本公開涉及攝像裝置及其制造方法。

背景技術(shù)：

1、在專利文獻(xiàn)1中記載了攝像裝置的一例。在專利文獻(xiàn)1中，記載了通過涂布法形成光電轉(zhuǎn)換膜并在其后進(jìn)行干法蝕刻。

2、在先技術(shù)文獻(xiàn)

3、專利文獻(xiàn)

4、專利文獻(xiàn)1：日本特開2006-32714號(hào)公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本公開實(shí)現(xiàn)具有高可靠性的攝像裝置。

2、本公開提供一種攝像裝置的制造方法，包括：

3、形成光電轉(zhuǎn)換膜，以使平面圖中的所述光電轉(zhuǎn)換膜與所述支承基板的重復(fù)面積相對(duì)于平面圖中的支承基板的面積的比率比0％大且比100％??；以及

4、通過第1蝕刻使所述光電轉(zhuǎn)換膜在平面圖中的面積減小。

5、本公開所涉及的技術(shù)適于實(shí)現(xiàn)具有高可靠性的攝像裝置。

技術(shù)特征：

1.一種攝像裝置的制造方法，包括：

2.如權(quán)利要求1所述的制造方法，

3.如權(quán)利要求1或者2所述的制造方法，

4.如權(quán)利要求1所述的制造方法，

5.如權(quán)利要求4所述的制造方法，

6.如權(quán)利要求1所述的制造方法，

7.如權(quán)利要求1所述的制造方法，

8.如權(quán)利要求1所述的制造方法，

9.如權(quán)利要求1所述的制造方法，

10.如權(quán)利要求1所述的制造方法，

11.如權(quán)利要求1所述的制造方法，

12.如權(quán)利要求11所述的制造方法，

13.一種攝像裝置，具備：

14.如權(quán)利要求13所述的攝像裝置，

15.如權(quán)利要求14所述的攝像裝置，

16.如權(quán)利要求13所述的攝像裝置，

17.如權(quán)利要求16所述的攝像裝置，

18.如權(quán)利要求13所述的攝像裝置，

19.如權(quán)利要求13至18中任一項(xiàng)所述的攝像裝置，

技術(shù)總結(jié)
攝像裝置(1)的制造方法包括：形成光電轉(zhuǎn)換膜(107)，以使平面圖中的所述光電轉(zhuǎn)換膜(107)與所述支承基板(190)的重復(fù)面積相對(duì)于平面圖中的支承基板(190)的面積的比率比0％大且比100％小。所述制造方法包括：通過第1蝕刻使所述光電轉(zhuǎn)換膜(107)在平面圖中的面積減小。

技術(shù)研發(fā)人員：磯野俊介,留河優(yōu)子,平瀨順?biāo)?境田良太
受保護(hù)的技術(shù)使用者：松下知識(shí)產(chǎn)權(quán)經(jīng)營(yíng)株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/2