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一種同向引腳電感的制作方法

文檔序號:40596011發(fā)布日期:2025-01-07 20:36閱讀:6來源:國知局
一種同向引腳電感的制作方法

本技術(shù)涉及電感,具體而言,涉及一種同向引腳電感。


背景技術(shù):

1、電感是一種電器元件,它通過磁場的感應作用存儲著電能,與電容類似,是電路中的一種重要元件。電感主要由一根導線繞成的線圈構(gòu)成,當電流通過線圈時,會在它的周圍形成一個磁場。當電路中的電流發(fā)生變化時,磁場也會發(fā)生變化,這種變化將導致線圈中產(chǎn)生電動勢,使電感在電路中產(chǎn)生阻抗,影響電路的電壓和電流變化。電感的單位是亨利(henry)。電感在電子電路中廣泛應用,包括電源濾波、射頻電路、振蕩電路等。

2、然而,傳統(tǒng)電感的引腳位于線圈兩端,使得電感引腳之間的距離較大,使得其會占用較大的面積,不利于電路板的小型化設計,而且傳統(tǒng)電感在生產(chǎn)時,需要支框架模具對其進行支撐,這樣會增加生產(chǎn)成本;因此,本實用新型提出了一種同向引腳電感,以至少部分解決現(xiàn)有技術(shù)中可能存在的問題。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、為了克服上述問題或者至少部分地解決上述問題,本實用新型實施例提供一種同向引腳電感,提高了電感的性能穩(wěn)定性,并且能夠更靈活地適應不同的應用場景。

2、本實用新型的實施例是這樣實現(xiàn)的:

3、本申請實施例提供一種同向引腳電感,包括由磁體材料填充于線圈內(nèi),以及包覆于線圈外形成全封閉的電感體;所述線圈的兩端同向延伸出所述電感體,形成電感的引腳。

4、在本實用新型的一些實施例中,所述電感體位于所述引腳位置并朝向所述電感體的底部,還設有導線槽;所述引腳貼合所述導線槽,并沿所述導線槽方向延伸。

5、在本實用新型的一些實施例中,所述電感體的底部,設有引腳槽;所述引腳具有折彎結(jié)構(gòu),并設置于所述引腳槽;所述引腳槽之間形成凸臺,所述凸臺高度不小于所述引腳的線徑。

6、在本實用新型的一些實施例中,所述凸臺的表面呈“t”字形。

7、在本實用新型的一些實施例中,所述凸臺的表面呈“工”字形。

8、在本實用新型的一些實施例中,所述折彎結(jié)構(gòu)包括直線形、l形、弧形、z形以及螺旋形的折彎結(jié)構(gòu)。

9、相對于現(xiàn)有技術(shù),本實用新型的實施例至少具有如下優(yōu)點或有益效果:

10、通過由磁體材料填充于線圈內(nèi),以及包覆于線圈外形成全封閉的電感體;所述線圈的兩端同向延伸出所述,形成電感的引腳。本申請的同向引腳電感通過全封閉設計和同向引腳布局,提高了電感的性能穩(wěn)定性,并且能夠更靈活地適應不同的應用場景。



技術(shù)特征:

1.一種同向引腳電感,其特征在于,包括由磁體材料填充于線圈內(nèi),以及包覆于線圈外形成全封閉的電感體(101);所述線圈的兩端同向延伸出所述電感體(101),形成電感的引腳(102)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的同向引腳電感,其特征在于,所述電感體(101)位于所述引腳(102)位置并朝向所述電感體(101)的底部,還設有導線槽(103);所述引腳(102)貼合所述導線槽(103),并沿所述導線槽(103)方向延伸。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的同向引腳電感,其特征在于,所述電感體(101)的底部,設有引腳槽(104);所述引腳(102)具有折彎結(jié)構(gòu),并設置于所述引腳槽(104);所述引腳槽(104)之間形成凸臺(105),所述凸臺(105)高度不小于所述引腳(102)的線徑。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的同向引腳電感,其特征在于,所述凸臺(105)的表面呈“t”字形。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的同向引腳電感,其特征在于,所述凸臺(105)的表面呈“工”字形。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的同向引腳電感,其特征在于,所述折彎結(jié)構(gòu)包括直線形、l形、弧形、z形以及螺旋形的折彎結(jié)構(gòu)。


技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)提出了一種同向引腳電感,涉及電感技術(shù)領(lǐng)域。包括由磁體材料填充于線圈內(nèi),以及包覆于線圈外形成全封閉的電感體;所述線圈的兩端同向延伸出所述電感體,形成電感的引腳;該同向引腳電感通過全封閉設計和同向引腳布局,提高了電感的性能穩(wěn)定性,并且能夠更靈活地適應不同的應用場景。

技術(shù)研發(fā)人員:何偉樣,陳月園
受保護的技術(shù)使用者:深圳市匯誠創(chuàng)新科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20240509
技術(shù)公布日:2025/1/6
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