部件和芯片外圍區(qū)域包覆有塑封料,所述基板背面設(shè)置有金屬球。

所述塑封料表面設(shè)置有保護(hù)膜。

一種埋入式天線封裝結(jié)構(gòu)的制造方法,所述方法包括如下步驟:

步驟一、取一載板;

步驟二、在載板上貼裝一層保護(hù)膜;

步驟三、在保護(hù)膜上貼裝芯片和預(yù)制天線的低損耗部件;

步驟四、對(duì)芯片和低損耗部件進(jìn)行塑封作業(yè);

步驟五、塑封料表面制作基板;

步驟六、在基板表面進(jìn)行植球作業(yè);

步驟七、基板表面進(jìn)行臨時(shí)保護(hù),去除載板;

步驟八、去除臨時(shí)保護(hù)并切割成單顆產(chǎn)品。

一種埋入式天線封裝結(jié)構(gòu),它包括基板,所述基板正面設(shè)置有芯片,所述芯片左右兩側(cè)均設(shè)置有低損耗部件,所述低損耗部件內(nèi)部預(yù)制天線線路,所述低損耗部件和芯片外圍區(qū)域包覆有塑封料,所述基板背面設(shè)置有金屬球。

相鄰兩個(gè)封裝結(jié)構(gòu)中,左側(cè)封裝單元中位于右側(cè)的低損耗部件與右側(cè)封裝單元中位于左側(cè)的低損耗部件由一個(gè)整體的低損耗部件切割而成。

所述低損耗部件表面設(shè)置有保護(hù)膜。

所述天線線路周圍設(shè)置有屏蔽層。

所述屏蔽層采用一圈柱形陣列或整片側(cè)壁電鍍金屬的方式。

所述天線線路和屏蔽層表面設(shè)置有防腐蝕層。

與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于:

1、本發(fā)明的天線單獨(dú)形成一個(gè)低損耗部件,減少基板的設(shè)計(jì)難度,保證薄型基板的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度;

2、本發(fā)明的低損耗部件內(nèi)預(yù)制天線,能夠保證天線區(qū)域在芯片工作時(shí)不會(huì)受到熱影響,以及芯片電磁輻射的影響,可以保持天線信號(hào)傳輸?shù)姆€(wěn)定性。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明一種埋入式天線封裝結(jié)構(gòu)實(shí)施例1的示意圖。

圖2~圖9為本發(fā)明一種埋入式天線封裝結(jié)構(gòu)實(shí)施例1制造方法的工序流程示意圖。

圖10為本發(fā)明一種埋入式天線封裝結(jié)構(gòu)實(shí)施例2的示意圖。

圖11為本發(fā)明一種埋入式天線封裝結(jié)構(gòu)實(shí)施例3的示意圖。

其中:

基板或rdl布線1

低損耗部件2

芯片3

塑封料4

天線線路5

保護(hù)膜6

屏蔽層7

金屬球8

防腐蝕層9。

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。

實(shí)施例1:

參見(jiàn)圖1,本實(shí)施例中的一種埋入式天線封裝結(jié)構(gòu),它包括基板或rdl布線1,所述基板或rdl布線1正面設(shè)置有低損耗部件2和芯片3,所述低損耗部件2內(nèi)部預(yù)制天線線路5,所述低損耗部件2和芯片3外圍區(qū)域包覆有塑封料4,所述基板或rdl布線1背面設(shè)置有金屬球8;

所述塑封料4表面設(shè)置有保護(hù)膜6;

所述天線線路5周圍設(shè)置有屏蔽層7;

所述屏蔽層7采用一圈柱形陣列或整片側(cè)壁電鍍金屬的方式;

所述基板或rdl布線1包括低損耗保護(hù)層1.1和絕緣材料層1.2,所述絕緣材料層1.2位于低損耗保護(hù)層1.1下方,所述低損耗保護(hù)層1.1和絕緣材料層1.2內(nèi)設(shè)置有多層線路層1.3;

所述低損耗部件2在高頻(>20ghz)下具有低的介電常數(shù)(dk<3.5),具有低的介質(zhì)損耗(df<0.01)。

其制造方法包括如下步驟:

步驟一、參見(jiàn)圖2,取一載板;

步驟二、參見(jiàn)圖3,在載板上貼裝一層保護(hù)膜;

步驟三、參見(jiàn)圖4,在保護(hù)膜上貼裝芯片和預(yù)制天線的低損耗部件,低損耗部件可以單顆植入,也可以整體植入;

步驟四、參見(jiàn)圖5,對(duì)芯片和低損耗部件進(jìn)行塑封作業(yè),使用機(jī)械強(qiáng)度較高的塑封料,并進(jìn)行塑封料表面的減薄作業(yè),露出芯片與低損耗部件的電性連接端;

步驟五、參見(jiàn)圖6,塑封料表面通過(guò)電鍍和填充低損耗絕緣材料形成基板;

步驟六、參見(jiàn)圖7,在基板表面所需要和外部電性連接處進(jìn)行植球作業(yè);

步驟七、參見(jiàn)圖8,在植球的表面進(jìn)行臨時(shí)保護(hù),去除載板;

步驟八、參見(jiàn)圖9,去除臨時(shí)保護(hù)并切割成單顆產(chǎn)品。

實(shí)施例2:

參見(jiàn)圖10,本實(shí)施例中的一種埋入式天線封裝結(jié)構(gòu),它包括基板或rdl布線1,所述基板或rdl布線1正面設(shè)置有芯片3,所述芯片3左右兩側(cè)均設(shè)置有低損耗部件2,所述低損耗部件2內(nèi)部預(yù)制天線線路5,所述低損耗部件2和芯片3外圍區(qū)域包覆有塑封料4,所述基板或rdl布線1背面設(shè)置有金屬球8;

相鄰兩個(gè)封裝結(jié)構(gòu)中,左側(cè)封裝單元中位于右側(cè)的低損耗部件2與右側(cè)封裝單元中位于左側(cè)的低損耗部件2由一個(gè)整體的低損耗部件切割而成;

所述低損耗部件2表面設(shè)置有保護(hù)膜6;

所述天線線路5周圍設(shè)置有屏蔽層7;

所述屏蔽層7采用一圈柱形陣列或整片側(cè)壁電鍍金屬的方式。

實(shí)施例3:

參見(jiàn)圖11,本實(shí)施例中的一種埋入式天線封裝結(jié)構(gòu),它包括基板或rdl布線1,所述基板或rdl布線1正面設(shè)置有芯片3,所述芯片3左右兩側(cè)均設(shè)置有低損耗部件2,所述低損耗部件2內(nèi)部預(yù)制天線線路5,所述低損耗部件2和芯片3外圍區(qū)域包覆有塑封料4,所述基板或rdl布線1背面設(shè)置有金屬球8,所述天線線路5和屏蔽層7表面設(shè)置有防腐蝕層9。

除上述實(shí)施例外,本發(fā)明還包括有其他實(shí)施方式,凡采用等同變換或者等效替換方式形成的技術(shù)方案,均應(yīng)落入本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍之內(nèi)。



技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及一種埋入式天線封裝結(jié)構(gòu)及其制造方法,所述結(jié)構(gòu)基板(1),所述基板(1)正面設(shè)置有低損耗部件(2)和芯片(3),所述低損耗部件(2)內(nèi)部預(yù)制天線(5),所述低損耗部件(2)和芯片(3)外圍區(qū)域包覆有塑封料(4),所述基板(1)背面設(shè)置有金屬球(8)。本發(fā)明一種埋入式天線封裝結(jié)構(gòu)及其制造方法,它使基板與天線設(shè)計(jì)分開(kāi),天線線路獨(dú)立形成一低損耗部件,減少基板的設(shè)計(jì)難度,保證薄型基板的結(jié)構(gòu)強(qiáng)度,且滿足信號(hào)傳輸?shù)姆€(wěn)定性。

技術(shù)研發(fā)人員:林耀劍
受保護(hù)的技術(shù)使用者:江蘇長(zhǎng)電科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2017.06.29
技術(shù)公布日:2017.09.29
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