本實(shí)用新型涉及光伏太陽(yáng)能電池技術(shù)領(lǐng)域，尤其是一種薄膜電池掩膜裝置。

背景技術(shù)：

隨著能源的日益短缺，人們對(duì)太陽(yáng)能的開發(fā)和利用日趨重視。市場(chǎng)上對(duì)面積更大、效率更高，且生產(chǎn)成本更低的新型太陽(yáng)能電池的需求日益增加。在光伏電池領(lǐng)域，硅基薄膜、碲化鎘（CdTe）薄膜、CIGS薄膜太陽(yáng)電池因其本身固有的材料性能和他的發(fā)展進(jìn)程、便于大面積連續(xù)化生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)，受到廣泛關(guān)注。

薄膜電池在目前的制造工藝中需要在電池的邊緣貼上絕緣膠帶，然后沉積金屬背電極，然后進(jìn)行激光刻線與掃邊工藝。不貼絕緣掩膜，掃邊的時(shí)候，會(huì)造成部分激光劃線被掃邊產(chǎn)生的金屬背電極粉塵填充，造成局部區(qū)域短路，降低電池效率。傳統(tǒng)的貼絕緣膠帶的方法雖然可以避免電池局部短路，但是浪費(fèi)大量的人力、物力。采用人工的方法，由于人為因素，會(huì)造成邊緣區(qū)域貼的位置不均勻、不統(tǒng)一，太窄解決不了短路問題，太寬又會(huì)造成發(fā)電面積損失，兩者都會(huì)影響效率且影響產(chǎn)品的外觀。而且采用絕緣膠帶的方法，膠帶無法重復(fù)利用，增加成本。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的目的是提供一種薄膜電池掩膜裝置。

本實(shí)用新型所采用的技術(shù)方案為：

一種薄膜電池掩膜裝置，包括掩膜體、定位機(jī)構(gòu)和活動(dòng)機(jī)構(gòu)，該定位機(jī)構(gòu)位于掩膜體的一側(cè)，活動(dòng)機(jī)構(gòu)位于掩膜體的另一側(cè)并與定位機(jī)構(gòu)相對(duì)設(shè)置，該掩膜體用于覆蓋待鍍膜基板的邊緣，定位機(jī)構(gòu)固定待鍍膜基板一側(cè)于掩膜體的一側(cè)下方，活動(dòng)機(jī)構(gòu)可在掩膜體上滑動(dòng)調(diào)節(jié)固定待鍍膜基板另一側(cè)于掩膜體的另一側(cè)下方。

進(jìn)一步，所述活動(dòng)機(jī)構(gòu)上面安裝有調(diào)節(jié)閥、鎖死機(jī)構(gòu)，該調(diào)節(jié)閥用于連接活動(dòng)機(jī)構(gòu)與掩膜體，且調(diào)節(jié)閥由鎖死機(jī)構(gòu)鎖緊或松開。

具體的，所述活動(dòng)機(jī)構(gòu)以掩膜體為軸心進(jìn)行調(diào)節(jié)。其中，所述活動(dòng)機(jī)構(gòu)是整體穿過掩膜體，或者是扣在掩膜體上。

與現(xiàn)有技術(shù)相比較，本實(shí)用新型具有以下有益效果：通過本裝置，能夠快速的進(jìn)行掩膜，保證掩膜的精準(zhǔn)性和重復(fù)性，保證產(chǎn)品外觀的一致，且可以重復(fù)利用，節(jié)約了生產(chǎn)成本和時(shí)間，有利于進(jìn)一步降低組件成本，提高產(chǎn)品競(jìng)爭(zhēng)力，且減少了膠帶的使用，也杜絕了環(huán)境污染。

附圖說明

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式做進(jìn)一步的說明。

圖1為本實(shí)用新型裝置的側(cè)視圖；

圖2為本實(shí)用新型裝置側(cè)視圖的A局部放大圖；

圖3為本實(shí)用新型裝置側(cè)視圖的B局部放大圖；

圖4為本實(shí)用新型裝置對(duì)電池基板進(jìn)行掩膜后的側(cè)視圖；

圖5為圖4的C局部放大圖；

圖6為圖4的D局部放大圖；

圖7為本實(shí)用新型裝置的俯視圖；

圖8位本實(shí)用新型裝置對(duì)電池基板進(jìn)行掩膜后的俯視圖。

具體實(shí)施方式

參閱圖1-圖7所示，為本實(shí)用新型的一種薄膜電池掩膜裝置，包括掩膜體1、定位機(jī)構(gòu)2和活動(dòng)機(jī)構(gòu)3，該定位機(jī)構(gòu)2位于掩膜體1的一側(cè)，活動(dòng)機(jī)構(gòu)3位于掩膜體1的另一側(cè)并與定位機(jī)構(gòu)2相對(duì)設(shè)置，該掩膜體1用于覆蓋待鍍膜基板的邊緣，定位機(jī)構(gòu)2固定待鍍膜基板一側(cè)于掩膜體1的一側(cè)下方，活動(dòng)機(jī)構(gòu)3可在掩膜體1上滑動(dòng)調(diào)節(jié)固定待鍍膜基板另一側(cè)于掩膜體1的另一側(cè)下方。

進(jìn)一步，所述活動(dòng)機(jī)構(gòu)3上面安裝有調(diào)節(jié)閥4、鎖死機(jī)構(gòu)5，該調(diào)節(jié)閥4用于連接活動(dòng)機(jī)構(gòu)3與掩膜體1，且調(diào)節(jié)閥4由鎖死機(jī)構(gòu)5鎖緊或松開。具體的，所述活動(dòng)機(jī)構(gòu)3以掩膜體1為軸心進(jìn)行調(diào)節(jié)。其中，所述活動(dòng)機(jī)構(gòu)3是整體穿過掩膜體1，或者是扣在掩膜體1上?；顒?dòng)機(jī)構(gòu)3調(diào)節(jié)到位，通過鎖死機(jī)構(gòu)5進(jìn)行緊固；所示活動(dòng)機(jī)構(gòu)3緊固之后，無法調(diào)節(jié)。

如圖8所示，在鍍膜前，將該裝置裝在基板6的兩邊；所示掩膜體1的寬大于等于掃邊區(qū)域7的寬度；

安裝時(shí)，如圖5所示，所述定位機(jī)構(gòu)2卡在基板6的一側(cè)；如圖6所示，所述活動(dòng)機(jī)構(gòu)3卡在基板6的另一側(cè)；通過推動(dòng)調(diào)節(jié)閥4，使活動(dòng)機(jī)構(gòu)卡緊基板6；通過鎖死機(jī)構(gòu)5，使活動(dòng)機(jī)構(gòu)3緊緊的扣在基板6上；將所述裝好掩膜裝置的基板6放進(jìn)鍍膜機(jī)進(jìn)行鍍膜；

該鍍膜機(jī)可以是PVD（物理氣相沉積）、CVD（化學(xué)氣相沉積）、VTD（氣相運(yùn)輸沉積）等鍍膜機(jī)；將鍍完膜的基板6取出，松開鎖死機(jī)構(gòu)5，松開活動(dòng)機(jī)構(gòu)4，取下整個(gè)掩膜裝置，完成鍍膜；將該基板進(jìn)行激光刻劃和掃邊，完成整個(gè)工藝。該掩膜裝置可以重新對(duì)新的基板進(jìn)行掩膜，達(dá)到重復(fù)利用的目的。

以上所述僅為本實(shí)用新型的優(yōu)先實(shí)施方式，本實(shí)用新型并不限定于上述實(shí)施方式，只要以基本相同手段實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型目的的技術(shù)方案都屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。