本申請(qǐng)涉及存儲(chǔ)芯片封裝,尤其涉及一種芯片的封裝方法和封裝半成品。
背景技術(shù):
1、由于芯片是精密設(shè)備,隨著芯片的小型化,芯片在生產(chǎn)過程中的焊接的要求是越來越高的。傳統(tǒng)的芯片封裝工藝中,包括涂抹助焊劑、倒裝貼片、過回流焊、清洗助焊劑、涂布填充膠和固化填充膠等步驟組成,芯片經(jīng)過封裝工藝的步驟后以固定在基板上,形成封裝半成品以方便進(jìn)行下一步的制作工序。
2、在封裝工藝中,有時(shí)為了保證焊接的穩(wěn)固性,會(huì)填充足夠的助焊劑以維持焊接后的穩(wěn)固。但是這樣會(huì)導(dǎo)致芯片上存在較多殘留的助焊劑,在清洗助焊劑的過程中,需要使用足量的水進(jìn)行沖洗,而且仍然極為容易出現(xiàn)清洗不干凈的情況,導(dǎo)致助焊劑未能被清理干凈而存在殘留。使得后續(xù)在經(jīng)過涂布填充膠并進(jìn)行烘烤固化的步驟時(shí),殘留的助焊劑受熱后會(huì)進(jìn)行氣化,會(huì)使得填充膠內(nèi)部出現(xiàn)氣孔,從而導(dǎo)致芯片的連接出現(xiàn)不穩(wěn)固的現(xiàn)象,會(huì)引起芯片的引腳連接不良的問題。
3、因此,急需對(duì)傳統(tǒng)的芯片封裝工藝進(jìn)行優(yōu)化改進(jìn),以保證生產(chǎn)的良率。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本申請(qǐng)的目的是提供一種芯片的封裝方法和封裝半成品,通過填充膠清除助焊劑殘留物步驟,能夠?qū)⑿酒突逯g存在的助焊劑殘留物進(jìn)行清除,提高了芯片封裝的生產(chǎn)良率。
2、本申請(qǐng)公開了一種芯片的封裝方法,包括步驟:
3、涂助焊劑步驟:在芯片的錫球上涂抹助焊劑,將芯片倒裝貼片到基板上;
4、焊接步驟:芯片和基板在助焊劑的輔助下,在回流焊機(jī)中進(jìn)行焊接,焊接完成的芯片的底部產(chǎn)生助焊劑殘留物;
5、填充膠清除助焊劑殘留物步驟:在焊接完成的芯片和基板之間填充填充膠,在壓力烤箱內(nèi),填充膠與位于芯片底部的助焊劑殘留物反應(yīng)以形成氣態(tài)的反應(yīng)物,生成的氣態(tài)的反應(yīng)物通過壓力烤箱從芯片的底部排出,以使得芯片底部的助焊劑殘留物被清除;
6、固化步驟:在壓力烤箱內(nèi),對(duì)基板和芯片進(jìn)行烘烤以固化填充膠得到烘烤完成的封裝半成品。
7、可選的,在所述焊接步驟之后,不對(duì)焊接完成的芯片和基板進(jìn)行水洗處理,而直接執(zhí)行填充膠清除助焊劑殘留物的步驟。
8、可選的,所述填充膠清除助焊劑殘留物的步驟包括:
9、將焊接完成的芯片和基板放入壓力烤箱內(nèi);
10、在芯片和基板之間填充填充膠,且所述芯片的至少一側(cè)不進(jìn)行填充膠填充操作;
11、增壓步驟:向壓力烤箱的腔體內(nèi)充入氣體以形成高壓環(huán)境,填充膠逐漸從芯片的外圍朝向芯片的中心移動(dòng),并在該過程中與助焊劑殘留物發(fā)生反應(yīng);
12、減壓步驟:壓力烤箱的腔體抽氣以形成負(fù)壓環(huán)境,填充膠與助焊劑殘留物反應(yīng)生成的氣態(tài)的反應(yīng)物在該過程中被排出;
13、其中,在所述填充膠清除助焊劑殘留物的步驟中,重復(fù)上述的增壓步驟和減壓步驟實(shí)現(xiàn)高低壓分子振蕩處理,以使得填充膠與位于芯片底部的助焊劑殘留物反應(yīng)以形成氣態(tài)的反應(yīng)物,生成的氣態(tài)的反應(yīng)物在高低壓分子振蕩處理的過程中,從芯片的底部排出,以使得芯片底部的助焊劑殘留物被清除;
14、其中,填充膠與助焊劑殘留物反應(yīng)所形成的所有產(chǎn)物均為所述氣態(tài)的反應(yīng)物。
15、可選的,在所述填充膠清除助焊劑殘留物的步驟中,填充填充膠時(shí)的環(huán)境溫度低于40攝氏度,高于18攝氏度。
16、可選的,在所述減壓步驟中,所述壓力烤箱內(nèi)部抽氣以使得壓力烤箱的腔體內(nèi)的氣壓小于2kgf/cm2,填充膠與助焊劑殘留物反應(yīng)生成的氣態(tài)的反應(yīng)物被排出芯片底部。
17、可選的,在所述填充膠清除助焊劑殘留物的步驟中,所述增壓步驟和所述減壓步驟重復(fù)循環(huán)大于一次。
18、可選的,在所述增壓步驟中,所述壓力烤箱內(nèi)充入的氣體為純凈氣體,所述純凈氣體為氮?dú)狻?/p>
19、可選的,在所述減壓步驟中,所述壓力烤箱內(nèi)部的環(huán)境溫度為40±2攝氏度,持續(xù)時(shí)間為50±5分鐘;
20、在所述增壓步驟中,所述壓力烤箱內(nèi)部的環(huán)境溫度為40±2攝氏度,持續(xù)時(shí)間為5±5分鐘。
21、可選的,在所述固化步驟中,所述壓力烤箱的環(huán)境溫度在80~160攝氏度之間,所述壓力烤箱的內(nèi)部氣壓在6~8kg之間,烘烤時(shí)間在220~240分鐘之間。
22、可選的,所述芯片的封裝方法還包括步驟:
23、檢測(cè)步驟:將烘烤完成后得到的封裝半成品進(jìn)行檢測(cè);
24、其中,所述封裝半成品通過超聲波掃描,以檢測(cè)基板和芯片之間有無氣泡存在。
25、可選的,所述填充膠可以是漢高的9100aa號(hào)填充膠或北陸涂料株式會(huì)社的u8410-302號(hào)填充膠中的其中一種;
26、所述助焊劑可以是銦泰科技有限公司的tacflux-026s號(hào)助焊劑或阿爾法的ncx-402號(hào)助焊劑中的其中一種。
27、本申請(qǐng)還公開了一種封裝半成品,所述封裝半成品用如上所述的芯片的封裝方法進(jìn)行封裝制成,所述封裝半成品封裝完成后,所述芯片和所述基板之間的助焊劑殘留物被清除。
28、本申請(qǐng)的芯片的封裝方法,通過在壓力烤箱內(nèi)進(jìn)行的填充膠填充進(jìn)芯片底部和基板之間的過程中,使填充膠與位于芯片底部的助焊劑殘留物反應(yīng)以形成氣態(tài)的反應(yīng)物,并通過壓力烤箱從芯片的底部排出,因此可以即使不設(shè)置專門的水洗步驟,也可以通過填充膠將芯片底部的助焊劑殘留物清除,而不會(huì)出現(xiàn)殘留的助焊劑受熱氣化導(dǎo)致填充膠內(nèi)部出現(xiàn)氣孔,導(dǎo)致芯片的連接出現(xiàn)不穩(wěn)固的現(xiàn)象引起的良率問題。相較于現(xiàn)有的倒裝工藝流程來說,減少了清洗助焊劑的步驟,從而避免了在芯片的封裝工藝中使用水沖洗,節(jié)省了水資源且降低了生產(chǎn)成本,同時(shí)避免了水沖洗助焊劑殘留物可能會(huì)出現(xiàn)沖洗不干凈的問題,提高了芯片封裝的生產(chǎn)良率。
1.一種芯片的封裝方法,其特征在于,包括步驟:
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片的封裝方法,其特征在于,在所述焊接步驟之后,不對(duì)焊接完成的芯片和基板進(jìn)行水洗處理,而直接執(zhí)行填充膠清除助焊劑殘留物的步驟。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片的封裝方法,其特征在于,所述填充膠清除助焊劑殘留物的步驟包括:
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片的封裝方法,其特征在于,在所述填充膠清除助焊劑殘留物的步驟中,填充填充膠時(shí)的環(huán)境溫度低于40攝氏度,高于18攝氏度。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的芯片的封裝方法,其特征在于,在所述減壓步驟中,所述壓力烤箱內(nèi)部抽氣以使得壓力烤箱的腔體內(nèi)的氣壓小于2kgf/cm2,填充膠與助焊劑殘留物反應(yīng)生成的氣態(tài)的反應(yīng)物被排出芯片底部。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的芯片的封裝方法,其特征在于,在所述填充膠清除助焊劑殘留物的步驟中,所述增壓步驟和所述減壓步驟重復(fù)循環(huán)大于一次。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的芯片的封裝方法,其特征在于,在所述增壓步驟中,所述壓力烤箱內(nèi)充入的氣體為純凈氣體,所述純凈氣體為氮?dú)狻?/p>
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的芯片的封裝方法,其特征在于,在所述減壓步驟中,所述壓力烤箱內(nèi)部的環(huán)境溫度為40±2攝氏度,持續(xù)時(shí)間為50±5分鐘;
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片的封裝方法,其特征在于,在所述固化步驟中,所述壓力烤箱的環(huán)境溫度在80~160攝氏度之間,所述壓力烤箱的內(nèi)部氣壓在6~8kg之間,烘烤時(shí)間在220~240分鐘之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片的封裝方法,其特征在于,還包括步驟:
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的芯片的封裝方法,其特征在于,所述填充膠可以是漢高的9100aa號(hào)填充膠或北陸涂料株式會(huì)社的u8410-302號(hào)填充膠中的其中一種;
12.一種封裝半成品,其特征在于,所述封裝半成品用如權(quán)利要求1至11所述的芯片的封裝方法進(jìn)行封裝制成,所述封裝半成品封裝完成后,所述芯片和所述基板之間的助焊劑殘留物被清除。