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多層壓敏電阻的制作方法

文檔序號(hào):40652638發(fā)布日期:2025-01-10 18:59閱讀:5來(lái)源:國(guó)知局
多層壓敏電阻的制作方法

本發(fā)明涉及一種適用于各種電子設(shè)備的多層壓敏電阻。


背景技術(shù):

1、近年來(lái),隨著家用電器和車(chē)載電子設(shè)備的小型化,作為家用電器和車(chē)載電子設(shè)備的部件的壓敏電阻也需要小型化。此外,隨著頻率的增加,靜電電容對(duì)性能產(chǎn)生影響,因此需要在確保規(guī)定的壓敏電阻電壓的同時(shí)具有低靜電電容并且靜電電容的變化很小的壓敏電阻。當(dāng)壓敏電阻成對(duì)使用時(shí),提出在一個(gè)元件中形成兩個(gè)壓敏電阻,以減小壓敏電阻對(duì)之間的靜電容量差。應(yīng)當(dāng)注意,已知專(zhuān)利文獻(xiàn)1是與本申請(qǐng)的發(fā)明相關(guān)的現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)信息的示例。

2、然而,在常規(guī)的多層壓敏電阻中,雜散電容不僅在提供壓敏電阻性能的內(nèi)部電極之間產(chǎn)生,而且在兩個(gè)外部電極之間產(chǎn)生。因此,發(fā)生串?dāng)_,即信號(hào)從兩個(gè)外部電極中的一個(gè)泄漏到兩個(gè)外部電極中的另一個(gè),這可能擾亂信號(hào)波形。

3、引文列表

4、專(zhuān)利文獻(xiàn)

5、專(zhuān)利文獻(xiàn)1:jp?h?07-235406a


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本公開(kāi)的一個(gè)方面的多層壓敏電阻包括燒結(jié)體、第一外部電極、第二外部電極、第三外部電極、第一內(nèi)部電極、第二內(nèi)部電極和第三內(nèi)部電極。燒結(jié)體具有在第一方向上彼此相對(duì)的第一端面和第二端面、在第二方向上彼此相對(duì)的第一側(cè)面和第二側(cè)面,以及在第三方向上彼此相對(duì)的第一主面和第二主面。燒結(jié)體具有包括在第三方向上層疊的多個(gè)層的層疊結(jié)構(gòu),并且呈長(zhǎng)邊在第一方向上延伸的長(zhǎng)方體形狀。第一外部電極設(shè)置在第一側(cè)面或第二側(cè)面中的至少一個(gè)上。第二外部電極和第三外部電極設(shè)置在第一側(cè)面或第二側(cè)面中的至少一個(gè)上并且位于第一外部電極的相對(duì)側(cè)上。第一內(nèi)部電極設(shè)置在燒結(jié)體的內(nèi)部,并且電連接到第一外部電極。第二內(nèi)部電極設(shè)置在燒結(jié)體的內(nèi)部,并且電連接到第二外部電極。第三內(nèi)部電極設(shè)置在燒結(jié)體的內(nèi)部,并且電連接到第三外部電極。在第三方向上,第一內(nèi)部電極設(shè)置在第二內(nèi)部電極與第三內(nèi)部電極之間。



技術(shù)特征:

1.一種多層壓敏電阻,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層壓敏電阻,其中

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的多層壓敏電阻,其中

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的多層壓敏電阻,其中

5.一種多層壓敏電阻,包括:

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的多層壓敏電阻,其中

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的多層壓敏電阻,其中

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的多層壓敏電阻,其中

9.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的多層壓敏電阻,其中

10.一種多層壓敏電阻,包括:

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的多層壓敏電阻,其中


技術(shù)總結(jié)
本公開(kāi)的目的在于獲得一種多層壓敏電阻,該多層壓敏電阻抑制了在外部端子之間產(chǎn)生的串?dāng)_。多層壓敏電阻(1)具有層疊結(jié)構(gòu),該層疊結(jié)構(gòu)包括在第三方向上層疊的多個(gè)層。多層壓敏電阻(1)包括電連接到第一外部電極12的第一內(nèi)部電極(13)、電連接到第二外部電極(16)的第二內(nèi)部電極(17),以及電連接到第三外部電極(20)的第三內(nèi)部電極(21)。在第三方向上,第一內(nèi)部電極(13)設(shè)置在第二內(nèi)部電極(17)與第三內(nèi)部電極(21)之間。

技術(shù)研發(fā)人員:高村真史,渡邊沙也佳,藤井健史,矢內(nèi)劍,秋山優(yōu)斗
受保護(hù)的技術(shù)使用者:松下知識(shí)產(chǎn)權(quán)經(jīng)營(yíng)株式會(huì)社
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/9
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