本技術(shù)涉及刻蝕機，具體為一種刻蝕機的壓環(huán)。

背景技術(shù)：

1、刻蝕機是一種在半導(dǎo)體制造過程中使用的設(shè)備，用于去除材料表面的特定部分，以便在硅片上形成電路圖案。在等離子體刻蝕設(shè)備中，壓環(huán)是放置在晶圓外部、直接接觸晶圓的重要部件，壓環(huán)的主要功能是在刻蝕過程中固定樣片，保證樣片在刻蝕過程中不會因為等離子體的沖擊或其他外力作用而移動或錯位，此外壓環(huán)還可以幫助優(yōu)化等離子體在反應(yīng)腔中的分布，使等離子體更加均勻地覆蓋在樣片表面，從而提高刻蝕的均勻性和效率。

2、經(jīng)檢索，公開號為：cn216671556u的中國實用新型專利，公開了一種硅片刻蝕用的壓環(huán)結(jié)構(gòu)，包括具有中心通孔的環(huán)形板片和設(shè)在中心通孔周緣的若干個壓緊硅片局部邊緣的內(nèi)凸壓爪。本實用新型硅片刻蝕用的壓環(huán)結(jié)構(gòu)的工作原理，通過設(shè)有若干個壓緊硅片局部邊緣的內(nèi)凸壓爪，從而使壓環(huán)壓緊硅片邊緣的接觸面積大大減少，從而可減少有效管芯損失，減少有效管芯浪費和經(jīng)濟損失。

3、上述技術(shù)方案中通過在壓環(huán)上設(shè)置內(nèi)凸壓爪，壓緊硅片，減少管芯損失，但是內(nèi)凸壓爪減少了壓環(huán)與硅片的接觸面積，在壓環(huán)下壓過程中，會對硅片產(chǎn)生沖擊，容易造成壓環(huán)對硅片造成損傷，影響硅片的良品率。為此，本申請?zhí)岢鲆环N刻蝕機的壓環(huán)。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的在于提供一種刻蝕機的壓環(huán)，以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。

2、為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案：一種刻蝕機的壓環(huán)，包括：壓環(huán)主體、硅片放置板和硅片，所述硅片放置板頂部放置有硅片，所述硅片上方設(shè)有壓環(huán)主體，所述壓環(huán)主體內(nèi)側(cè)設(shè)有內(nèi)凸壓爪，所述壓環(huán)主體外側(cè)設(shè)有安裝耳，所述安裝耳底端設(shè)有連接板，所述連接板底部設(shè)有彈性橡膠，所述彈性橡膠底部設(shè)有接觸板，所述壓環(huán)主體底部設(shè)有定位環(huán)，所述定位環(huán)內(nèi)徑與硅片的外徑相同。

3、進(jìn)一步的，所述硅片放置板頂部位于安裝耳下方設(shè)有緩沖槽，所述緩沖槽內(nèi)部設(shè)有升降氣缸桿，所述升降氣缸桿頂端與安裝耳固定連接。

4、進(jìn)一步的，所述硅片放置板頂面位于定位環(huán)下方開設(shè)有定位槽，所述定位槽內(nèi)部設(shè)有彈性定位銷，所述彈性定位銷外壁與硅片外壁相接觸。

5、進(jìn)一步的，所述內(nèi)凸壓爪有若干個，若干個所述內(nèi)凸壓爪在壓環(huán)主體上呈周向均勻分布。

6、進(jìn)一步的，所述安裝耳有三個，三個所述安裝耳在壓環(huán)主體上呈周向均勻排布，所述安裝耳內(nèi)部位于升降氣缸桿外側(cè)開設(shè)有通孔，所述連接板與升降氣缸桿外壁相固定，所述彈性橡膠和接觸板中央均開設(shè)有用于升降氣缸桿穿過的通孔。

7、進(jìn)一步的，所述接觸板與緩沖槽相接觸時，彈性橡膠處于自由狀態(tài)，所述內(nèi)凸壓爪與硅片上方之間留有間隙。

8、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是：

9、本實用新型通過設(shè)置的壓環(huán)主體、內(nèi)凸壓爪和彈性橡膠，實現(xiàn)了在刻蝕機的壓環(huán)使用時，壓環(huán)通過升降氣缸升降，首先將硅片放置在硅片放置板上方，硅片通過凸出于硅片放置板的彈性定位銷進(jìn)行定位，然后通過升降氣缸帶動壓環(huán)主體及其組件下降，升降氣缸桿先快速下降，當(dāng)壓環(huán)下降時，定位環(huán)首先與彈性定位銷相接觸，隨著壓環(huán)的繼續(xù)下降，定位環(huán)將彈性定位銷下壓至定位槽內(nèi)，直至接觸板與緩沖槽頂面相接觸后，控制升降氣缸慢速下降，此時內(nèi)凹壓爪還沒有與硅片相接觸，定位環(huán)代替彈性定位銷給硅片起到定位作用，隨著升降氣缸的慢速下降，能夠減少后續(xù)內(nèi)凸壓爪對硅片產(chǎn)生的沖擊力，當(dāng)壓環(huán)繼續(xù)下降，彈性橡膠受力壓縮，直至內(nèi)凸壓爪與硅片接觸達(dá)到壓緊力度，通過彈性橡膠的緩沖，進(jìn)一步減少內(nèi)凸壓爪下降時對硅片產(chǎn)生的沖擊力，保證內(nèi)凸壓爪平穩(wěn)的壓在硅片上，減少硅片的損傷。

技術(shù)特征：

1.一種刻蝕機的壓環(huán)，包括：壓環(huán)主體(1)、硅片放置板(8)和硅片(9)，其特征在于：所述硅片放置板(8)頂部放置有硅片(9)，所述硅片(9)上方設(shè)有壓環(huán)主體(1)，所述壓環(huán)主體(1)內(nèi)側(cè)設(shè)有內(nèi)凸壓爪(2)，所述壓環(huán)主體(1)外側(cè)設(shè)有安裝耳(3)，所述安裝耳(3)底端設(shè)有連接板(4)，所述連接板(4)底部設(shè)有彈性橡膠(5)，所述彈性橡膠(5)底部設(shè)有接觸板(6)，所述壓環(huán)主體(1)底部設(shè)有定位環(huán)(7)，所述定位環(huán)(7)內(nèi)徑與硅片(9)的外徑相同。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種刻蝕機的壓環(huán)，其特征在于：所述硅片放置板(8)頂部位于安裝耳(3)下方設(shè)有緩沖槽(10)，所述緩沖槽(10)內(nèi)部設(shè)有升降氣缸桿(11)，所述升降氣缸桿(11)頂端與安裝耳(3)固定連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種刻蝕機的壓環(huán)，其特征在于：所述硅片放置板(8)頂面位于定位環(huán)(7)下方開設(shè)有定位槽，所述定位槽內(nèi)部設(shè)有彈性定位銷(12)，所述彈性定位銷(12)外壁與硅片(9)外壁相接觸。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種刻蝕機的壓環(huán)，其特征在于：所述內(nèi)凸壓爪(2)有若干個，若干個所述內(nèi)凸壓爪(2)在壓環(huán)主體(1)上呈周向均勻分布。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種刻蝕機的壓環(huán)，其特征在于：所述安裝耳(3)有三個，三個所述安裝耳(3)在壓環(huán)主體(1)上呈周向均勻排布，所述安裝耳(3)內(nèi)部位于升降氣缸桿(11)外側(cè)開設(shè)有通孔，所述連接板(4)與升降氣缸桿(11)外壁相固定，所述彈性橡膠(5)和接觸板(6)中央均開設(shè)有用于升降氣缸桿(11)穿過的通孔。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種刻蝕機的壓環(huán)，其特征在于：所述接觸板(6)與緩沖槽(10)相接觸時，彈性橡膠(5)處于自由狀態(tài)，所述內(nèi)凸壓爪(2)與硅片(9)上方之間留有間隙。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及刻蝕機技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種刻蝕機的壓環(huán)，包括：壓環(huán)主體、硅片放置板和硅片，所述硅片放置板頂部放置有硅片，所述硅片上方設(shè)有壓環(huán)主體，所述壓環(huán)主體內(nèi)側(cè)設(shè)有內(nèi)凸壓爪，所述壓環(huán)主體外側(cè)設(shè)有安裝耳，所述安裝耳底端設(shè)有連接板，所述連接板底部設(shè)有彈性橡膠，所述彈性橡膠底部設(shè)有接觸板，所述壓環(huán)主體底部設(shè)有定位環(huán)，本技術(shù)隨著升降氣缸的慢速下降，能夠減少后續(xù)內(nèi)凸壓爪對硅片產(chǎn)生的沖擊力，當(dāng)壓環(huán)繼續(xù)下降，彈性橡膠受力壓縮，直至內(nèi)凸壓爪與硅片接觸達(dá)到壓緊力度，通過彈性橡膠的緩沖，進(jìn)一步減少內(nèi)凸壓爪下降時對硅片產(chǎn)生的沖擊力，保證內(nèi)凸壓爪平穩(wěn)的壓在硅片上，減少硅片的損傷。

技術(shù)研發(fā)人員：張其峰
受保護(hù)的技術(shù)使用者：無錫智遠(yuǎn)芯半導(dǎo)體設(shè)備技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240320
技術(shù)公布日：2025/1/2