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一種噴涂式刻蝕槽的制作方法

文檔序號:12307739閱讀:193來源:國知局
一種噴涂式刻蝕槽的制作方法與工藝

本發(fā)明涉及硅片刻蝕技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種噴涂式刻蝕槽。



背景技術(shù):

太陽能電池片的制造過程需要經(jīng)過很多個步驟,其中對硅片的刻蝕工藝也是必不可少的一部分,硅片在刻蝕過程中,需要使用刻蝕液對硅片除了擴散面以外的所有面進行刻蝕。

現(xiàn)有技術(shù)中,常用的刻蝕槽均采用粘液滾輪,來對硅片進行刻蝕,通過粘液滾輪將刻蝕液粘在滾輪上,然后滾輪將刻蝕液傳遞到硅片上完成刻蝕,但是這種方式存在一個較為明顯的缺陷:采用粘液滾輪的方式對硅片進行刻蝕時,使得硅片的側(cè)壁無法很好的進行刻蝕,從而導(dǎo)致了硅片在刻蝕過程中,無法很好的將除了擴散面以外的其余面均刻蝕到,也就容易造成硅片刻蝕質(zhì)量下降的情況。



技術(shù)實現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于提供一種噴涂式刻蝕槽,以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

為實現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:

一種噴涂式刻蝕槽,包括刻蝕槽、水泵以及噴嘴,所述刻蝕槽的內(nèi)側(cè)壁上對稱設(shè)置有固定板,所述固定板中開設(shè)有滑槽,所述滑槽內(nèi)活動設(shè)置有滑塊,所述滑塊中開設(shè)有安裝槽,所述安裝槽內(nèi)側(cè)壁上固定有定軸,所述定軸上活動連接有安裝柱;

所述噴嘴固定于安裝柱上,且噴嘴通過管道與水泵連通,所述刻蝕槽側(cè)壁上固定有固定環(huán),所述安裝柱上固定有移動環(huán),所述固定環(huán)與移動環(huán)通過連接線相連;

所述刻蝕槽安裝有固定板的內(nèi)側(cè)壁上水平設(shè)置有滾輪。

優(yōu)選的,每個所述噴嘴對應(yīng)連接于一個水泵上。

優(yōu)選的,所述水泵設(shè)置于支撐板上,所述支撐板固定于刻蝕槽外側(cè)壁上。

優(yōu)選的,所述滾輪上固定套設(shè)有限位輪。

與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果是:

本發(fā)明的噴嘴通過水泵的作用,可以噴涂出刻蝕液對硅片的側(cè)壁進行刻蝕,滑槽和滑塊的作用,可以用來調(diào)節(jié)噴嘴的水平位置,以針對不同長度的硅片進行刻蝕;而且安裝噴嘴的固定柱與定軸轉(zhuǎn)動連接,可以通過調(diào)節(jié)連接線的長度,來調(diào)整噴嘴向下噴涂刻蝕液的角度,以針對不同厚度的硅片進行刻蝕,從而使得噴嘴可以很好的將刻蝕液噴涂到硅片的側(cè)壁上,而且可以防止刻蝕液噴涂到擴散面上對硅片造成損壞。

本發(fā)明通過噴嘴和水泵的配合,可以很好的完成刻蝕液對硅片側(cè)壁的噴涂,而且通過對噴嘴的水平位置以及噴液角度的調(diào)節(jié),可以針對不同尺寸的硅片進行噴涂,非常方便,使得硅片在擴散面背面刻蝕的過程中,完成對硅片側(cè)壁的刻蝕,在節(jié)約了大量時間的同時,還可以提高硅片刻蝕質(zhì)量,十分有效。

附圖說明

圖1為本發(fā)明刻蝕槽的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2為本發(fā)明的固定板結(jié)構(gòu)示意圖;

圖3為本發(fā)明的滑塊結(jié)構(gòu)示意圖;

圖4為實施例中噴嘴對硅片的噴涂角度示意圖。

圖中:1刻蝕槽、2水泵、21支撐板、3固定板、4滑槽、5滑塊、6安裝槽、7定軸、8安裝柱、9噴嘴、10固定環(huán)、11移動環(huán)、12連接線、13滾輪、14硅片、15限位輪。

具體實施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例?;诒景l(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。

請參閱圖1-4,本發(fā)明提供一種技術(shù)方案:

一種噴涂式刻蝕槽,包括刻蝕槽1、水泵2以及噴嘴9,刻蝕槽1內(nèi)裝有刻蝕液,刻蝕槽1的內(nèi)側(cè)壁上對稱設(shè)置有固定板3,固定板3作為安裝基座,會接觸到刻蝕液,所以需要在固定板3上設(shè)置有防酸液腐蝕層。

固定板3中開設(shè)有滑槽4,滑槽4內(nèi)活動設(shè)置有滑塊5,滑塊5可以在滑槽4內(nèi)自由移動,滑槽4的滑道對滑塊5進行限位,可以防止滑塊5從滑槽4內(nèi)掉出,滑塊5中開設(shè)有安裝槽6,安裝槽6內(nèi)側(cè)壁上固定有定軸7,定軸7的兩端固定插接在安裝槽6的側(cè)壁上,定軸7本身不會轉(zhuǎn)動,移動在定軸7上活動連接有安裝柱8,安裝柱8與定軸7之間采用鉸接的方式,使得安裝柱8可以繞著定軸7轉(zhuǎn)動,實現(xiàn)對安裝柱8的轉(zhuǎn)動調(diào)節(jié),通過滑塊5的移動,從而帶動定軸7進行移動,也就實現(xiàn)了安裝柱8的左右移動,即帶動噴嘴9左右移動。

噴嘴9固定于安裝柱8上,噴嘴9安裝在安裝柱8遠離定軸7的一端,如說明書附圖4所示,噴嘴9安裝后的噴液方向朝向硅片14,且噴嘴9通過管道與水泵2連通,使得水泵2向噴嘴9輸送刻蝕液,且每個噴嘴9對應(yīng)連接于一個水泵2上,水泵2從tank槽內(nèi)進行抽液,采用單一水泵2對應(yīng)只對一個噴嘴9進行供液,使得噴嘴9之間相互不干擾。

作為一個優(yōu)選,使水泵2設(shè)置于支撐板21上,支撐板21固定于刻蝕槽7外側(cè)壁上,這樣方便水泵2的設(shè)置與固定,而且可以節(jié)約水泵2與噴嘴9之間的連接管道的長度,非常有效。

刻蝕槽1側(cè)壁上固定有固定環(huán)10,固定環(huán)10安裝在刻蝕槽1的側(cè)壁上表面,安裝柱8上固定有移動環(huán)11,移動環(huán)11安裝在固定柱8靠近固定環(huán)10的一側(cè)側(cè)壁上,固定環(huán)10與移動環(huán)11通過連接線12相連,連接線12的長度可調(diào)節(jié),且連接線12對固定柱8起到一個拉持作用,如說明書附圖4所示,當需要對硅片14進行噴涂時,調(diào)節(jié)連接線12的長度,使得固定柱8繞著定軸7開始轉(zhuǎn)動,帶動著噴嘴9形成一個向下的噴液角度,也就使噴嘴9噴出的刻蝕液可以剛好噴涂到硅片14側(cè)壁的最上端,從而實現(xiàn)對硅片14側(cè)壁更好的噴涂效果。

刻蝕槽1安裝有固定板3的內(nèi)側(cè)壁上水平設(shè)置有滾輪13,滾輪13設(shè)置有多排,更加方便硅片14的運輸,滾輪13上固定套設(shè)有限位輪15,限位輪15之間的間隔距離用來放置硅片14,對硅片14進行調(diào)節(jié)限位,防止硅片14發(fā)生左右晃動,也就有效的防止了噴嘴9噴出的液體噴涂到硅片14的擴散面上。

盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實施例,對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言,可以理解在不脫離本發(fā)明的原理和精神的情況下可以對這些實施例進行多種變化、修改、替換和變型,本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。



技術(shù)特征:

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種噴涂式刻蝕槽,包括刻蝕槽、水泵以及噴嘴,刻蝕槽的內(nèi)側(cè)壁上對稱設(shè)置有固定板,固定板中開設(shè)有滑槽,滑槽內(nèi)活動設(shè)置有滑塊,滑塊中開設(shè)有安裝槽,安裝槽內(nèi)側(cè)壁上固定有定軸,且噴嘴通過管道與水泵連通,刻蝕槽側(cè)壁上固定有固定環(huán),所述安裝柱上固定有移動環(huán),所述固定環(huán)與移動環(huán)通過連接線相連;所述刻蝕槽安裝有固定板的內(nèi)側(cè)壁上水平設(shè)置有滾輪。本發(fā)明通過噴嘴和水泵的配合,可以很好的完成刻蝕液對硅片側(cè)壁的噴涂,可以針對不同尺寸的硅片進行噴涂,非常方便,使得硅片在擴散面背面刻蝕的過程中,完成對硅片側(cè)壁的刻蝕,在節(jié)約了大量時間的同時,還可以提高硅片刻蝕質(zhì)量,十分有效。

技術(shù)研發(fā)人員:徐峰;陳剛;譚飛;徐光;葛新國
受保護的技術(shù)使用者:通威太陽能(安徽)有限公司
技術(shù)研發(fā)日:2017.08.14
技術(shù)公布日:2017.10.27
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