本申請(qǐng)涉及顯示設(shè)備，具體而言，涉及一種驅(qū)動(dòng)基板、驅(qū)動(dòng)基板的制備方法、顯示面板及電子設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、隨著顯示技術(shù)的發(fā)展，需要在顯示產(chǎn)品的側(cè)邊形成各種薄膜，目前顯示產(chǎn)品的側(cè)邊成膜方案為用遮擋掩膜版遮擋住不需要成膜的區(qū)域，然后通過(guò)濺射等工藝在遮擋掩膜版等部位形成一層金屬層。

2、然而，當(dāng)把遮擋掩膜版撕下來(lái)的時(shí)候，可能會(huì)將部分用于形成側(cè)邊走線的金屬層一起帶走，從而導(dǎo)致顯示產(chǎn)品的側(cè)邊走線不完整，進(jìn)而導(dǎo)致側(cè)邊走線失效。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為了克服上述技術(shù)背景中所提及的技術(shù)問(wèn)題，本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種驅(qū)動(dòng)基板，所述驅(qū)動(dòng)基板包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)；在所述非顯示區(qū)，所述驅(qū)動(dòng)基板包括：

2、襯底；

3、位于所述襯底一側(cè)的第一金屬層；

4、位于所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底一側(cè)的隔離膜層，所述隔離膜層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)具有至少一個(gè)凹槽和至少一個(gè)通孔；所述通孔靠近所述顯示區(qū)的一側(cè)在所述襯底上的正投影到所述顯示區(qū)的距離大于所述凹槽靠近所述通孔的一側(cè)在所述襯底上的正投影到所述顯示區(qū)的距離；

5、側(cè)邊走線，所述側(cè)邊走線從所述隔離膜層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)經(jīng)所述驅(qū)動(dòng)基板的側(cè)邊延伸至所述襯底遠(yuǎn)離所述隔離膜層的一側(cè)，所述側(cè)邊走線通過(guò)所述通孔與所述第一金屬層電連接；所述側(cè)邊走線靠近所述凹槽的一側(cè)在所述襯底上的正投影到所述顯示區(qū)的距離大于或等于所述凹槽靠近所述側(cè)邊走線的一側(cè)在所述襯底上的正投影到所述顯示區(qū)的距離。

6、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，所述凹槽的數(shù)量為一個(gè)，所述凹槽沿第一方向延伸，所述凹槽與各個(gè)所述側(cè)邊走線的延長(zhǎng)線相交，所述第一方向與所述側(cè)邊走線的延伸方向相交；

7、優(yōu)選地，所述第一方向與所述側(cè)邊走線的延伸方向相互垂直；

8、優(yōu)選地，所述凹槽的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)所述凹槽沿第二方向排布，所述第二方向與所述側(cè)邊走線的延伸方向平行。

9、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，所述凹槽的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)所述凹槽沿第一方向排布，所述第一方向與所述側(cè)邊走線的延伸方向相交；

10、優(yōu)選地，多個(gè)所述凹槽與多個(gè)所述側(cè)邊走線一一對(duì)應(yīng)，所述凹槽與對(duì)應(yīng)的所述側(cè)邊走線的延長(zhǎng)線相交；

11、優(yōu)選地，所述第一方向與所述側(cè)邊走線的延伸方向相互垂直；

12、優(yōu)選地，多個(gè)所述凹槽呈陣列排布。

13、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，在垂直于所述襯底的方向上，靠近所述顯示區(qū)的凹槽的深度小于遠(yuǎn)離所述顯示區(qū)的凹槽的深度；

14、優(yōu)選地，沿從所述非顯示區(qū)到所述顯示區(qū)的方向，所述凹槽在垂直于所述襯底的方向上的深度逐漸遞減；

15、優(yōu)選地，在垂直于所述襯底的方向上，所述凹槽的深度范圍為

16、優(yōu)選地，沿從所述顯示區(qū)到所述非顯示區(qū)的方向，所述凹槽的開(kāi)口寬度范圍為2um-10um。

17、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，所述側(cè)邊走線在所述襯底上的正投影覆蓋所述通孔在所述襯底上的正投影，所述通孔內(nèi)設(shè)有轉(zhuǎn)接金屬，所述第一金屬層通過(guò)位于所述通孔內(nèi)的所述轉(zhuǎn)接金屬與所述側(cè)邊走線電連接。

18、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，所述凹槽靠近所述襯底的一側(cè)在所述襯底上的正投影位于所述凹槽遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)在所述襯底上的正投影內(nèi)；

19、優(yōu)選地，所述凹槽的側(cè)壁的傾斜角度為50°-90°。

20、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，所述通孔靠近所述襯底的一側(cè)在所述襯底上的正投影位于所述通孔遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)在所述襯底上的正投影內(nèi)。

21、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N驅(qū)動(dòng)基板的制備方法，所述驅(qū)動(dòng)基板包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)，所述方法包括：

22、提供一襯底；

23、在所述襯底的一側(cè)設(shè)置第一金屬層；

24、在所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)設(shè)置隔離膜層；

25、在所述隔離膜層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)設(shè)置至少一個(gè)凹槽和至少一個(gè)通孔；

26、在所述隔離膜層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)貼附遮擋掩膜版；所述遮擋掩膜版靠近所述凹槽的一側(cè)在所述襯底上的正投影到所述顯示區(qū)的距離小于所述凹槽靠近所述遮擋掩膜版的一側(cè)在所述襯底上的正投影到所述顯示區(qū)的距離；

27、在所述遮擋掩膜版遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)、所述隔離膜層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)、所述隔離膜層遠(yuǎn)離所述顯示區(qū)的側(cè)面、所述驅(qū)動(dòng)基板遠(yuǎn)離所述顯示區(qū)的側(cè)面和所述驅(qū)動(dòng)基板遠(yuǎn)離所述隔離膜層的一側(cè)均設(shè)置第二金屬層；

28、使所述第二金屬層在所述凹槽處斷開(kāi)，以去除所述遮擋掩膜版以及所述遮擋掩膜版表面的第二金屬層；

29、對(duì)剩余的所述第二金屬層進(jìn)行刻蝕，以形成側(cè)邊走線；所述側(cè)邊走線從所述隔離膜層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)經(jīng)所述驅(qū)動(dòng)基板的側(cè)邊延伸至所述襯底遠(yuǎn)離所述隔離膜層的一側(cè)，所述側(cè)邊走線通過(guò)所述通孔與所述第一金屬層電連接。

30、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N顯示面板，包括本申請(qǐng)中所述的驅(qū)動(dòng)基板。

31、在一種可能的實(shí)現(xiàn)方式中，本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N電子設(shè)備，包括本申請(qǐng)中所述的顯示面板。

32、相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù)而言，本申請(qǐng)具有以下有益效果：

33、本申請(qǐng)?zhí)峁┑囊环N驅(qū)動(dòng)基板、驅(qū)動(dòng)基板的制備方法、顯示面板及電子設(shè)備，通過(guò)在隔離膜層遠(yuǎn)離襯底的一側(cè)設(shè)置凹槽，可以將用于形成側(cè)邊走線的第二金屬層在凹槽處斷開(kāi)，從而不容易使用于形成側(cè)邊走線的第二金屬層脫落，進(jìn)而可以提高顯示產(chǎn)品的側(cè)邊走線的完整性，不容易使側(cè)邊走線失效。

技術(shù)特征：

1.一種驅(qū)動(dòng)基板，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)基板包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)；在所述非顯示區(qū)，所述驅(qū)動(dòng)基板包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的驅(qū)動(dòng)基板，其特征在于，所述凹槽的數(shù)量為一個(gè)，所述凹槽沿第一方向延伸，所述凹槽與各個(gè)所述側(cè)邊走線的延長(zhǎng)線相交，所述第一方向與所述側(cè)邊走線的延伸方向相交；

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的驅(qū)動(dòng)基板，其特征在于，所述凹槽的數(shù)量為多個(gè)，多個(gè)所述凹槽沿第一方向排布，所述第一方向與所述側(cè)邊走線的延伸方向相交；

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的驅(qū)動(dòng)基板，其特征在于，在垂直于所述襯底的方向上，靠近所述顯示區(qū)的凹槽的深度小于遠(yuǎn)離所述顯示區(qū)的凹槽的深度；

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的驅(qū)動(dòng)基板，其特征在于，所述側(cè)邊走線在所述襯底上的正投影覆蓋所述通孔在所述襯底上的正投影，所述通孔內(nèi)設(shè)有轉(zhuǎn)接金屬，所述第一金屬層通過(guò)位于所述通孔內(nèi)的所述轉(zhuǎn)接金屬與所述側(cè)邊走線電連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的驅(qū)動(dòng)基板，其特征在于，所述凹槽靠近所述襯底的一側(cè)在所述襯底上的正投影位于所述凹槽遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)在所述襯底上的正投影內(nèi)；

7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)基板，其特征在于，所述通孔靠近所述襯底的一側(cè)在所述襯底上的正投影位于所述通孔遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)在所述襯底上的正投影內(nèi)。

8.一種驅(qū)動(dòng)基板的制備方法，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)基板包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)，所述方法包括：

9.一種顯示面板，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-7中任意一項(xiàng)所述的驅(qū)動(dòng)基板。

10.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括權(quán)利要求9中所述的顯示面板。

技術(shù)總結(jié)
本申請(qǐng)實(shí)施例提供的一種驅(qū)動(dòng)基板、驅(qū)動(dòng)基板的制備方法、顯示面板及電子設(shè)備，涉及顯示設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，所述驅(qū)動(dòng)基板包括襯底、第一金屬層、隔離膜層和側(cè)邊走線；所述第一金屬層位于所述襯底的一側(cè)；所述隔離膜層位于所述第一金屬層遠(yuǎn)離所述襯底一側(cè)的，所述隔離膜層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)具有至少一個(gè)凹槽；所述側(cè)邊走線從所述隔離膜層遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)經(jīng)所述驅(qū)動(dòng)基板的側(cè)邊延伸至所述襯底遠(yuǎn)離所述隔離膜層的一側(cè)，所述側(cè)邊走線與所述第一金屬層電連接。本申請(qǐng)?jiān)诟綦x膜層遠(yuǎn)離襯底的一側(cè)設(shè)置凹槽，當(dāng)撕下遮擋掩膜版時(shí)，第二金屬層會(huì)在凹槽處斷開(kāi)，從而不容易使用于形成側(cè)邊走線的第二金屬層脫落，進(jìn)而可以提高顯示產(chǎn)品的側(cè)邊走線的完整性。

技術(shù)研發(fā)人員：楊永光,曹軒,路天,陳建都,張楊,葛泳,李勃
受保護(hù)的技術(shù)使用者：成都辰顯光電有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/12/26