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攝像裝置的制作方法

文檔序號(hào):40443771發(fā)布日期:2024-12-24 15:18閱讀:15來源:國(guó)知局
攝像裝置的制作方法

本公開涉及攝像裝置。


背景技術(shù):

1、在數(shù)字相機(jī)等中廣泛使用ccd(電荷耦合器件:charge?coupled?device)影像傳感器以及cmos(互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體:complementary?metal?oxide?semiconductor)影像傳感器。這些影像傳感器具有形成于半導(dǎo)體基板的光電二極管。

2、另一方面,例如,如國(guó)際公布第2012/147302號(hào)所公開,提出了具有將具有光電轉(zhuǎn)換層的光電轉(zhuǎn)換部配置于半導(dǎo)體基板的上方的構(gòu)造的攝像裝置。具有這樣的構(gòu)造的攝像裝置有時(shí)被稱作層疊型的攝像裝置。在層疊型的攝像裝置中,通過光電轉(zhuǎn)換產(chǎn)生的電荷向設(shè)置于半導(dǎo)體基板的電荷積蓄區(qū)域積蓄。與電荷積蓄區(qū)域中積蓄的電荷量對(duì)應(yīng)的信號(hào)經(jīng)由形成于半導(dǎo)體基板的ccd電路或者cmos電路而讀出。

3、在具有設(shè)置于半導(dǎo)體基板的電荷積蓄區(qū)域的攝像裝置中,由于從電荷積蓄區(qū)域流出或者流向電荷積蓄區(qū)域的漏電流即暗電流,得到的圖像有可能發(fā)生劣化。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本公開的一方式的攝像裝置具備:光電轉(zhuǎn)換部,將光轉(zhuǎn)換為信號(hào)電荷;第1導(dǎo)電型的第1擴(kuò)散區(qū)域,被輸入所述信號(hào)電荷;所述第1導(dǎo)電型的第2擴(kuò)散區(qū)域;第1插塞,具有與所述第1擴(kuò)散區(qū)域相接的第1面;以及第2插塞,具有與所述第2擴(kuò)散區(qū)域相接的第2面,在平面視時(shí),所述第1插塞的所述第1面的面積小于所述第2插塞的所述第2面的面積。

2、本公開的一方式的攝像裝置具備:光電轉(zhuǎn)換部,將光轉(zhuǎn)換為信號(hào)電荷;第1導(dǎo)電型的第1擴(kuò)散區(qū)域,被輸入所述信號(hào)電荷;所述第1導(dǎo)電型的第2擴(kuò)散區(qū)域;第1插塞,與所述第1擴(kuò)散區(qū)域相接;以及第2插塞,與所述第2擴(kuò)散區(qū)域相接,所述第1插塞包含:第1觸頭,與所述第1擴(kuò)散區(qū)域相接;以及第1焊盤,位于所述第1觸頭上,所述第2插塞包含:第2觸頭,與所述第2擴(kuò)散區(qū)域相接;以及第2焊盤,位于所述第2觸頭上,在平面視時(shí),所述第1觸頭的面積小于所述第2觸頭的面積。

3、本公開的一方式的攝像裝置具備包含第1導(dǎo)電型的第1擴(kuò)散區(qū)域以及所述第1導(dǎo)電型的第2擴(kuò)散區(qū)域的半導(dǎo)體基板,與所述第1擴(kuò)散區(qū)域相接、并包含半導(dǎo)體的第1插塞(plug),與所述第2擴(kuò)散區(qū)域相接、并包含半導(dǎo)體的第2插塞,以及與所述第1插塞電連接的光電轉(zhuǎn)換部。在從與所述半導(dǎo)體基板垂直的方向觀察時(shí),所述第2插塞的面積大于所述第1插塞的面積。

4、此外,概括性的或者具體的方式也可以通過元件、設(shè)備、模塊、系統(tǒng)或者方法實(shí)現(xiàn)。此外,概括性的或者具體的方式也可以由元件、設(shè)備、模塊、系統(tǒng)以及方法的任意組合實(shí)現(xiàn)。

5、此外,公開的實(shí)施方式的追加效果以及優(yōu)點(diǎn)根據(jù)說明書以及附圖而清楚。效果以及/或者優(yōu)點(diǎn)由說明書以及附圖中公開的各種實(shí)施方式或者特征分別提供,不需要全部來獲得效果以及/或者優(yōu)點(diǎn)的一個(gè)以上。



技術(shù)特征:

1.一種攝像裝置,具備:

2.如權(quán)利要求1所述的攝像裝置,還具備:

3.如權(quán)利要求2所述的攝像裝置,

4.如權(quán)利要求2或3所述的攝像裝置,

5.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的攝像裝置,

6.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的攝像裝置,

7.如權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的攝像裝置,

8.一種攝像裝置,具備:

9.如權(quán)利要求8所述的攝像裝置,

10.如權(quán)利要求8或9所述的攝像裝置,還具備:

11.如權(quán)利要求10所述的攝像裝置,


技術(shù)總結(jié)
本公開的一方式的攝像裝置具備:光電轉(zhuǎn)換部,將光轉(zhuǎn)換為信號(hào)電荷;第1導(dǎo)電型的第1擴(kuò)散區(qū)域,被輸入所述信號(hào)電荷;所述第1導(dǎo)電型的第2擴(kuò)散區(qū)域;第1插塞,具有與所述第1擴(kuò)散區(qū)域相接的第1面;以及第2插塞,具有與所述第2擴(kuò)散區(qū)域相接的第2面,在平面視時(shí),所述第1插塞的所述第1面的面積小于所述第2插塞的所述第2面的面積。

技術(shù)研發(fā)人員:佐藤好弘,高見義則,境田良太
受保護(hù)的技術(shù)使用者:松下知識(shí)產(chǎn)權(quán)經(jīng)營(yíng)株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2024/12/23
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