本公開涉及基板處理裝置、搬送方法、半導(dǎo)體器件的制造方法以及記錄介質(zhì)。

背景技術(shù)：

1、以往，已知專利文獻(xiàn)1所記載那樣的基板處理裝置，其具備：收納多個基板的收納容器；載置收納容器的載置部；保管該收納容器的保管室；搬送收納容器的搬送裝置；以及進行作為基板狀態(tài)檢測裝置的測繪裝置和基板的取出放入的移載部(開啟器)。

2、現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)

3、專利文獻(xiàn)

4、專利文獻(xiàn)1：日本特開2009-177195號公報

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本公開提供無論移載部的使用狀態(tài)如何，都能夠進行下一容器的接收，從而使容器的搬送效率提高的技術(shù)。

2、根據(jù)本公開的一個方案，提供一種技術(shù)，具備：載置部，其供具有門且收容有基板的容器載置；保存部，其保存所述容器；處理部，其對所述基板進行處理；移載部，其具備進行所述門的開閉的開閉部和進行收容在所述容器中的所述基板的狀態(tài)確認(rèn)的確認(rèn)部，并向所述處理部移載所述基板；搬送部，其保持所述容器并向所述載置部、所述保存部及所述移載部搬送所述容器；以及控制部，其能夠以無論所述移載部的使用狀態(tài)如何，都使所述搬送部保持載置于所述載置部的所述容器保持，并接受下一容器向所述載置部的載置的方式進行控制。

3、發(fā)明效果

4、根據(jù)本公開，無論移載部的使用狀態(tài)如何，都能夠進行下一容器的接收，能夠使容器的搬送效率提高。

技術(shù)特征：

1.一種基板處理裝置，其特征在于，具備：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理裝置，其特征在于，

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基板處理裝置，其特征在于，

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的基板處理裝置，其特征在于，

15.根據(jù)權(quán)利要求13所述的基板處理裝置，其特征在于，

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的基板處理裝置，其特征在于，

17.一種搬送方法，其特征在于，具有如下工序：

18.一種半導(dǎo)體器件的制造方法，其特征在于，具有如下工序：

19.一種計算機可讀記錄介質(zhì)，其記錄有通過計算機使基板處理裝置執(zhí)行如下步驟的程序：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供基板處理裝置、搬送方法、半導(dǎo)體器件的制造方法以及記錄介質(zhì)，無論移載部的使用狀態(tài)如何，都使得能夠進行下一容器的接收，使容器的搬送效率提高?；逄幚硌b置具備：載置部，其供具有門且收容有基板的容器載置；保存部，其保存所述容器；處理部，其對所述基板進行處理；移載部，其具備進行所述門的開閉的開閉部和進行收容在所述容器中的所述基板的狀態(tài)確認(rèn)的確認(rèn)部，并向所述處理部移載所述基板；搬送部，其保持所述容器并向所述載置部、所述保存部及所述移載部搬送所述容器；以及控制部，其能夠以無論所述移載部的使用狀態(tài)如何，都使所述搬送部保持載置于所述載置部的所述容器保持，并接受下一容器向所述載置部的載置的方式進行控制。

技術(shù)研發(fā)人員：谷川理沙,北本博之,守田修
受保護的技術(shù)使用者：株式會社國際電氣
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6