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具有過(guò)渡層的顯示區(qū)域的制作方法

文檔序號(hào):40507150發(fā)布日期:2024-12-31 13:15閱讀:12來(lái)源:國(guó)知局
具有過(guò)渡層的顯示區(qū)域的制作方法

相關(guān)申請(qǐng)的交叉引用本申請(qǐng)要求于2022年5月16日提交的韓國(guó)專利申請(qǐng)序列第10-2022-0059828號(hào)的優(yōu)先權(quán)的權(quán)益,所述專利申請(qǐng)的內(nèi)容是本申請(qǐng)的基礎(chǔ)并全文以引用方式并入本文。本公開內(nèi)容總體上涉及一種顯示區(qū)域,并且更具體地,涉及一種具有過(guò)渡層的顯示區(qū)域。


背景技術(shù):

1、微型led顯示器典型地包括形成各別像素元素的微型發(fā)光二極管(led)的陣列。此類顯示器可表現(xiàn)出關(guān)于例如柔性、耗電量、明度(brightness)、對(duì)比度、清晰度和可靠性的改進(jìn)的屬性。此類顯示器可包括面板或圖塊(tile)的陣列,其中在相鄰面板或圖塊之間典型地存在接縫或間隙。這種接縫或間隙對(duì)觀察者來(lái)說(shuō)可能是非期望地可見的,特別是在大尺寸顯示應(yīng)用的情況下。使用圓形偏振器可最小化接縫或間隙可見性,但其相對(duì)低的光學(xué)透射率可能導(dǎo)致顯示器明度的損失。因此,需要附加的技術(shù)來(lái)最小化圖塊化微型led顯示器中的接縫或間隙可見性,同時(shí)仍提供可接受的顯示器明度。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、技術(shù)問(wèn)題

2、本公開內(nèi)容提供一種顯示區(qū)域,并且更具體地,提供一種具有過(guò)渡層的顯示區(qū)域。

3、問(wèn)題的解決方案

4、本文公開的實(shí)施例包括一種顯示區(qū)域。顯示區(qū)域包括光學(xué)透明層,所述光學(xué)透明層具有第一主表面和相對(duì)的第二主表面。顯示區(qū)域還包括基板,所述基板具有面向透明層的第二主表面的主表面。另外,顯示區(qū)域包括多個(gè)光源,所述多個(gè)光源定位在基板的主表面上。顯示區(qū)域還包括過(guò)渡層,所述過(guò)渡層在光學(xué)透明層與多個(gè)光源之間。過(guò)渡層包括不透明材料層,所述不透明材料層具有在多個(gè)光源中的至少一者與光學(xué)透明層之間的區(qū)域上延伸的至少一個(gè)開口。過(guò)渡層還包括半透明材料層,所述半透明材料層跨所述至少一個(gè)開口的一部分延伸并具有在多個(gè)光源中的至少一者與光學(xué)透明層之間的子區(qū)域上延伸的至少一個(gè)子開口。

5、本文公開的實(shí)施例的附加特征和優(yōu)點(diǎn)將在以下詳細(xì)描述中闡述,并且部分地將從該描述中對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而易見或通過(guò)實(shí)踐如本文所描述的實(shí)施例(包括以下詳細(xì)描述、權(quán)利要求以及附圖)來(lái)認(rèn)識(shí)。

6、應(yīng)理解,以上大概描述和以下詳細(xì)描述呈現(xiàn)了實(shí)施例,所述實(shí)施例意圖提供概述或框架以用于理解所要求保護(hù)的實(shí)施例的性質(zhì)和特性。附圖被包括以提供進(jìn)一步理解,并且并入本說(shuō)明書并構(gòu)成本說(shuō)明書的一部分。附圖例示了本公開內(nèi)容的各種實(shí)施例,并且與描述一起用于解釋本公開內(nèi)容的原理和操作。



技術(shù)特征:

1.一種顯示區(qū)域,所述顯示區(qū)域包括:

2.如權(quán)利要求1所述的顯示區(qū)域,其中所述半透明材料層在所述至少一個(gè)開口的至少周邊四周延伸。

3.如權(quán)利要求2所述的顯示區(qū)域,其中所述至少一個(gè)子開口包括多個(gè)子開口,并且所述半透明材料層圍繞每個(gè)子開口的周邊周邊延伸。

4.如權(quán)利要求1所述的顯示區(qū)域,其中所述顯示區(qū)域包括以陣列布置的多個(gè)圖塊,接縫在所述多個(gè)圖塊中的相鄰圖塊之間延伸,并且所述不透明材料層跨所述接縫延伸。

5.如權(quán)利要求1所述的顯示區(qū)域,其中所述光學(xué)透明層包括玻璃。

6.如權(quán)利要求1所述的顯示區(qū)域,其中所述多個(gè)光源包括發(fā)光二極管(led)。

7.如權(quán)利要求6所述的顯示區(qū)域,其中所述開口在包括紅綠藍(lán)(rgb)led芯片的區(qū)域上延伸。

8.如權(quán)利要求1所述的顯示區(qū)域,其中所述過(guò)渡層粘附至所述光學(xué)透明層。

9.如權(quán)利要求1所述的顯示區(qū)域,其中所述不透明材料層包括黑膜或吸收/偏振膜。

10.如權(quán)利要求1所述的顯示區(qū)域,其中所述半透明材料層包括圓形偏振膜。

11.如權(quán)利要求1所述的顯示區(qū)域,其中所述至少一個(gè)子開口在其上延伸的所述子區(qū)域構(gòu)成所述至少一個(gè)開口在其上延伸的所述區(qū)域的約20%至約80%。

12.一種電子設(shè)備,所述電子設(shè)備包括如權(quán)利要求1或4所述的顯示區(qū)域。


技術(shù)總結(jié)
一種顯示區(qū)域包括光學(xué)透明層、基板、多個(gè)光源和在光學(xué)透明層與多個(gè)光源之間的過(guò)渡層。過(guò)渡層包括:不透明材料層,所述不透明材料層具有在多個(gè)光源中的至少一者與光學(xué)透明層之間的區(qū)域上延伸的至少一個(gè)開口;和半透明材料層,所述半透明材料層跨所述至少一個(gè)開口的一部分延伸并具有在多個(gè)光源中的至少一者與光學(xué)透明層之間的子區(qū)域上延伸的至少一個(gè)子開口。

技術(shù)研發(fā)人員:鄭鎮(zhèn)成,金大淵,尹洪
受保護(hù)的技術(shù)使用者:康寧公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2024/12/30
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