1.一種基于鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的紅光激光器,其特征在于,由下至上依次包括:反射層、p面電極、空穴傳輸層、鈣鈦礦有源層、電子傳輸層和n面電極;
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的紅光激光器,其特征在于,反射層的厚度為250-350nm,hfo2層的單層厚度為25-35?nm,sio2層的單層厚度為15-25?nm;hfo2層緊貼p面電極的下表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的紅光激光器,其特征在于,p面電極為ito導(dǎo)電玻璃,厚度為250-350?μm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的紅光激光器,其特征在于,空穴傳輸層中鈧元素的摩爾量為氧化鎳摩爾量的4-6%;空穴傳輸層的厚度為150-250?nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的紅光激光器,其特征在于,鈣鈦礦有源層的厚度為100-200nm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的紅光激光器,其特征在于,電子傳輸層中鎂元素的摩爾量為氧化鋅摩爾量的10-20%;電子傳輸層的厚度為150-250nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的紅光激光器,其特征在于,n面電極為au/ge/ni,n面電極的厚度為550nm,其中au層的厚度為300?nm,ge層的厚度為150?nm,ni層的厚度為100?nm;n面電極自下至上依次為ni層、ge層、au層。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述基于鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的紅光激光器,其特征在于,p面電極與外部電源的正極相連,n面電極與外部電源的負(fù)極相連。
9.如權(quán)利要求1-8任意一項(xiàng)所述基于鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的紅光激光器的制備方法,包括步驟:
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述基于鈣鈦礦結(jié)構(gòu)的紅光激光器的制備方法,其特征在于,包括以下條件中的一項(xiàng)或多項(xiàng):