本發(fā)明涉及一種基板處理裝置。

背景技術(shù)：

1、關(guān)于利用藥液或清洗液等處理液對半導(dǎo)體晶片等基板進行處理的基板處理裝置，從對各基板的處理的均勻性或再現(xiàn)性的觀點而言，廣泛采用逐片對基板進行處理的單片方式的裝置。單片方式的基板處理裝置通過使保持有基板的旋轉(zhuǎn)臺旋轉(zhuǎn)，一邊使基板旋轉(zhuǎn)，一邊向基板的中心附近供給處理液，由此利用離心力使處理液遍布基板的整個被處理面，對被處理面進行處理。

2、這樣的處理裝置包括將基板保持于旋轉(zhuǎn)臺的卡盤機構(gòu)?？ūP機構(gòu)例如設(shè)置為沿著基板的周緣配置的多個卡盤銷能夠在與基板的外周的端面相接的關(guān)閉位置、和離開端面的打開位置之間移動。搬入旋轉(zhuǎn)臺上的基板通過多個卡盤銷成為關(guān)閉位置而保持于旋轉(zhuǎn)臺上。

3、[現(xiàn)有技術(shù)文獻]

4、[專利文獻]

5、[專利文獻1]日本專利特開2018-181889號公報

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、[發(fā)明所要解決的問題]

2、如上所述，通過供給至基板的中心附近的處理液利用旋轉(zhuǎn)臺的旋轉(zhuǎn)而朝向基板的外周流動，從而可對整個被處理面進行處理。但是，在卡盤銷抵接的位置處理液不易流動，因此有時在基板上產(chǎn)生未處理部分或處理不充分的部分。另外，通過使旋轉(zhuǎn)臺高速旋轉(zhuǎn)，在甩掉基板上的處理液并使其干燥時，在卡盤銷與基板抵接的位置，有時處理液未被排出而殘留。若殘留的處理液干燥則成為水印，導(dǎo)致產(chǎn)品不良。

3、本發(fā)明的實施方式的目的在于提供一種可提高經(jīng)處理的基板的品質(zhì)的基板處理裝置。

4、[解決問題的技術(shù)手段]

5、實施方式的基板處理裝置具有：旋轉(zhuǎn)體，使基板旋轉(zhuǎn)；供給部，對利用所述旋轉(zhuǎn)體旋轉(zhuǎn)的所述基板供給處理液；基座構(gòu)件，以能夠以與所述旋轉(zhuǎn)體的軸平行的軸為中心轉(zhuǎn)動的方式設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)體，且沿著以所述旋轉(zhuǎn)體的軸為中心的圓配置有三個以上；夾緊銷，針對每個所述基座構(gòu)件，設(shè)置于從所述基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動的軸偏心的位置，隨著所述基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動而能夠在與所述基板相接的關(guān)閉位置與離開所述基板的打開位置之間移動；支撐構(gòu)件，針對每個所述基座構(gòu)件，在俯視下與所述夾緊銷隔開間隔地設(shè)置，且對所述基板進行支撐；以及傾斜面，設(shè)置于所述支撐構(gòu)件，從接近所述旋轉(zhuǎn)體的軸的一側(cè)朝向遠離的一側(cè)變高，并且從遠離所述夾緊銷的一側(cè)朝向接近的一側(cè)變高，隨著所述基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動而能夠在當(dāng)所述夾緊銷位于所述打開位置時對所述基板進行載置的載置位置、和與位于所述關(guān)閉位置的所述夾緊銷一起對所述基板進行保持的保持位置之間移動。

6、[發(fā)明的效果]

7、通過本發(fā)明的實施方式，可提供一種可提高經(jīng)處理的基板的品質(zhì)的基板處理裝置。

技術(shù)特征：

1.一種基板處理裝置，其特征在于具有：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，所述傾斜面的最高的位置較所述夾緊銷的上端低。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，在俯視下所述傾斜面的接近所述基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動的軸的端部側(cè)的寬度較遠離的端部側(cè)的寬度寬。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，所述傾斜面中關(guān)于從接近所述旋轉(zhuǎn)體的旋轉(zhuǎn)的軸的一側(cè)朝向遠離的一側(cè)變高的傾斜，隨著遠離所述旋轉(zhuǎn)體的旋轉(zhuǎn)的軸而傾斜變得平緩。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，所述夾緊銷的與所述基板相接/分離的接觸面朝向上端，且以離開所述夾緊銷的軸的方式向外側(cè)傾斜。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，在俯視下，所述支撐構(gòu)件以向所述夾緊銷側(cè)的相反側(cè)鼓起的方式彎曲。

7.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，在俯視下，所述基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動的軸與最接近所述軸的所述傾斜面的端部的距離較所述基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動的軸與所述夾緊銷的距離長。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，在俯視下，所述基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動的軸位于較載置于所述支撐構(gòu)件的所述基板的外周更靠內(nèi)側(cè)處。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，在俯視下，所述傾斜面的一部分設(shè)置于距所述基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動的軸的距離與所述夾緊銷距所述基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動的軸的距離相同的區(qū)域內(nèi)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理裝置，其特征在于，在俯視下，所述傾斜面的接近所述基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動的軸的一側(cè)的端部設(shè)置于所述區(qū)域內(nèi)，且所述傾斜面的遠離所述基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動的軸的一側(cè)的端部設(shè)置于所述區(qū)域的外側(cè)。

11.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，在俯視下，所述傾斜面的遠離所述基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動的軸的一側(cè)的端部位于由穿過所述基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動的軸與所述夾緊銷的軸的直線、與所述直線正交的作為所述夾緊銷的外周的切線的所述基座構(gòu)件的外周側(cè)的直線、以及所述基座構(gòu)件的外周所包圍的區(qū)域中的如下區(qū)域，即，所述基座構(gòu)件轉(zhuǎn)動以使所述夾緊銷從所述打開位置成為所述關(guān)閉位置時的轉(zhuǎn)動方向上的下游側(cè)的區(qū)域中。

12.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，在俯視下，作為穿過所述夾緊銷與所述支撐構(gòu)件之間的所述夾緊銷的外周的切線的穿過所述基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動的軸的直線與所述傾斜面的遠離所述基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動的軸的一側(cè)的端部相接。

13.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于，在俯視下，當(dāng)所述夾緊銷位于所述打開位置時，在所述支撐構(gòu)件上供載置所述基板的區(qū)域位于如下區(qū)域：和如下直線相比，所述基座構(gòu)件轉(zhuǎn)動以使所述夾緊銷從所述打開位置成為所述關(guān)閉位置時的轉(zhuǎn)動方向上的下游側(cè)的區(qū)域，所述直線與作為穿過所述夾緊銷與所述支撐構(gòu)件之間的所述夾緊銷的外周的切線的穿過所述基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動的軸的直線正交、且穿過所述夾緊銷的軸。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種可提高經(jīng)處理的基板的品質(zhì)的基板處理裝置。實施方式的基板處理裝置具有：供給部，對利用旋轉(zhuǎn)體旋轉(zhuǎn)的基板供給處理液；基座構(gòu)件，沿著以旋轉(zhuǎn)體的軸為中心的圓配置有三個以上；夾緊銷，設(shè)置于從基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動的軸偏心的位置，隨著基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動而能夠在與基板相接/分離的關(guān)閉位置與打開位置之間移動；支撐構(gòu)件，在俯視下與夾緊銷隔開間隔地設(shè)置，且對基板進行支撐；以及傾斜面，設(shè)置于支撐構(gòu)件，從接近旋轉(zhuǎn)體的軸的一側(cè)朝向遠離的一側(cè)變高，從遠離夾緊銷的一側(cè)朝向接近的一側(cè)變高，隨著基座構(gòu)件的轉(zhuǎn)動而能夠在對基板進行載置的載置位置、和與位于關(guān)閉位置的夾緊銷一起對基板進行保持的保持位置之間移動。

技術(shù)研發(fā)人員：長嶋裕次,福岡洋太郎,長谷拓哉,宮本果林
受保護的技術(shù)使用者：芝浦機械電子裝置株式會社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/2