本技術(shù)涉及晶圓清洗，具體涉及一種清洗液輸出裝置。

背景技術(shù)：

1、cmp(chemical?mechanical?planarization)是一種使用化學(xué)腐蝕以及機(jī)械力對加工過程中的硅晶圓或其它襯底材料進(jìn)行平坦化處理并且進(jìn)行后清洗。故過研磨后cmp清洗制程為成功應(yīng)用cmp于半導(dǎo)體制程之關(guān)鍵技術(shù)。

2、現(xiàn)有技術(shù)中的，清洗液輸出結(jié)構(gòu)是通過將清洗液輸出到晶片表面的固定位置，通過晶圓的轉(zhuǎn)動(dòng)將清洗液分布到晶圓表面各處，但是晶圓轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)無法均勻?qū)⑶逑匆悍植嫉骄A表面，并且無法保證清洗液有效的進(jìn)入刷子和晶圓之間，從而導(dǎo)致清洗液分布不均勻?qū)е庐a(chǎn)品清洗程度不夠，造成產(chǎn)品缺陷。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、因此，本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題在于克服現(xiàn)有技術(shù)中的清洗液不均勻的缺陷，從而提供一種清洗液輸出裝置。

2、本實(shí)用新型提供了，一種清洗液輸出裝置，包括：

3、固定臂；

4、輸出臂，與所述固定臂轉(zhuǎn)動(dòng)連接；

5、噴頭，至少具有一個(gè)；所述噴頭固定在所述輸出臂底部；所述噴頭隨所述輸出臂的轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)行周期性運(yùn)動(dòng)。

6、作為優(yōu)選方案，所述噴頭具有一個(gè)。

7、作為優(yōu)選方案，包括：

8、控制組件，與所述輸出臂連接；所述控制組件適于控制所述輸出臂轉(zhuǎn)動(dòng)。

9、作為優(yōu)選方案，所述控制組件包括驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)和傳動(dòng)結(jié)構(gòu)；所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)與所述輸出臂連接；所述傳動(dòng)結(jié)構(gòu)設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)與所述輸出臂之間。

10、作為優(yōu)選方案，所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)包括電機(jī)。

11、作為優(yōu)選方案，所述傳動(dòng)結(jié)構(gòu)包括第一齒輪和第二齒輪；所述第一齒輪與所述輸出臂固定連接；所述第一齒輪與所述輸出臂同步轉(zhuǎn)動(dòng)；所述第二齒輪與所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)固定連接；所述第二齒輪與所述第一齒輪連接；所述第二齒輪帶動(dòng)所述第一齒輪轉(zhuǎn)動(dòng)。

12、作為優(yōu)選方案，所述第一齒輪與所述第二齒輪通過皮帶連接。

13、作為優(yōu)選方案，所述噴頭的輸出直徑為1.5mm-5mm。

14、作為優(yōu)選方案，所述輸出臂的轉(zhuǎn)速為10rpm-100rpm。

15、作為優(yōu)選方案，所述電機(jī)為伺服電機(jī)。

16、本實(shí)用新型技術(shù)方案，具有如下優(yōu)點(diǎn)：

17、1.本實(shí)用新型提供的清洗液輸出裝置，包括：固定臂、輸出臂和噴頭，輸出臂與固定臂轉(zhuǎn)動(dòng)連接；噴頭至少具有一個(gè)；噴頭固定在輸出臂底部；噴頭隨輸出臂的轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)行周期性運(yùn)動(dòng)。本裝置通過輸出臂與固定臂的轉(zhuǎn)動(dòng)，從而帶動(dòng)噴頭進(jìn)行周期運(yùn)動(dòng)，在晶圓清洗過程中，本方案中的噴頭處于運(yùn)動(dòng)過程，不僅僅將清洗液輸出到晶片表面的固定位置，運(yùn)動(dòng)中的噴頭能夠?qū)⑶逑匆焊泳鶆虻妮敵龅骄A表面，從而增加晶圓的清洗效果。

18、2.本實(shí)用新型提供的清洗液輸出裝置，第一齒輪和第二齒輪通過皮帶連接，皮帶傳動(dòng)具有運(yùn)行平穩(wěn)的優(yōu)點(diǎn)，并且皮帶具有良好的彈性，工作過程中可以緩沖、吸振，皮帶還具有過載保護(hù)的作用，如果工作時(shí)遇到過載，皮帶會(huì)發(fā)生打滑現(xiàn)象從而起到安全保護(hù)的作用。

19、3.本實(shí)用新型提供的清洗液輸出裝置，其中電機(jī)為伺服電機(jī)，伺服電機(jī)具有精度高，穩(wěn)定運(yùn)行的優(yōu)點(diǎn)。

技術(shù)特征：

1.一種清洗液輸出裝置，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗液輸出裝置，其特征在于，所述噴頭(3)具有一個(gè)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗液輸出裝置，其特征在于，包括：

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清洗液輸出裝置，其特征在于，所述控制組件(4)包括驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)(41)和傳動(dòng)結(jié)構(gòu)(42)；所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)(41)與所述輸出臂(2)連接；所述傳動(dòng)結(jié)構(gòu)(42)設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)(41)與所述輸出臂(2)之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的清洗液輸出裝置，其特征在于，所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)(41)包括電機(jī)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的清洗液輸出裝置，其特征在于，所述傳動(dòng)結(jié)構(gòu)(42)包括第一齒輪(421)和第二齒輪(422)；所述第一齒輪(421)與所述輸出臂(2)固定連接；所述第一齒輪(421)與所述輸出臂(2)同步轉(zhuǎn)動(dòng)；所述第二齒輪(422)與所述驅(qū)動(dòng)結(jié)構(gòu)(41)固定連接；所述第二齒輪(422)與所述第一齒輪(421)連接；所述第二齒輪(422)帶動(dòng)所述第一齒輪(421)轉(zhuǎn)動(dòng)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的清洗液輸出裝置，其特征在于，所述第一齒輪(421)與所述第二齒輪(422)通過皮帶(423)連接。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗液輸出裝置，其特征在于，所述噴頭(3)的輸出直徑為1.5mm-5mm。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗液輸出裝置，其特征在于，所述輸出臂(2)的轉(zhuǎn)速為10rpm-100rpm。

10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的清洗液輸出裝置，其特征在于，所述電機(jī)為伺服電機(jī)。

技術(shù)總結(jié)
提供了一種清洗液輸出裝置，屬于晶圓清洗技術(shù)領(lǐng)域，包括：固定臂、輸出臂和噴頭，輸出臂與固定臂轉(zhuǎn)動(dòng)連接；噴頭至少具有一個(gè)；噴頭固定在輸出臂底部；噴頭隨輸出臂的轉(zhuǎn)動(dòng)進(jìn)行周期性運(yùn)動(dòng)。本裝置通過輸出臂與固定臂的轉(zhuǎn)動(dòng)，從而帶動(dòng)噴頭進(jìn)行周期運(yùn)動(dòng)，在晶圓清洗過程中，本方案中的噴頭處于運(yùn)動(dòng)過程，不僅僅將清洗液輸出到晶片表面的固定位置，運(yùn)動(dòng)中的噴頭能夠?qū)⑶逑匆焊泳鶆虻妮敵龅骄A表面，從而增加晶圓的清洗效果。

技術(shù)研發(fā)人員：王書宇,王浩斌
受保護(hù)的技術(shù)使用者：北京晶亦精微科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240327
技術(shù)公布日：2025/1/6