本技術(shù)涉及石墨舟干法刻蝕設(shè)備，具體為一種用于石墨舟干法刻蝕的真空腔體結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)：

1、光伏行業(yè)pecvd(plasma?enhanced?chemical?vapor?deposition，即等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)工藝中，石墨舟作為裝載治具在經(jīng)過多次鍍膜工序后，表面會(huì)形成較厚的膜層，從而降低晶片的轉(zhuǎn)換率。故石墨舟在使用到一定次數(shù)后需要清洗一次，去除表面膜層。

2、傳統(tǒng)的石墨舟清洗方法為濕法清洗，利用氫氟酸浸泡清洗，再純水清洗，后烘干，整個(gè)制程耗時(shí)長，污染大。近年又出現(xiàn)了使用等離子設(shè)備干法清洗的工藝，相較傳統(tǒng)濕法清洗，其用工藝氣體電離產(chǎn)生等離子對(duì)石墨舟表面膜層進(jìn)行物理轟擊和化學(xué)反應(yīng)，制程耗時(shí)短，污染小。

3、但是部分等離子設(shè)備是由鋁材制作，其等離子設(shè)備的腔體多數(shù)設(shè)置為方形，然而使用鋁材方形腔體進(jìn)行干法清洗時(shí)，腔壁會(huì)因刻蝕化合物堆積出現(xiàn)腐蝕產(chǎn)生粉末，污染石墨舟，因此我們需要提出一種用于石墨舟干法刻蝕的真空腔體結(jié)構(gòu)來解決上述存在的問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本實(shí)用新型的目的在于提供一種用于石墨舟干法刻蝕的真空腔體結(jié)構(gòu)，通過將真空腔體設(shè)置為圓筒型，通過遠(yuǎn)程等離子電源、加熱棒、抽真空管道和真空泵組的配合，再配合圓筒型真空腔體有效降低腔壁會(huì)因刻蝕化合物堆積出現(xiàn)腐蝕產(chǎn)生粉末，提高了石墨舟清洗的質(zhì)量，以解決背景技術(shù)中提出的問題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：一種用于石墨舟干法刻蝕的真空腔體結(jié)構(gòu)，包括不銹鋼圓筒型的真空腔體，所述真空腔體的內(nèi)部安裝有不銹鋼材質(zhì)的支撐桿，所述支撐桿上設(shè)置有石墨舟，所述真空腔體的一端安裝有腔門機(jī)構(gòu)，所述真空腔體的內(nèi)部安裝有多組加熱管，多組所述加熱管均勻分布在石墨舟的外周，所述真空腔體的另一端安裝有后端蓋板，且所述加熱管的一端安裝有加熱棒接頭，所述加熱棒接頭安裝在后端蓋板上，所述后端蓋板上還安裝有兩個(gè)與石墨舟連接的電極管接頭和一個(gè)與真空腔體連通的真空計(jì)，所述真空腔體的上端連通有多個(gè)用于產(chǎn)生提供等離子體的遠(yuǎn)程等離子電源，所述真空腔體的下端連通有抽真空管道，所述抽真空管道的一端連通有真空泵組。

3、優(yōu)選的，所述支撐桿設(shè)置有兩組，兩組所述支撐桿平行固定在真空腔體的內(nèi)底部，所述石墨舟放置在兩組支撐桿上，且所述石墨舟的一端設(shè)置有供兩個(gè)電極管接頭插接的電極孔。

4、優(yōu)選的，所述支撐桿的外部套接有特氟龍?zhí)祝鎏胤執(zhí)椎拈L度比石墨舟支腳的長度長，所述真空腔體兩端設(shè)置有端面法蘭，所述真空腔體兩端的端面法蘭內(nèi)圈上固定有支座，所述支撐桿的兩端分別固定在真空腔體兩端的支座上。

5、優(yōu)選的，所述腔門機(jī)構(gòu)和后端蓋板分別安裝在真空腔體兩端的端面法蘭上，所述端面法蘭上開設(shè)有水冷槽，所述水冷槽的一側(cè)連通有水冷機(jī)構(gòu)。

6、優(yōu)選的，所述腔門機(jī)構(gòu)包括腔門，所述腔門靠近端面法蘭的一側(cè)開設(shè)有密封槽，所述密封槽內(nèi)放置有密封圈，所述腔門關(guān)閉時(shí)與端面法蘭密封閉合。

7、優(yōu)選的，所述后端蓋板的中部設(shè)置有兩個(gè)觀察窗，兩個(gè)所述觀察窗位于電極管接頭的兩側(cè)。

8、優(yōu)選的，所述抽真空管道包括主管和多個(gè)支管，多個(gè)支管均與主管連通，所述主管的一端與真空泵組連通，多個(gè)所述遠(yuǎn)程等離子電源與多個(gè)支管間上下位置錯(cuò)開，所述遠(yuǎn)程等離子電源的一端連通有進(jìn)氣管。

9、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是：

10、1、本實(shí)用新型通過將真空腔體設(shè)置為圓筒型，將石墨舟放入真空腔體內(nèi)的支撐桿固定位置上，即特氟龍?zhí)咨?，石墨舟分別對(duì)接真空腔體內(nèi)的電極管接頭，關(guān)上腔門機(jī)構(gòu)，加熱管加熱升溫，到設(shè)定溫度值后啟動(dòng)真空泵組抽真空，經(jīng)真空計(jì)檢測(cè)真空腔體內(nèi)的真空度達(dá)到設(shè)定真空度后，遠(yuǎn)程等離子電源通入氬氣并點(diǎn)火,遠(yuǎn)程等離子電源點(diǎn)火成功后通入nf3,遠(yuǎn)程等離子電源開始電離nf3，形成的等離子體進(jìn)入真空腔體，對(duì)石墨舟進(jìn)行刻蝕清洗，通過此方式再配合圓筒型真空腔體有效降低腔壁會(huì)因刻蝕化合物堆積出現(xiàn)腐蝕產(chǎn)生粉末，提高了石墨舟清洗的質(zhì)量。

11、2、本實(shí)用新型通過電極管接頭的設(shè)置，通過電極管接頭外接中頻電源，外接的中頻電源經(jīng)過電極管接頭對(duì)石墨舟施加電場，進(jìn)一步對(duì)真空腔體內(nèi)的等離子體和殘余氣體進(jìn)行二次電離，提高離化率。

技術(shù)特征：

1.一種用于石墨舟干法刻蝕的真空腔體結(jié)構(gòu)，包括不銹鋼圓筒型的真空腔體(2)，其特征在于：所述真空腔體(2)的內(nèi)部安裝有不銹鋼材質(zhì)的支撐桿(4)，所述支撐桿(4)上放置有石墨舟(3)，所述真空腔體(2)的一端安裝有腔門機(jī)構(gòu)(10)，所述真空腔體(2)的內(nèi)部安裝有多組加熱管(6)，多組所述加熱管(6)均勻分布在石墨舟(3)的外周，所述真空腔體(2)的另一端安裝有后端蓋板(11)，且所述加熱管(6)的一端安裝有加熱棒接頭(12)，所述加熱棒接頭(12)安裝在后端蓋板(11)上，所述后端蓋板(11)上還安裝有兩個(gè)與石墨舟(3)連接的電極管接頭(5)和一個(gè)與真空腔體(2)連通的真空計(jì)(7)，所述真空腔體(2)的上端連通有多個(gè)用于產(chǎn)生提供等離子體的遠(yuǎn)程等離子電源(1)，所述真空腔體(2)的下端連通有抽真空管道(8)，所述抽真空管道(8)的一端連通有真空泵組(9)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于石墨舟干法刻蝕的真空腔體結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述支撐桿(4)設(shè)置有兩組，兩組所述支撐桿(4)平行固定在真空腔體(2)的內(nèi)底部，所述石墨舟(3)放置在兩組支撐桿(4)上，且所述石墨舟(3)的一端設(shè)置有供兩個(gè)電極管接頭(5)插接的電極孔。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種用于石墨舟干法刻蝕的真空腔體結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述支撐桿(4)的外部套接有一段特氟龍?zhí)?，所述特氟龍?zhí)椎拈L度比石墨舟(3)支腳的長度長，所述真空腔體(2)兩端設(shè)置有端面法蘭，所述真空腔體(2)兩端的端面法蘭內(nèi)圈上固定有支座，所述支撐桿(4)的兩端分別固定在真空腔體(2)兩端的支座上。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種用于石墨舟干法刻蝕的真空腔體結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述腔門機(jī)構(gòu)(10)和后端蓋板(11)分別安裝在真空腔體(2)兩端的端面法蘭上，所述端面法蘭上開設(shè)有水冷槽，所述水冷槽的一側(cè)連通有水冷機(jī)構(gòu)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種用于石墨舟干法刻蝕的真空腔體結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述腔門機(jī)構(gòu)(10)包括腔門，所述腔門靠近端面法蘭的一側(cè)開設(shè)有密封槽，所述密封槽內(nèi)放置有密封圈，所述腔門關(guān)閉時(shí)與端面法蘭密封閉合。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種用于石墨舟干法刻蝕的真空腔體結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述后端蓋板(11)的中部設(shè)置有兩個(gè)觀察窗(13)，兩個(gè)所述觀察窗(13)位于電極管接頭(5)的兩側(cè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于石墨舟干法刻蝕的真空腔體結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述抽真空管道(8)包括主管和多個(gè)支管，多個(gè)支管均與主管連通，所述主管的一端與真空泵組(9)連通，多個(gè)所述遠(yuǎn)程等離子電源(1)與多個(gè)支管上下錯(cuò)開，所述遠(yuǎn)程等離子電源(1)的一端連通有進(jìn)氣管。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種用于石墨舟干法刻蝕的真空腔體結(jié)構(gòu)，包括不銹鋼圓筒型的真空腔體，所述真空腔體的內(nèi)部安裝有不銹鋼材質(zhì)的支撐桿；本技術(shù)通過將真空腔體設(shè)置為圓筒型，將石墨舟放入真空腔體內(nèi)的支撐桿固定位置上，石墨舟分別對(duì)接真空腔體內(nèi)的電極管接頭，關(guān)上腔門機(jī)構(gòu)，加熱管加熱升溫，到設(shè)定溫度值后啟動(dòng)真空泵組抽真空，經(jīng)真空計(jì)檢測(cè)真空腔體內(nèi)的真空度達(dá)到設(shè)定真空度后，遠(yuǎn)程等離子電源通入氬氣并點(diǎn)火，遠(yuǎn)程等離子電源點(diǎn)火成功后通入NF<subgt;3</subgt;,遠(yuǎn)程等離子電源開始電離NF<subgt;3</subgt;，形成的等離子體進(jìn)入真空腔體，對(duì)石墨舟進(jìn)行刻蝕清洗，通過此方式再配合圓筒型真空腔體有效降低腔壁會(huì)因刻蝕化合物堆積出現(xiàn)腐蝕產(chǎn)生粉末。

技術(shù)研發(fā)人員：王羅發(fā),陳吉慶
受保護(hù)的技術(shù)使用者：東莞市晟鼎精密儀器有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20231225
技術(shù)公布日：2025/1/9