本發(fā)明涉及一種顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種有機發(fā)光組件及其制備方法。本發(fā)明還涉及一種具有該有機發(fā)光組件的顯示裝置。

背景技術(shù)：

有機發(fā)光顯示裝置在薄膜封裝過程中，有機層通常采用紫外光固化的有機材料，該有機層通?？梢酝ㄟ^噴墨打印的方式形成在第一無機層和第二無機層之間。該有機層在固有的表面張力作用下經(jīng)過紫外光照射呈現(xiàn)出邊緣收縮的現(xiàn)象，而且在邊緣形成一個收縮造成的隆起的凸起膜層結(jié)構(gòu)。為了改善收縮造成的凸起膜層，通?？梢酝ㄟ^增加有機層邊緣到最高點的爬坡距離和有機膜層邊緣到最高點的有機層打印膜厚來改善。但是這種方法仍然存在缺陷，因為通過該方法增加了有機層的爬坡距離，而使得爬坡距離大于1mm。

有機發(fā)光顯示裝置通常包括顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域，通常顯示區(qū)域與非顯示區(qū)域的邊界為有機發(fā)光層的邊界。

針對有機層由于邊緣收縮而造成的凸起膜層結(jié)構(gòu)的現(xiàn)象，目前尚未記載有很好的解決方案。

在所述背景技術(shù)部分公開的上述信息僅用于加強對本發(fā)明的背景的理解。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的一個主要目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的至少一種缺陷，提供一種有機發(fā)光組件，該有機發(fā)光組件能夠防止有機層出現(xiàn)邊緣凸起膜層結(jié)構(gòu)。

本發(fā)明的另一個主要目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的至少一種缺陷，提供一種有機發(fā)光組件的制備方法。

本發(fā)明的另一個主要目的在于克服上述現(xiàn)有技術(shù)的至少一種缺陷，提供一種顯示裝置，其能防止有機層出現(xiàn)邊緣凸起膜層結(jié)構(gòu)。

為實現(xiàn)上述發(fā)明目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案：

根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種有機發(fā)光組件，該有機發(fā)光組件包括基板、中間結(jié)構(gòu)層以及薄膜封裝結(jié)構(gòu)層，所述基板包括第一表面；所述中間結(jié)構(gòu)層設(shè)置于所述第一表面上，所述中間結(jié)構(gòu)層具有顯示區(qū)域和非顯示區(qū)域，所述非顯示區(qū)域設(shè)置有防擴散止擋結(jié)構(gòu)，該防擴散止擋結(jié)構(gòu)間隔設(shè)置于所述顯示區(qū)域的外圍；所述非顯示區(qū)域還設(shè)置有防收縮止擋結(jié)構(gòu)，所述防收縮止擋結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述顯示區(qū)域和所述防擴散止擋結(jié)構(gòu)之間，所述中間結(jié)構(gòu)層還包括平坦化層以及間隔設(shè)置于所述平坦化層上的顯示結(jié)構(gòu)部和防收縮止擋結(jié)構(gòu)，所述防收縮止擋結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述顯示結(jié)構(gòu)部的外圍；所述薄膜封裝結(jié)構(gòu)層平行于所述第一表面設(shè)置，所述薄膜封裝結(jié)構(gòu)層位于所述中間結(jié)構(gòu)層的背向所述基板的表面上，所述薄膜封裝結(jié)構(gòu)層的外緣延伸至所述防擴散止擋結(jié)構(gòu)，所述防收縮止擋結(jié)構(gòu)設(shè)置于所述薄膜封裝結(jié)構(gòu)層和所述平坦化層之間，所述防收縮止擋結(jié)構(gòu)的自由端伸入到所述薄膜封裝結(jié)構(gòu)層中。

根據(jù)本發(fā)明的一實施方式，其中所述顯示結(jié)構(gòu)部包括依次層疊設(shè)置的像素界定層、有機發(fā)光層、陰極層以及第一無機結(jié)構(gòu)層，其中所述像素界定層設(shè)置于所述平坦化層上，所述有機發(fā)光層設(shè)置于所述像素界定層的背向所述平坦化層的表面上。

根據(jù)本發(fā)明的一實施方式，其中所述防收縮止擋結(jié)構(gòu)為多個，相鄰所述防收縮止擋結(jié)構(gòu)依次間隔套設(shè)。

根據(jù)本發(fā)明的一實施方式，其中所述防收縮止擋結(jié)構(gòu)為1至5個。

根據(jù)本發(fā)明的一實施方式，其中所述防收縮止擋結(jié)構(gòu)包括依次層疊設(shè)置的像素界定層部、陰極層部以及第一無機結(jié)構(gòu)層部，所述像素界定層部設(shè)置于所述平坦化層上，所述陰極層部設(shè)置于所述像素界定層部的背向所述平坦化層的表面上。

根據(jù)本發(fā)明的一實施方式，其中所述防收縮止擋結(jié)構(gòu)采用曝光工藝形成。

根據(jù)本發(fā)明的一實施方式，其中所述薄膜封裝結(jié)構(gòu)層包括依次層疊設(shè)置的第二無機結(jié)構(gòu)層和有機結(jié)構(gòu)層，所述有機結(jié)構(gòu)層設(shè)置于所述中間結(jié)構(gòu)層上，所述防收縮止擋結(jié)構(gòu)的自由端伸入到所述有機結(jié)構(gòu)層中。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種顯示裝置，所述顯示裝置包括本發(fā)明提供的有機發(fā)光組件。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種有機發(fā)光組件的制備方法，所述有機發(fā)光組件的制備方法包括以下步驟：

在基板上形成平坦化層；在所述平坦化層上形成顯示結(jié)構(gòu)部和間隔設(shè)置于所述顯示結(jié)構(gòu)部外圍的防收縮止擋結(jié)構(gòu)；在所述顯示結(jié)構(gòu)部和所述防收縮止擋結(jié)構(gòu)上形成薄膜封裝結(jié)構(gòu)層。

根據(jù)本發(fā)明的一具體實施方式，其中在所述平坦化層上形成顯示結(jié)構(gòu)部和間隔設(shè)置于所述顯示結(jié)構(gòu)部外圍的防收縮止擋結(jié)構(gòu)的步驟包括：在所述平坦化層上進行涂膠、曝光、顯影，以形成像素界定層和像素界定層部；分別在所述像素界定層和所述像素界定層部上形成陰極層和陰極層部；分別在所述陰極層和所述陰極層部上形成第一無機結(jié)構(gòu)層和第一無機結(jié)構(gòu)層部。

根據(jù)本發(fā)明的一具體實施方式，其中在所述顯示結(jié)構(gòu)部和所述防收縮止擋結(jié)構(gòu)上形成有薄膜封裝結(jié)構(gòu)層的步驟包括：在所述顯示結(jié)構(gòu)部和防收縮止擋結(jié)構(gòu)上形成有機結(jié)構(gòu)層；在所述有機結(jié)構(gòu)層上沉積第二無機結(jié)構(gòu)層，所述第二無機結(jié)構(gòu)層與所述第一無機結(jié)構(gòu)層沉積位置相同或不同。

由上述技術(shù)方案可知，本發(fā)明的有機發(fā)光組件及其制備方法、顯示裝置的優(yōu)點和積極效果在于：有機發(fā)光組件中的防收縮止擋結(jié)構(gòu)由中間結(jié)構(gòu)層伸入到有機結(jié)構(gòu)層中，該防收縮止擋結(jié)構(gòu)能夠防止非顯示區(qū)域中的有機結(jié)構(gòu)層出現(xiàn)邊緣收縮現(xiàn)象，從而可以避免出現(xiàn)凸起膜層結(jié)構(gòu)。

附圖說明

通過結(jié)合附圖考慮以下對本發(fā)明的優(yōu)選實施例的詳細說明，本發(fā)明的各種目標(biāo)、特征和優(yōu)點將變得更加顯而易見。附圖僅為本發(fā)明的示范性圖解，并非一定是按比例繪制。在附圖中，同樣的附圖標(biāo)記始終表示相同或類似的部件。其中：

圖1是現(xiàn)有技術(shù)中邊緣具有凸起膜層結(jié)構(gòu)的有機結(jié)構(gòu)層的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖2是現(xiàn)有技術(shù)中改進后的有機結(jié)構(gòu)層的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖3是現(xiàn)有技術(shù)中有機結(jié)構(gòu)組件的俯視圖的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖4是圖3中的a-a剖面圖。

圖5是根據(jù)一示例性實施方式示出的一種有機結(jié)構(gòu)組件的俯視圖的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖6是圖5中的b-b剖面圖。

圖7至圖10為根據(jù)一示例性實施方式示出的一種有機發(fā)光組件的形成流程圖。

圖11為根據(jù)一示例性實施方式示出的一種有機發(fā)光組件的形成流程圖。

其中，附圖標(biāo)記說明如下：

401、基板；402、薄膜封裝結(jié)構(gòu)層；

423、第一無機結(jié)構(gòu)層；422、有機結(jié)構(gòu)層；

421、第二無機結(jié)構(gòu)層；403、像素界定層；

504、防收縮止擋結(jié)構(gòu)；305、顯示區(qū)域；

306、陰極層；307、非顯示區(qū)域；

408、防擴散止擋結(jié)構(gòu)；909、掩膜板；

610、平坦化層；409、有機發(fā)光層；

403’、像素界定層部；306’、陰極層部；

423’、第一無機結(jié)構(gòu)層部。

具體實施方式

現(xiàn)在將參考附圖更全面地描述示例實施方式。然而，示例實施方式能夠以多種形式實施，且不應(yīng)被理解為限于在此闡述的實施方式；相反，提供這些實施方式使得本發(fā)明將全面和完整，并將示例實施方式的構(gòu)思全面地傳達給本領(lǐng)域的技術(shù)人員。圖中相同的附圖標(biāo)記表示相同或類似的結(jié)構(gòu)，因而將省略它們的詳細描述。

圖1是現(xiàn)有技術(shù)中邊緣具有凸起膜層結(jié)構(gòu)的有機結(jié)構(gòu)層的結(jié)構(gòu)示意圖。圖2是現(xiàn)有技術(shù)中改進后的有機結(jié)構(gòu)層的結(jié)構(gòu)示意圖，其中圖2中的爬坡距離l1大于圖1中的爬坡距離l2，例如但不限于爬坡距離l1通?？梢源笥?mm。圖3是現(xiàn)有技術(shù)中有機結(jié)構(gòu)組件的俯視圖的結(jié)構(gòu)示意圖。圖4是圖3中的a-a剖面圖。

圖5是根據(jù)一示例性實施方式示出的一種有機結(jié)構(gòu)組件的俯視圖的結(jié)構(gòu)示意圖。圖6是圖5中的b-b剖面圖。

參照圖5和圖6，根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種有機發(fā)光組件，該有機發(fā)光組件可以包括基板401、薄膜封裝結(jié)構(gòu)層402以及設(shè)置于該基板401和薄膜封裝結(jié)構(gòu)層402之間的中間結(jié)構(gòu)層。該基板401可以包括第一表面。薄膜封裝結(jié)構(gòu)層402可以包括第二無機結(jié)構(gòu)層421有機結(jié)構(gòu)層422。中間結(jié)構(gòu)層可以設(shè)置于第一表面上，中間結(jié)構(gòu)層可以具有顯示區(qū)域305和非顯示區(qū)域307，該非顯示區(qū)域307可以設(shè)置于顯示區(qū)域305的外圍，以包圍顯示區(qū)域305。也就是說，非顯示區(qū)域307可以為環(huán)形結(jié)構(gòu)，其環(huán)繞在顯示區(qū)域305的外周圍。

繼續(xù)參照圖5和圖6，根據(jù)本發(fā)明的一具體實施方式，其中中間結(jié)構(gòu)層可以包括平坦化層610以及間隔設(shè)置于該平坦化層610上的顯示結(jié)構(gòu)部和防收縮止擋結(jié)構(gòu)504，該防收縮止擋結(jié)構(gòu)504可以為環(huán)形結(jié)構(gòu)，其可以圍繞設(shè)置于顯示結(jié)構(gòu)的外圍，該像素界定層403與防收縮止擋結(jié)構(gòu)504可以不接觸。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施方式，其中防收縮止擋結(jié)構(gòu)504可以為多個，多個環(huán)形結(jié)構(gòu)可以依次間隔套設(shè)于像素界定層403的外環(huán)。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施方式，其中防收縮止擋結(jié)構(gòu)504可以為1-5圈，但不以此為限，可以根據(jù)有機結(jié)構(gòu)層422的材料特性進行調(diào)整。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施方式，其中像素界定層403和防收縮止擋結(jié)構(gòu)504可以分別包括背向薄膜封裝結(jié)構(gòu)層402的第一側(cè)表面和第二側(cè)表面，第一側(cè)表面和第二側(cè)表面位于同一平面，像素界定層403可以由第一側(cè)表面朝向薄膜封裝結(jié)構(gòu)層402突出形成，防收縮止擋結(jié)構(gòu)504可以由第二側(cè)表面朝向薄膜封裝結(jié)構(gòu)層402突出形成以伸入到有機結(jié)構(gòu)層422。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施方式，其中防收縮止擋結(jié)構(gòu)504可以沿垂直于薄膜封裝結(jié)構(gòu)層402的方向延伸，但不以此為限，防收縮止擋結(jié)構(gòu)504的延伸方向與薄膜封裝結(jié)構(gòu)層402所在平面的夾角可以根據(jù)實際需要進行選取，都在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。

繼續(xù)參照圖5和圖6，根據(jù)本發(fā)明的一具體實施方式，其中顯示結(jié)構(gòu)部可以包括依次層疊設(shè)置的像素界定層403、有機發(fā)光層409、陰極層306以及第一無機結(jié)構(gòu)層423，其中像素界定層403可以設(shè)置于平坦化層610上，有機發(fā)光層409可以設(shè)置于像素界定層403的背向平坦化層610的表面上，陰極層306可以設(shè)置于該有機發(fā)光層409上，并且該陰極層306在基板401上的投影大于有機發(fā)光層409在基板401上的投影面積，以使陰極層306完全覆蓋于有機發(fā)光層409的表面上。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施方式，其中第一有機結(jié)構(gòu)層423設(shè)置于陰極層306的背向有機發(fā)光層409的表面上。

繼續(xù)參照圖5和圖6，該防收縮止擋結(jié)構(gòu)504可以由該平坦化層610向外突出形成，以能夠插入到有機結(jié)構(gòu)層422中，在該有機結(jié)構(gòu)層422進行紫外光照射的過程中，防收縮止擋結(jié)構(gòu)504可以防止位于邊緣的有機結(jié)構(gòu)層422向中央部分聚合而形成凸起膜層結(jié)構(gòu)，以有效阻擋有機結(jié)構(gòu)層422邊緣向顯示區(qū)域305收縮，從而可以使有機發(fā)光組件的薄膜封裝結(jié)構(gòu)層402更加平坦，而無需增大爬坡距離。本發(fā)明提供的有機發(fā)光組件能夠使有機結(jié)構(gòu)層422在顯示區(qū)域305具有預(yù)想的厚度，并且可以保持平坦。該防收縮止擋結(jié)構(gòu)504可以很好地阻擋薄膜封裝結(jié)構(gòu)層402中有機結(jié)構(gòu)層422固化前墨水(ink)的流動，使ink流動的距離明顯縮小。較未增加防收縮止擋結(jié)構(gòu)504的現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有機發(fā)光組件的ink流動距離由原來的150μm縮小為70μm。根據(jù)本發(fā)明一具體實施方式，其中防收縮止擋結(jié)構(gòu)504可以構(gòu)成為封閉的環(huán)形結(jié)構(gòu)，顯示區(qū)域可以被套設(shè)于該防收縮止擋結(jié)構(gòu)504的環(huán)形內(nèi)側(cè)。

繼續(xù)參照圖5和圖6，根據(jù)本發(fā)明的一具體實施方式，其中防收縮止擋結(jié)構(gòu)504可以包括依次層疊設(shè)置的像素界定層部403’、陰極層部306’以及第一無機結(jié)構(gòu)層部423’，像素界定層部403’可以設(shè)置于平坦化層610上，陰極層部306’可以設(shè)置于像素界定層部403’的背向平坦化層610的表面上。

根據(jù)本發(fā)明的一具體實施方式，其中顯示結(jié)構(gòu)部可以位于顯示區(qū)域。其中像素界定層部403’可以與像素界定層403同層設(shè)置，且兩者可以選用相同的材料。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施方式，其中陰極層306可以與陰極層部306’同層設(shè)置，且兩者可以選用相同的材料。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施方式，其中第一無機結(jié)構(gòu)層部423’與第一無機結(jié)構(gòu)層423可以為同層設(shè)置，且兩者可以選用相同的材料，都在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。

參照圖4和圖6，根據(jù)本發(fā)明的一種具體實施方式，本發(fā)明的有機發(fā)光組件可以包括設(shè)置于非顯示區(qū)域的防擴散止擋結(jié)構(gòu)408，該防擴散止擋結(jié)構(gòu)408可以由陽極層的表面向外垂直突出延伸。在涂覆薄膜封裝結(jié)構(gòu)層402的過程中，可以防止ink向外周擴散，并且該防擴散止擋結(jié)構(gòu)408可以限定薄膜封裝結(jié)構(gòu)層402的厚度。

繼續(xù)參照圖5和圖6，根據(jù)本發(fā)明的一具體實施方式，其中薄膜封裝結(jié)構(gòu)層402可以設(shè)置于中間結(jié)構(gòu)層的背向第一表面的側(cè)面上，以用于封裝中間結(jié)構(gòu)層。根據(jù)本發(fā)明的一具體實施方式，其中防收縮止擋結(jié)構(gòu)504可以由平坦化層610的背離基板401的表面朝向薄膜封裝結(jié)構(gòu)層402延伸但不以此為限，防收縮止擋結(jié)構(gòu)504也可以位于其他位置，例如但不限于ild層、或者sd層、或者pln層或者陽極層。根據(jù)本發(fā)明的一實施方式，其中防收縮止擋結(jié)構(gòu)504可以采用曝光工藝形成。

根據(jù)本發(fā)明的一具體實施方式，其中以柔性顯示低溫多晶硅薄膜封裝結(jié)構(gòu)層(tfe)舉例說明，陣列段制作流程與現(xiàn)有技術(shù)相同，層間絕緣層(ild層)、源漏極層(sd層)、平坦化層(pln層)、陽極層與現(xiàn)有技術(shù)相同，其中不同點在于像素界定層403(pdl層)的同層還形成有防收縮止擋結(jié)構(gòu)504和防擴散止擋結(jié)構(gòu)408，該pdl層可以采用曝光技術(shù)完成，如圖6所示，該pdl層制作工藝與現(xiàn)有工藝相同。有機發(fā)光層(elcommon)，陰極層306、tfe(薄膜封裝結(jié)構(gòu)層)與現(xiàn)有工藝相同。

繼續(xù)參照圖5和圖6，根據(jù)本發(fā)明的一實施方式，其中顯示結(jié)構(gòu)部還可以包括陰極層306，該陰極層306在第一表面上的投影覆蓋防收縮止擋結(jié)構(gòu)504在第一表面上的投影，薄膜封裝結(jié)構(gòu)層402可以設(shè)置于陰極層306上的背向第一表面的側(cè)面上，也就是說陰極層306的外側(cè)邊緣可以位于防收縮止擋結(jié)構(gòu)504的外圍，陰極層306的內(nèi)側(cè)邊緣可以位于防收縮止擋結(jié)構(gòu)504的內(nèi)側(cè)。

參照圖6，根據(jù)本發(fā)明的一實施方式，其中顯示結(jié)構(gòu)部還包括有機發(fā)光層409，有機發(fā)光層409夾設(shè)于陰極層306和像素界定層403之間。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種顯示裝置，顯示裝置包括本發(fā)明提供的有機發(fā)光組件，其中有機發(fā)光組件的薄膜封裝結(jié)構(gòu)層402的表面更加平坦，從而提高了整體的亮度的均勻性，也就提高了顯示裝置的質(zhì)量。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供一種有機發(fā)光組件的制備方法，其包括以下步驟：s101、在基板上形成平坦化層，例如但不限于可以在玻璃載板(圖中未示)上依次形成基板401、緩沖層、柵極層、絕緣層、柵極層絕緣層(圖未示)、層間絕緣層、源漏極、平坦化層610；s102、在平坦化層610上形成顯示結(jié)構(gòu)部和間隔設(shè)置于該顯示結(jié)構(gòu)部外圍的防收縮止擋結(jié)構(gòu)504，例如但不限于對平坦化層610進行涂膠、曝光、顯影，以形成像素界定層403和像素界定層部403’；再依次形成陰極層306和陰極層部306’，以及第一無機結(jié)構(gòu)層423和第一無機結(jié)構(gòu)層部423’；s103、在顯示結(jié)構(gòu)部和防收縮止擋結(jié)構(gòu)504上形成有薄膜封裝結(jié)構(gòu)層。如圖7所示，首先，在基板401上形成有中間結(jié)構(gòu)層，該中間結(jié)構(gòu)層可以包括平坦化層610，該平坦化層610可以直接設(shè)置于基板401上，也可以間接設(shè)置于基板401上，都在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)。然后，在上述平坦化層610上進行涂膠，以形成圖8所示結(jié)構(gòu)；其次，參照圖9和圖10，使用掩膜板909對圖8形成的結(jié)構(gòu)進行曝光和顯影，以在圖8形成的結(jié)構(gòu)上形成像素界定層403和像素界定層部403’以及防擴散止擋結(jié)構(gòu)408。

根據(jù)本發(fā)明的一具體實施方式，其中在平坦化層610上形成顯示結(jié)構(gòu)部和間隔設(shè)置于顯示結(jié)構(gòu)部外圍的防收縮止擋結(jié)構(gòu)504的步驟包括：在平坦化層610上進行涂膠、曝光、顯影，以形成像素界定層403和像素界定層部403’；分別在像素界定層403和像素界定層部403’上形成陰極層306和陰極層部306’；分別在陰極層306和陰極層部306’上形成第一無機結(jié)構(gòu)層423和第一無機結(jié)構(gòu)層部423’。

根據(jù)本發(fā)明的一具體實施方式，其中在顯示結(jié)構(gòu)部和防收縮止擋結(jié)構(gòu)504上形成有薄膜封裝結(jié)構(gòu)層的步驟包括：在顯示結(jié)構(gòu)部和防收縮止擋結(jié)構(gòu)504上形成有機結(jié)構(gòu)層422；在有機結(jié)構(gòu)層422上沉積第二無機結(jié)構(gòu)層423，第二無機結(jié)構(gòu)層423與第一無機結(jié)構(gòu)層421沉積位置相同或不同。

需要說明的是，本發(fā)明中的“依次形成”可以指按照預(yù)定順序形成，相鄰組件之間可以直接相鄰，也可以間接相鄰，都在本發(fā)明的保護范圍內(nèi)，例如但不限于，本發(fā)明一種具體實施方式中的基板401與層間絕緣層可以間接相鄰。

本發(fā)明所描述的特征、結(jié)構(gòu)或特性可以以任何合適的方式結(jié)合在一個或更多實施方式中。在上面的描述中，提供許多具體細節(jié)從而給出對本發(fā)明的實施方式的充分理解。然而，本領(lǐng)域技術(shù)人員將意識到，可以實踐本發(fā)明的技術(shù)方案而沒有所述特定細節(jié)中的一個或更多，或者可以采用其它的方法、組件、材料等。在其它情況下，不詳細示出或描述公知結(jié)構(gòu)、材料或者操作以避免模糊本發(fā)明的各方面。