本發(fā)明涉及一種豎向晶圓搬運(yùn)設(shè)備,屬于晶圓測試。
背景技術(shù):
1、晶圓在生產(chǎn)過程中,取放晶圓時(shí)必須輕拿輕放避免在搬運(yùn)過程中對晶圓造成機(jī)械損傷。目前通常需要人工接過晶圓并轉(zhuǎn)移至對應(yīng)的工位,但是晶圓在接料和轉(zhuǎn)移的過程中位置和角度容易出現(xiàn)偏移,需要將其旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)至準(zhǔn)確的位置才能進(jìn)行后續(xù)加工,且在旋轉(zhuǎn)過程中晶圓容易出現(xiàn)額外的位置偏移,影響旋轉(zhuǎn)后晶圓的位置精度。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本發(fā)明的目的是提供一種豎向晶圓搬運(yùn)設(shè)備,該豎向晶圓搬運(yùn)設(shè)備既可以實(shí)現(xiàn)對晶圓的接駁、位置轉(zhuǎn)移以及對晶圓位置的自動(dòng)檢測識(shí)別并調(diào)節(jié),改善晶圓的位置精度,還可以有效避免晶圓隨轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)過程中產(chǎn)生額外的位置偏移,進(jìn)一步保證經(jīng)過角度調(diào)節(jié)后晶圓的位置精度。
2、為達(dá)到上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:一種豎向晶圓搬運(yùn)設(shè)備,包括:安裝于一活動(dòng)支架上的基板、安裝于基板上表面的前載板、后載板和設(shè)置于基板下方的基座,所述活動(dòng)支架安裝于一豎向傳送組件上,所述豎向傳送組件包括:豎直延伸的殼體、可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于殼體上的絲桿和套裝于絲桿上的活動(dòng)螺母,一安裝于殼體下端的驅(qū)動(dòng)電機(jī)的輸出軸與絲桿的下端連接,所述活動(dòng)支架安裝于活動(dòng)螺母上;
3、所述基座一端的下方設(shè)置有一調(diào)節(jié)電機(jī),該調(diào)節(jié)電機(jī)的輸出軸豎直延伸至基座上方并與設(shè)置于前載板與后載板之間的轉(zhuǎn)盤連接,所述轉(zhuǎn)盤內(nèi)開設(shè)有一腔體,用于與晶圓的下表面搭接接觸的轉(zhuǎn)盤的上表面開設(shè)有若干個(gè)各自與腔體連通的真空吸附孔,一真空發(fā)生器通過管路與腔體連通;
4、當(dāng)所述活動(dòng)支架隨豎向傳送組件移動(dòng)至第一位置時(shí),所述前載板、后載板的上表面高于轉(zhuǎn)盤的上表面,當(dāng)所述活動(dòng)支架隨豎向傳送組件移動(dòng)至第二位置時(shí),所述轉(zhuǎn)盤的上表面高于前載板、后載板的上表面,所述基座另一端的上表面并位于轉(zhuǎn)盤的外側(cè)安裝有至少一個(gè)傳感器,所述晶圓上形成有與所述傳感器對應(yīng)的缺口,所述傳感器與調(diào)節(jié)電機(jī)、真空發(fā)生器電連接。
5、上述技術(shù)方案中進(jìn)一步改進(jìn)的方案如下:
6、1.?上述方案中,所述前載板、后載板各自的上表面均開設(shè)有一與所述晶圓對應(yīng)的弧形槽且2個(gè)所述弧形槽的側(cè)壁相對設(shè)置,當(dāng)所述晶圓嵌入弧形槽內(nèi)時(shí),所述晶圓的下表面與2個(gè)弧形槽的底面搭接接觸。
7、2.?上述方案中,所述基座固定安裝于一底板上,所述底板上開有一避位通孔,所述豎向傳送組件的殼體穿過該避位通孔,所述基座上安裝有調(diào)節(jié)電機(jī)的一端延伸至該避位通孔上方。
8、3.?上述方案中,傳感器為反射型傳感器。
9、4.?上述方案中,當(dāng)傳感器接收到來自晶圓的反射信號時(shí),先啟動(dòng)真空發(fā)生器,再控制調(diào)節(jié)電機(jī)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)。
10、5.?上述方案中,本體為圓形的所述晶圓上形成有一直邊缺口。
11、6.?上述方案中,真空發(fā)生器設(shè)置于調(diào)節(jié)電機(jī)下方。
12、由于上述技術(shù)方案的運(yùn)用,本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn):
13、本發(fā)明豎向晶圓搬運(yùn)設(shè)備,其基座一端的下方設(shè)置有一調(diào)節(jié)電機(jī),該調(diào)節(jié)電機(jī)的輸出軸豎直延伸至基座上方并與設(shè)置于前載板與后載板之間的轉(zhuǎn)盤連接,轉(zhuǎn)盤內(nèi)開設(shè)有一腔體,用于與晶圓的下表面搭接接觸的轉(zhuǎn)盤的上表面開設(shè)有若干個(gè)各自與腔體連通的真空吸附孔,一真空發(fā)生器通過管路與腔體連通,當(dāng)活動(dòng)支架隨豎向傳送組件移動(dòng)至第一位置時(shí),前載板、后載板的上表面高于轉(zhuǎn)盤的上表面,當(dāng)活動(dòng)支架隨豎向傳送組件移動(dòng)至第二位置時(shí),轉(zhuǎn)盤的上表面高于前載板、后載板的上表面,基座另一端的上表面并位于轉(zhuǎn)盤的外側(cè)安裝有至少一個(gè)傳感器,晶圓上形成有與傳感器對應(yīng)的缺口,傳感器與調(diào)節(jié)電機(jī)、真空發(fā)生器電連接,既可以通過前后載板實(shí)現(xiàn)對晶圓的接駁,又可以通過前后載板的上下移動(dòng)實(shí)現(xiàn)晶圓在載板與轉(zhuǎn)盤間的位置轉(zhuǎn)移以及實(shí)現(xiàn)對轉(zhuǎn)移至轉(zhuǎn)盤上的晶圓位置的自動(dòng)檢測識(shí)別,并通過轉(zhuǎn)盤的旋轉(zhuǎn)對晶圓進(jìn)行周向上的角度調(diào)節(jié),改善晶圓的位置精度,還可以有效避免晶圓隨轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動(dòng)過程中產(chǎn)生額外的位置偏移,進(jìn)一步保證經(jīng)過角度調(diào)節(jié)后晶圓的位置精度。
1.一種豎向晶圓搬運(yùn)設(shè)備,包括:安裝于一活動(dòng)支架(10)上的基板(1)、安裝于基板(1)上表面的前載板(2)、后載板(3)和設(shè)置于基板(1)下方的基座(6),其特征在于:所述活動(dòng)支架(10)安裝于一豎向傳送組件上,所述豎向傳送組件包括:豎直延伸的殼體(111)、可轉(zhuǎn)動(dòng)地安裝于殼體(111)上的絲桿(112)和套裝于絲桿(112)上的活動(dòng)螺母(113),一安裝于殼體(111)下端的驅(qū)動(dòng)電機(jī)(114)的輸出軸與絲桿(112)的下端連接,所述活動(dòng)支架(10)安裝于活動(dòng)螺母(113)上;
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的豎向晶圓搬運(yùn)設(shè)備,其特征在于:所述前載板(2)、后載板(3)各自的上表面均開設(shè)有一與所述晶圓(100)對應(yīng)的弧形槽(5)且2個(gè)所述弧形槽(5)的側(cè)壁相對設(shè)置,當(dāng)所述晶圓(100)嵌入弧形槽(5)內(nèi)時(shí),所述晶圓(100)的下表面與2個(gè)弧形槽(5)的底面搭接接觸。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的豎向晶圓搬運(yùn)設(shè)備,其特征在于:所述基座(6)固定安裝于一底板(12)上,所述底板(12)上開有一避位通孔(121),所述豎向傳送組件的殼體(111)穿過該避位通孔(121),所述基座(6)上安裝有調(diào)節(jié)電機(jī)(7)的一端延伸至該避位通孔(121)上方。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的豎向晶圓搬運(yùn)設(shè)備,其特征在于:傳感器為反射型傳感器。
5.根據(jù)權(quán)利要求4的豎向晶圓搬運(yùn)設(shè)備,其特征在于:當(dāng)傳感器接收到來自晶圓的反射信號時(shí),先啟動(dòng)真空發(fā)生器,再控制調(diào)節(jié)電機(jī)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的豎向晶圓搬運(yùn)設(shè)備,其特征在于:本體為圓形的所述晶圓(100)上形成有一直邊缺口(101)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的豎向晶圓搬運(yùn)設(shè)備,其特征在于:真空發(fā)生器設(shè)置于調(diào)節(jié)電機(jī)(7)下方。