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一種基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器

文檔序號:40653820發(fā)布日期:2025-01-10 19:02閱讀:5來源:國知局
一種基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器

本發(fā)明涉及光學,尤其涉及一種基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器。


背景技術(shù):

1、渦旋光束是一種攜帶軌道角動量(orbital?angular?momentum,oam)的結(jié)構(gòu)光束,波前呈螺旋狀,光束中心存在相位奇點,光強呈現(xiàn)出中心強度為零的環(huán)狀分布。由于這些新穎的特性,oam渦旋光束在很多領(lǐng)域都有著廣泛的應(yīng)用前景。在光通信應(yīng)用中,渦旋光束中的軌道角動量可以作為一種新的編碼方式實現(xiàn)信息編碼,擴大光通信的容量;在生物醫(yī)學領(lǐng)域,通過oam渦旋光束研制了光鑷和光學扳手,可實現(xiàn)對微粒的無接觸捕獲和旋轉(zhuǎn);在激光加工領(lǐng)域,oam渦旋光束可用于大規(guī)模制備手性微納米結(jié)構(gòu);在測量領(lǐng)域,利用oam渦旋光束的旋轉(zhuǎn)多普勒效應(yīng)可直接測量旋轉(zhuǎn)體的角速度。

2、oam渦旋光束的產(chǎn)生方式可分為兩類:腔外調(diào)控(被動方式)和腔內(nèi)直接激發(fā)渦旋光束(主動方式)。腔外調(diào)控主要是將腔外的高斯光束、厄米-高斯光束等其他形式的光束轉(zhuǎn)換為oam渦旋光束,腔內(nèi)調(diào)控則是直接在激光諧振腔中產(chǎn)生oam渦旋光束。

3、腔內(nèi)調(diào)控是通過在激光諧振腔內(nèi)進行增益損耗控制或插入渦旋相位調(diào)制器件,直接在激光諧振腔中產(chǎn)生oam渦旋光束。插入調(diào)制器件法是腔內(nèi)調(diào)制中最普遍的方法之一,基本原理是通過在腔中插入諸如螺旋相位板、可變渦旋波片(variable?spiral?plate,vsp)和空間光調(diào)制器等調(diào)制器件實現(xiàn)對光束的相位調(diào)控,從而輸出期望得到的oam模式,但是上述光學器件往往需要占用較大的空間,使激光器的結(jié)構(gòu)不夠緊湊。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、鑒于此,本發(fā)明實施例提供了一種基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器,以消除或改善現(xiàn)有技術(shù)中存在的一個或更多個缺陷。

2、本發(fā)明的一個方面提供了一種基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器,所述基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器包括順序設(shè)置的泵浦光源、波分復用器、準直器和金膜輔助超構(gòu)表面;

3、所述金膜輔助超構(gòu)表面包括順序疊放且連接的襯底層、金膜層、介質(zhì)層和納米單元層,所述襯底層一側(cè)靠近準直器,所述納米單元層一側(cè)遠離準直器,所述納米單元層包括均勻設(shè)置的多個納米柱;

4、所述泵浦光源用于發(fā)出激光,所述泵浦光源與波分復用器相連接,所述波分復用器與準直器通過光纖相連接,將激光傳遞到準直器,所述準直器將激光傳遞到金膜輔助超構(gòu)表面,所述金膜輔助超構(gòu)表面輸出渦旋光束。

5、采用上述方案,本專利通過將金膜輔助的全空間超構(gòu)表面嵌入激光器腔內(nèi),可實現(xiàn)所需拓撲荷數(shù)的渦旋光束輸出,本專利提出金膜輔助的全空間超構(gòu)表面,可以實現(xiàn)一個半透半反的功能,本方案通過金膜半透半反的功能,將金膜設(shè)置于準直器一側(cè),完成反射,且由于金膜反射回的仍是同偏振的高斯光束,便于光束直接耦合回激光腔內(nèi),不需要其他器件對偏振進行調(diào)整,使激光在超構(gòu)表面和光纖反射鏡之間來回振蕩,減少整個系統(tǒng)光學元件的使用,有利于系統(tǒng)的進一步集成;并通過透射金膜的方案,通過另一側(cè)的納米單元層完成光束的調(diào)整,完成渦旋光束的輸出。

6、在本發(fā)明的一些實施方式中,所述金膜輔助超構(gòu)表面設(shè)置于連接于準直器輸出端的光纖的端面。

7、在本發(fā)明的一些實施方式中,所述襯底層和介質(zhì)層采用二氧化硅材質(zhì),所述納米柱為非晶硅材質(zhì),所述金膜層為金材質(zhì)。

8、在本發(fā)明的一些實施方式中,所述金膜層的厚度為8~12nm。

9、在本發(fā)明的一些實施方式中,所述納米柱的高度為450~550nm。

10、在本發(fā)明的一些實施方式中,在所述納米單元層上所述納米柱的分布周期為440~460nm。

11、在本發(fā)明的一些實施方式中,所述超構(gòu)表面的俯視平面為矩形,以矩形的重心點為射線的一端線外連線,將矩形劃分為多個三角形區(qū)域,多個三角形區(qū)域的超構(gòu)表面輸出光的x偏振的相位差累計值為2π。

12、在本發(fā)明的一些實施方式中,所述超構(gòu)表面包括8三角形區(qū)域,每個三角形區(qū)域x偏振入射下的輸出光的相位差均為0.25π。

13、在本發(fā)明的一些實施方式中,所述金膜輔助超構(gòu)表面的俯視平面為矩形,以矩形的重心點為射線的一端線外連線,將矩形劃分為多個三角形區(qū)域,每個三角形區(qū)域在矩形的重心點位置的角的角度相同,單個三角形區(qū)域內(nèi)的超構(gòu)表面單元的結(jié)構(gòu)參數(shù)相同。

14、在本發(fā)明的一些實施方式中,所述基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器還包括透鏡,所述透鏡設(shè)置于準直器和金膜輔助超構(gòu)表面之間,將光束縮束,使光束會聚于金膜輔助超構(gòu)表面上。

15、在本發(fā)明的一些實施方式中,所述基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器還包括光纖反射鏡,所述光纖反射鏡與波分復用器相連接。

16、本發(fā)明的附加優(yōu)點、目的,以及特征將在下面的描述中將部分地加以闡述,且將對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在研究下文后部分地變得明顯,或者可以根據(jù)本發(fā)明的實踐而獲知。本發(fā)明的目的和其它優(yōu)點可以通過在說明書以及附圖中具體指出并獲得。

17、本領(lǐng)域技術(shù)人員將會理解的是,能夠用本發(fā)明實現(xiàn)的目的和優(yōu)點不限于以上具體所述,并且根據(jù)以下詳細說明將更清楚地理解本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)的上述和其他目的。



技術(shù)特征:

1.一種基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器,其特征在于,所述基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器包括順序設(shè)置的泵浦光源、波分復用器、準直器和金膜輔助超構(gòu)表面;

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器,其特征在于,所述襯底層和介質(zhì)層采用二氧化硅材質(zhì),所述納米柱為非晶硅材質(zhì),所述金膜層為金材質(zhì)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器,其特征在于,所述金膜層的厚度為8~12nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器,其特征在于,所述納米柱的高度為450~550nm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器,其特征在于,所述金膜輔助超構(gòu)表面設(shè)置于連接于準直器輸出端的光纖的端面。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器,其特征在于,所述超構(gòu)表面的俯視平面為矩形,以矩形的重心點為射線的一端線外連線,將矩形劃分為多個三角形區(qū)域,多個三角形區(qū)域的超構(gòu)表面輸出光的x偏振的相位差累計值為2π。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器,其特征在于,所述超構(gòu)表面包括8三角形區(qū)域,每個三角形區(qū)域x偏振入射下的輸出光的相位差均為0.25π。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器,其特征在于,每個三角形區(qū)域在矩形的重心點位置的角的角度相同,單個三角形區(qū)域內(nèi)的超構(gòu)表面單元的結(jié)構(gòu)參數(shù)相同。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器,其特征在于,所述基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器還包括透鏡,所述透鏡設(shè)置于準直器和金膜輔助超構(gòu)表面之間,將光束縮束,使光束會聚于金膜輔助超構(gòu)表面上。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器,其特征在于,所述基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器還包括光纖反射鏡,所述光纖反射鏡與波分復用器相連接。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器,所述基于金膜輔助超構(gòu)表面的渦旋光纖激光器包括順序設(shè)置的泵浦光源、波分復用器、準直器和金膜輔助超構(gòu)表面;所述金膜輔助超構(gòu)表面包括順序疊放且連接的襯底層、金膜層、介質(zhì)層和納米單元層,所述襯底層一側(cè)靠近準直器,所述納米單元層一側(cè)遠離準直器,所述納米單元層包括均勻設(shè)置的多個納米柱;所述泵浦光源用于發(fā)出激光,所述泵浦光源與波分復用器相連接,所述波分復用器與準直器通過光纖相連接,將激光傳遞到準直器,所述準直器將激光傳遞到金膜輔助超構(gòu)表面,所述金膜輔助超構(gòu)表面輸出渦旋光束。

技術(shù)研發(fā)人員:桂麗麗,潘劍瑩,許詣遠,陳浩,徐坤
受保護的技術(shù)使用者:北京郵電大學
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/9
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