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電極和電極的制造方法與流程

文檔序號:40588304發(fā)布日期:2025-01-07 20:28閱讀:8來源:國知局
電極和電極的制造方法與流程

本發(fā)明涉及電極和電極的制造方法。


背景技術:

1、近年來,作為具有導電性的新型材料,mxene備受關注。mxene是所謂的二維材料的一種,如后所述,是具有1個或多個層的形態(tài)的層狀材料。通常,mxene具有該層狀材料的粒子(可包括粉末、薄片、納米片等)的形態(tài)。

2、目前,關于mxene在各種電氣器件中的應用,正在進行各種研究。例如,在專利文獻1、2中記載了mxene可以以膜的形態(tài)用作神經信號測量用的電極(專利文獻1)。

3、現(xiàn)有技術文獻

4、非專利文獻

5、非專利文獻1:nicolette?driscoll,?et?al.,?“two-dimensional?ti3c2?mxenefor?high?resolution?neural?interfaces,”?acs?nano,?2018,?vol.?12,?issue?10,pp.?10419-10429

6、非專利文獻2:nicolette?driscoll,?et?al.,?“mxene-infused?bioelectronicinterfaces?for?multiscale?electrophysiology?and?stimulation,”?sciencetranslational?medicine,?2021,?vol.?13,?issue?612,?article?abf8629


技術實現(xiàn)思路

1、發(fā)明要解決的課題

2、本發(fā)明的目的在于提供阻抗低的電極,優(yōu)選目的在于提供表面阻抗低的電極。另外,本發(fā)明的目的還在于提供該電極的制造方法。

3、用于解決課題的手段

4、本發(fā)明的電極具備包含二維粒子的膜,

5、上述二維粒子至少具有金屬陽離子以及1個或多個層,

6、上述層包含下式:mmxn所示的層主體和存在于該層主體的表面的修飾或末端t(t為選自羥基、氟原子、氯原子、氧原子和氫原子中的至少1種),

7、(式mmxn中,

8、m為至少1種第3、4、5、6、7族金屬,且至少包含ti原子,

9、x為碳原子、氮原子或它們的組合,

10、n為1以上且4以下,

11、m大于n且為5以下),

12、上述金屬陽離子包含li陽離子,

13、上述二維粒子中的li陽離子的含量相對于ti原子100摩爾為5.4摩爾以上。

14、另外,本發(fā)明的電極的制造方法包括使用二維粒子形成膜的步驟,

15、上述二維粒子至少包含插層處理物,所述插層處理物通過如下制造方法制造,所述制造方法包括:

16、(a)準備下式:mmaxn所示的前驅體的步驟,

17、(式mmaxn中,

18、m為至少1種第3、4、5、6、7族金屬,且至少包含ti原子,

19、x為碳原子、氮原子或它們的組合,

20、a為至少1種第12、13、14、15、16族元素,

21、n為1以上且4以下,

22、m大于n且為5以下);

23、(b)使用蝕刻液從上述前驅體中除去至少一部分a原子,由此得到蝕刻處理物的步驟;

24、(c)對上述蝕刻處理物進行清洗,得到蝕刻清洗處理物的步驟;以及

25、(d)將上述蝕刻清洗處理物與包含金屬陽離子的金屬化合物混合,得到在上述蝕刻清洗處理物中插入有上述金屬陽離子的插層處理物的步驟,

26、上述金屬陽離子包含li陽離子。

27、發(fā)明效果

28、根據(jù)本發(fā)明,能夠提供阻抗低的電極,優(yōu)選能夠提供表面阻抗低的電極。另外,本發(fā)明還能夠提供該電極的制造方法。



技術特征:

1.一種電極,其具備包含二維粒子的膜,

2.根據(jù)權利要求1所述的電極,其中,所述二維粒子中的所述li陽離子的含量相對于ti原子100摩爾為5.4摩爾以上且9.7摩爾以下。

3.根據(jù)權利要求1或2所述的電極,其為生物信號傳感電極。

4.一種電極的制造方法,其包括使用二維粒子形成膜的步驟,

5.根據(jù)權利要求4所述的電極的制造方法,其中,所述二維粒子還包含層離處理物,所述層離處理物通過如下制造方法制造,所述制造方法包括:

6.根據(jù)權利要求4或5所述的電極的制造方法,其中,所述二維粒子還包含層離清洗處理物,所述層離清洗處理物通過如下制造方法制造,所述制造方法包括:

7.根據(jù)權利要求4~6中任一項所述的電極的制造方法,其中,所述二維粒子至少具有所述金屬陽離子以及1個或多個層,


技術總結
本發(fā)明的目的在于提供阻抗低的電極,優(yōu)選目的在于提供表面阻抗低的電極。本發(fā)明的電極具備包含二維粒子的膜,上述二維粒子至少具有金屬陽離子以及1個或多個層,上述層包含下式:M<subgt;m</subgt;X<subgt;n</subgt;(式中,M為至少1種第3、4、5、6、7族金屬,且至少包含Ti原子,X為碳原子、氮原子或它們的組合,n為1以上且4以下,m大于n且為5以下)所示的層主體和存在于該層主體的表面的修飾或末端T(T為選自羥基、氟原子、氯原子、氧原子和氫原子中的至少1種),上述金屬陽離子包含Li陽離子,上述二維粒子中的Li陽離子的含量相對于Ti原子100摩爾為5.4摩爾以上。

技術研發(fā)人員:平山真優(yōu),藤脅未伽,島崎淑子,部田武志
受保護的技術使用者:株式會社村田制作所
技術研發(fā)日:
技術公布日:2025/1/6
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