本發(fā)明涉及一種對襯底進(jìn)行處理的襯底處理系統(tǒng)。襯底例如可例舉：半導(dǎo)體襯底、fpd(flat?panel?display，平板顯示器)用襯底、光掩模用玻璃襯底、光盤用襯底、磁盤用襯底、陶瓷襯底、太陽能電池用襯底等。fpd例如可例舉：液晶顯示裝置、有機(jī)el(electroluminescence，電致發(fā)光)顯示裝置等。

背景技術(shù)：

1、在以往的襯底處理系統(tǒng)中，搬入裝置、第2接口裝置、批量處理裝置、第1接口裝置、單片處理裝置及搬出裝置依次排列成u字狀(例如參照日本專利特開2021-064652號公報(bào))。

2、此處，將搬入裝置、第2接口裝置及批量處理裝置排列的方向稱為前后方向。另外，將與前后方向正交的水平方向稱為寬度方向。此時(shí)，在所述襯底處理系統(tǒng)中，搬入裝置、第2接口裝置及批量處理裝置依次向后方排成一排。搬出裝置及單片處理裝置依次向后方排成一排。而且，第1接口裝置從批量處理裝置向右方延伸到單片處理裝置。即，單片處理裝置配置在批量處理裝置的右方。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、[發(fā)明要解決的問題]

2、以往的襯底處理系統(tǒng)存在以下問題。如所述襯底處理系統(tǒng)，例如設(shè)定在批量處理裝置的后方及單片處理裝置的后方設(shè)置第1接口裝置(接口裝置)。在此情況下，如果批量處理裝置根據(jù)使用者的意愿在前后方向上加長，那么例如需要變更第1接口裝置或單片處理裝置的搬送路徑。這種變更可能較為繁瑣，由此，可能導(dǎo)致批量處理裝置及單片處理裝置的構(gòu)成的變更受到限制。

3、本發(fā)明是鑒于這種情況而完成的，其目的在于提供一種能夠自由進(jìn)行批量處理裝置及單片處理裝置的構(gòu)成的變更的襯底處理系統(tǒng)。

4、[解決問題的技術(shù)手段]

5、本發(fā)明為了達(dá)到這種目的，而采取如下構(gòu)成。即，本發(fā)明的襯底處理系統(tǒng)的特征在于具備：對多片襯底一起進(jìn)行處理的批量處理裝置、對所述多片襯底逐片進(jìn)行處理的單片處理裝置、及將所述批量處理裝置與所述單片處理裝置連接的接口裝置，且所述批量處理裝置沿第1水平方向延伸，所述單片處理裝置以在與所述第1水平方向正交的第2水平方向上排列的方式與所述批量處理裝置對向配置，所述接口裝置與所述批量處理裝置及所述單片處理裝置各自的一端側(cè)相鄰，且以沿所述第2水平方向延伸的方式配置，所述批量處理裝置具備：第1載具載置架，供載置載具，所述載具用于將所述多片襯底以水平姿勢隔開指定間隔收納；移載區(qū)塊，與所述第1載具載置架相鄰；批量處理區(qū)塊，與所述移載區(qū)塊相鄰且沿所述第1水平方向延伸；以及批量襯底搬送區(qū)域，在配置有所述單片處理裝置的側(cè)，與所述移載區(qū)塊及所述批量處理區(qū)塊相鄰配置，且一端側(cè)延伸到所述接口裝置，另一端側(cè)沿所述第1水平方向延伸；所述移載區(qū)塊具備襯底操作機(jī)構(gòu)及第1姿勢轉(zhuǎn)換機(jī)構(gòu)，所述襯底操作機(jī)構(gòu)從載置在所述第1載具載置架上的所述載具中取出水平姿勢的所述多片襯底，所述第1姿勢轉(zhuǎn)換機(jī)構(gòu)具備：第1姿勢轉(zhuǎn)換部，將從所述襯底操作機(jī)構(gòu)接收的所述多片襯底從水平姿勢轉(zhuǎn)換成鉛直姿勢；以及鉛直保持部，保持通過所述第1姿勢轉(zhuǎn)換部轉(zhuǎn)換成垂直姿勢的所述多片襯底；所述批量處理區(qū)塊具備多個批量處理槽，所述多個批量處理槽在所述第1水平方向上并排配置，且各自貯存用于浸漬所述多片襯底的處理液，所述批量襯底搬送區(qū)域具備第1批量搬送機(jī)構(gòu)，所述第1批量搬送機(jī)構(gòu)將所述多片襯底以鉛直姿勢在所述多個批量處理槽、所述鉛直保持部及所述接口裝置之間搬送，所述接口裝置具備姿勢轉(zhuǎn)換區(qū)域及中繼區(qū)域，所述姿勢轉(zhuǎn)換區(qū)域隔著所述移載區(qū)塊配置在所述批量處理區(qū)塊的相反側(cè)，所述中繼區(qū)域與所述姿勢轉(zhuǎn)換區(qū)域相鄰，且沿所述第2水平方向延伸，所述姿勢轉(zhuǎn)換區(qū)域具備第2姿勢轉(zhuǎn)換機(jī)構(gòu)，所述第2姿勢轉(zhuǎn)換機(jī)構(gòu)將通過所述批量處理裝置處理后的所述多片襯底從鉛直姿勢轉(zhuǎn)換成水平姿勢，所述中繼區(qū)域具備中繼襯底搬送機(jī)構(gòu)，所述中繼襯底搬送機(jī)構(gòu)將通過所述第2姿勢轉(zhuǎn)換機(jī)構(gòu)轉(zhuǎn)換成水平姿勢的所述多片襯底搬送到所述單片處理裝置，所述單片處理裝置具備：第2載具載置架，供載置所述載具；以及單片處理區(qū)塊，與所述第2載具載置架相鄰；所述單片處理區(qū)塊具備：多個單片處理腔室，供對通過所述批量處理裝置處理后的所述多片襯底逐片進(jìn)行指定處理；以及水平襯底搬送機(jī)器人，接收由所述中繼襯底搬送機(jī)構(gòu)搬送而來的襯底，并將接收的襯底搬送到所述多個單片處理腔室中的1個單片處理腔室；所述水平襯底搬送機(jī)器人將在所述多個單片處理腔室中的1個單片處理腔室中處理后的襯底收納到載置在所述第2載具載置架上的所述載具中。

6、根據(jù)本發(fā)明的襯底處理系統(tǒng)，接口裝置的姿勢轉(zhuǎn)換區(qū)域介隔批量處理裝置的移載區(qū)塊設(shè)置在具有批量處理槽的處理區(qū)塊的相反側(cè)。例如，設(shè)定由于批量處理裝置的批量處理槽的個數(shù)發(fā)生增減，批量處理裝置的長度可能會在批量處理裝置延伸的第1水平方向上發(fā)生變化。即使在此情況下，至少也無須變更批量處理裝置的移載區(qū)塊及接口裝置的構(gòu)成。因此，能夠自由進(jìn)行批量處理裝置及單片處理裝置的構(gòu)成的變更。

7、另外，因?yàn)樽藙蒉D(zhuǎn)換區(qū)域介隔移載區(qū)塊設(shè)置在處理區(qū)塊的相反側(cè)，所以能夠避免在俯視下接口裝置的中繼區(qū)域與批量襯底搬送區(qū)域交叉。因此，能夠防止構(gòu)成變得復(fù)雜。另外，單片處理裝置介隔批量襯底搬送區(qū)域設(shè)置在移載區(qū)塊的相反側(cè)。因此，能夠抑制在俯視下接口裝置遮擋移載區(qū)塊的一側(cè)的大小。另外，能夠在介隔批量處理槽而與批量襯底搬送區(qū)域相反的一側(cè)確保較大的維護(hù)區(qū)域。

8、另外，在所述襯底處理系統(tǒng)中，優(yōu)選為所述第2姿勢轉(zhuǎn)換機(jī)構(gòu)具備：第2姿勢轉(zhuǎn)換部，將所述多片襯底從鉛直姿勢轉(zhuǎn)換成水平姿勢；以及備用槽，設(shè)置在所述移載區(qū)塊與所述第2姿勢轉(zhuǎn)換部之間，貯存將所述多片襯底以鉛直姿勢浸漬的浸漬液。

9、姿勢轉(zhuǎn)換機(jī)構(gòu)能夠一邊將鉛直姿勢的多片襯底浸漬到貯存在備用槽內(nèi)的浸漬液中，一邊使該多片襯底備用。

10、另外，在所述襯底處理系統(tǒng)中，優(yōu)選為所述第2姿勢轉(zhuǎn)換機(jī)構(gòu)還具備第2批量搬送機(jī)構(gòu)，所述第2批量搬送機(jī)構(gòu)具備介隔所述備用槽設(shè)置在所述批量襯底搬送區(qū)域的相反側(cè)的導(dǎo)軌，所述第2批量搬送機(jī)構(gòu)沿著所述導(dǎo)軌將所述多片襯底以鉛直姿勢從所述備用槽搬送到所述第2姿勢轉(zhuǎn)換部，所述第1批量搬送機(jī)構(gòu)將所述多片襯底以鉛直姿勢在所述多個批量處理槽、所述鉛直保持部及所述備用槽之間搬送。

11、以在導(dǎo)軌與批量襯底搬送區(qū)域之間配置備用槽的方式配置導(dǎo)軌。因此，通過沿著導(dǎo)軌搬送襯底的第2批量搬送機(jī)構(gòu)橫穿過姿勢轉(zhuǎn)換部與中繼襯底搬送機(jī)構(gòu)之間，能夠防止將襯底從水中姿勢轉(zhuǎn)換部搬送到中繼襯底搬送機(jī)構(gòu)時(shí)受到干擾。

12、另外，在所述的襯底處理系統(tǒng)中，優(yōu)選為所述第2批量搬送機(jī)構(gòu)具備交替配置有多對保持槽與多對通過槽的1對夾頭，在所述多片襯底與其它多片襯底交替配置的處理襯底群浸漬到所述備用槽內(nèi)的所述浸漬液中的情況下，所述第2批量搬送機(jī)構(gòu)使用所述1對夾頭從所述處理襯底群中取出所述多片襯底，并將取出的所述多片襯底搬送到所述姿勢轉(zhuǎn)換部。

13、第2批量搬送機(jī)構(gòu)能夠從多片襯底(第1襯底群)與其它多片襯底(第2襯底群)交替配置的處理襯底群中取出多片襯底(第1襯底群)。取出的多片襯底(第1襯底群)通過姿勢轉(zhuǎn)換部轉(zhuǎn)換成水平姿勢。與此相對，其它多片襯底(第2襯底群)能夠一邊浸漬到備用槽內(nèi)的浸漬液中，一邊備用。由此，能夠防止其它多片襯底(第2襯底群)在備用時(shí)干燥。

14、另外，在所述襯底處理系統(tǒng)中，優(yōu)選為還具備與所述批量處理裝置及所述接口裝置相鄰的堆疊器裝置，所述堆疊器裝置具備：負(fù)載端口，用于搬入及搬出所述載具；以及載具搬送機(jī)器人，至少在所述負(fù)載端口與所述第1載具載置架之間搬送所述載具。載具搬送機(jī)器人能夠至少在負(fù)載端口與第1載具載置架之間搬送載具。另外，即使在單片處理裝置的第1水平方向上的長度發(fā)生變化的情況下，也無須變更堆疊器裝置構(gòu)成。

15、另外，在所述襯底處理系統(tǒng)中，所述中繼襯底搬送機(jī)構(gòu)的一例具備帶式輸送機(jī)。另外，在所述襯底處理系統(tǒng)中，所述中繼襯底搬送機(jī)構(gòu)的一例具備中繼手形部，所述中繼手形部保持1片襯底，且能夠移動。另外，在所述襯底處理系統(tǒng)中，所述襯底操作機(jī)構(gòu)的一例優(yōu)選為具備多個手形部，所述多個手形部分別保持所述多片襯底，且能夠一體地移動。

16、[發(fā)明效果]

17、根據(jù)本發(fā)明的襯底處理系統(tǒng)，能夠自由進(jìn)行批量處理裝置及單片處理裝置的構(gòu)成的變更。