本技術(shù)涉及半導(dǎo)體，具體為一種芯片生產(chǎn)用的干法刻蝕機(jī)。

背景技術(shù)：

1、干法刻蝕機(jī)是一種利用高能離子束或等離子體對(duì)半導(dǎo)體材料進(jìn)行物理或化學(xué)刻蝕的設(shè)備，而在芯片生產(chǎn)中的干法刻蝕機(jī)是一種關(guān)鍵的設(shè)備，它主要用于在芯片制造過(guò)程中進(jìn)行精確的刻蝕操作，干法刻蝕制程主要刻蝕氣體為三氯化硼，是一種無(wú)色有毒有害的氣體，通過(guò)對(duì)三氯化硼加熱的方式由液態(tài)變成氣態(tài)通入腔體，通過(guò)電漿的方式與產(chǎn)品發(fā)生化學(xué)或物理反應(yīng)達(dá)到對(duì)產(chǎn)品刻蝕的一個(gè)過(guò)程，使用到一定的天數(shù)需要對(duì)設(shè)備進(jìn)行保養(yǎng)。因干法刻蝕制程中通入三氯化硼氣體，腔室內(nèi)會(huì)殘留大量有毒有刺鼻性的氯化物質(zhì)，因此在保養(yǎng)前需要做吹掃動(dòng)作，通過(guò)反應(yīng)的方式清潔以減少腔室內(nèi)氣味，保證人員安全。

2、現(xiàn)有的芯片生產(chǎn)用的干法刻蝕機(jī)還存在以下問(wèn)題，現(xiàn)有裝置一般是通過(guò)吸風(fēng)來(lái)清潔減少腔室內(nèi)的氣味，參考公開(kāi)號(hào)為cn217933732u的專利申請(qǐng)所公開(kāi)的一種芯片生產(chǎn)用的干法刻蝕機(jī)，通過(guò)采用空氣置換的方式去除反應(yīng)倉(cāng)內(nèi)氯化物，大幅提升清潔效率，解決了現(xiàn)有技術(shù)中采用氣體吹掃的方式來(lái)去除刻蝕機(jī)反應(yīng)倉(cāng)內(nèi)有毒氣體所導(dǎo)致效率低下的技術(shù)問(wèn)題。

3、然而如上技術(shù)該裝置是直接通過(guò)吸風(fēng)機(jī)構(gòu)來(lái)去除刻蝕機(jī)反應(yīng)倉(cāng)內(nèi)有毒氣體，而現(xiàn)有裝置需要配備外置過(guò)濾設(shè)備來(lái)將有毒氣體進(jìn)行過(guò)濾凈化后排出，這便需要額外的空間來(lái)安裝和維護(hù)，不便于使用，且清理過(guò)濾裝置需要定期進(jìn)行清理或更換，而外置設(shè)備的拆卸清理也較為不便，實(shí)用性一般。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型提供了一種芯片生產(chǎn)用的干法刻蝕機(jī)，解決了現(xiàn)有的芯片生產(chǎn)用的干法刻蝕機(jī)需要配備外置過(guò)濾設(shè)備來(lái)過(guò)濾有毒氣體，不便于使用，且清理過(guò)濾裝置拆卸清理較為不便，實(shí)用性一般的問(wèn)題。

2、為實(shí)現(xiàn)以上目的，本實(shí)用新型通過(guò)以下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn)：一種芯片生產(chǎn)用的干法刻蝕機(jī)，包括反應(yīng)倉(cāng)，所述反應(yīng)倉(cāng)的外側(cè)設(shè)置有排氣機(jī)構(gòu)用于對(duì)反應(yīng)倉(cāng)內(nèi)的有毒氣體進(jìn)行處理，所述排氣機(jī)構(gòu)包括：

3、引風(fēng)組件，設(shè)置在反應(yīng)倉(cāng)的右側(cè)用于提高吸取有毒氣體的效率；

4、抽風(fēng)組件，設(shè)置在反應(yīng)倉(cāng)的前側(cè)用于對(duì)反應(yīng)倉(cāng)內(nèi)部的有毒氣體進(jìn)行去除；

5、過(guò)濾組件，設(shè)置在反應(yīng)倉(cāng)的前側(cè)用于對(duì)有毒氣體進(jìn)行過(guò)濾凈化，所述過(guò)濾組件包括固定安裝在反應(yīng)倉(cāng)前側(cè)的過(guò)濾箱，所述過(guò)濾箱的內(nèi)部活動(dòng)安裝有濾框，所述過(guò)濾箱的左側(cè)固定安裝有出風(fēng)管，所述濾框的內(nèi)部固定安裝有hepa濾網(wǎng)和兩個(gè)活性炭濾網(wǎng)，所述濾框的頂面設(shè)置有限位組件。

6、優(yōu)選的，所述限位組件包括開(kāi)設(shè)在濾框頂面的兩個(gè)活動(dòng)槽，兩個(gè)所述活動(dòng)槽的相對(duì)側(cè)均固定安裝有兩個(gè)彈簧，兩個(gè)所述活動(dòng)槽的內(nèi)部均滑動(dòng)安裝有卡板，所述卡板的頂面固定安裝有把手，所述過(guò)濾箱內(nèi)腔的前后兩側(cè)均開(kāi)設(shè)有卡槽，所述濾框的頂面活動(dòng)貫穿過(guò)濾箱的內(nèi)部并延伸至過(guò)濾箱的頂面。

7、優(yōu)選的，所述把手的頂面貫穿兩個(gè)活動(dòng)槽的內(nèi)部并延伸至兩個(gè)活動(dòng)槽的頂面，所述卡板的一側(cè)活動(dòng)貫穿兩個(gè)活動(dòng)槽的內(nèi)部并延伸至卡槽的內(nèi)部，兩個(gè)所述彈簧的一端均固定安裝在卡板的一側(cè)。

8、優(yōu)選的，所述引風(fēng)組件包括開(kāi)設(shè)在反應(yīng)倉(cāng)右側(cè)的若干引風(fēng)口和槽框，所述反應(yīng)倉(cāng)的前后兩側(cè)均固定安裝有安裝板，所述安裝板的右側(cè)均固定安裝有電動(dòng)伸縮桿，所述電動(dòng)伸縮桿的輸出端固定安裝有側(cè)板，所述側(cè)板的左側(cè)固定安裝有密封框。

9、優(yōu)選的，所述密封框的左側(cè)緊貼在槽框的內(nèi)部。

10、優(yōu)選的，所述反應(yīng)倉(cāng)的前側(cè)固定安裝有閥管和抽風(fēng)機(jī)，所述閥管的前端固定安裝有抽風(fēng)管，所述抽風(fēng)管的頂面固定安裝有氣體偵測(cè)器，所述氣體偵測(cè)器的輸出端貫穿抽風(fēng)管的頂面并延伸至抽風(fēng)管的內(nèi)部，所述抽風(fēng)管的左端固定安裝在抽風(fēng)機(jī)的輸入端，所述抽風(fēng)機(jī)的輸出端貫穿過(guò)濾箱的右側(cè)并延伸至過(guò)濾箱的內(nèi)部。

11、有益效果

12、本實(shí)用新型提供了一種芯片生產(chǎn)用的干法刻蝕機(jī)。與現(xiàn)有技術(shù)相比具備以下有益效果：

13、(1)、該芯片生產(chǎn)用的干法刻蝕機(jī)，通過(guò)設(shè)置的卡板方便對(duì)濾框進(jìn)行拆卸清理，使用時(shí)拉動(dòng)把手向相對(duì)側(cè)移動(dòng)，接著把手會(huì)帶動(dòng)卡板拔出卡槽的內(nèi)部，然后提起把手便可以將濾框拿出過(guò)濾箱的內(nèi)部，接著便可以對(duì)hepa濾網(wǎng)和活性炭濾網(wǎng)進(jìn)行清理，便于清理，實(shí)用性好。

14、(2)、該芯片生產(chǎn)用的干法刻蝕機(jī)，通過(guò)設(shè)置的hepa濾網(wǎng)和活性炭濾網(wǎng)可以對(duì)有毒氣體進(jìn)行過(guò)濾，使用時(shí)打開(kāi)閥管啟動(dòng)抽風(fēng)機(jī)將反應(yīng)倉(cāng)內(nèi)的有毒氣體通過(guò)閥管和抽風(fēng)管吸入過(guò)濾箱的內(nèi)部，接著hepa濾網(wǎng)和活性炭濾網(wǎng)會(huì)對(duì)進(jìn)入過(guò)濾箱內(nèi)部的有毒氣體進(jìn)行過(guò)濾凈化，然后通過(guò)出風(fēng)管排出，占用空間少，方便使用。

技術(shù)特征：

1.一種芯片生產(chǎn)用的干法刻蝕機(jī)，包括反應(yīng)倉(cāng)(1)，其特征在于：所述反應(yīng)倉(cāng)(1)的外側(cè)設(shè)置有排氣機(jī)構(gòu)(2)用于對(duì)反應(yīng)倉(cāng)(1)內(nèi)的有毒氣體進(jìn)行處理，所述排氣機(jī)構(gòu)(2)包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種芯片生產(chǎn)用的干法刻蝕機(jī)，其特征在于：所述限位組件包括開(kāi)設(shè)在濾框(233)頂面的兩個(gè)活動(dòng)槽(235)，兩個(gè)所述活動(dòng)槽(235)的相對(duì)側(cè)均固定安裝有兩個(gè)彈簧(237)，兩個(gè)所述活動(dòng)槽(235)的內(nèi)部均滑動(dòng)安裝有卡板(236)，所述卡板(236)的頂面固定安裝有把手(234)，所述過(guò)濾箱(231)內(nèi)腔的前后兩側(cè)均開(kāi)設(shè)有卡槽(2310)，所述濾框(233)的頂面活動(dòng)貫穿過(guò)濾箱(231)的內(nèi)部并延伸至過(guò)濾箱(231)的頂面。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種芯片生產(chǎn)用的干法刻蝕機(jī)，其特征在于：所述把手(234)的頂面貫穿兩個(gè)活動(dòng)槽(235)的內(nèi)部并延伸至兩個(gè)活動(dòng)槽(235)的頂面，所述卡板(236)的一側(cè)活動(dòng)貫穿兩個(gè)活動(dòng)槽(235)的內(nèi)部并延伸至卡槽(2310)的內(nèi)部，兩個(gè)所述彈簧(237)的一端均固定安裝在卡板(236)的一側(cè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種芯片生產(chǎn)用的干法刻蝕機(jī)，其特征在于：所述引風(fēng)組件(21)包括開(kāi)設(shè)在反應(yīng)倉(cāng)(1)右側(cè)的若干引風(fēng)口(213)和槽框(214)，所述反應(yīng)倉(cāng)(1)的前后兩側(cè)均固定安裝有安裝板(216)，所述安裝板(216)的右側(cè)均固定安裝有電動(dòng)伸縮桿(211)，所述電動(dòng)伸縮桿(211)的輸出端固定安裝有側(cè)板(212)，所述側(cè)板(212)的左側(cè)固定安裝有密封框(215)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種芯片生產(chǎn)用的干法刻蝕機(jī)，其特征在于：所述密封框(215)的左側(cè)緊貼在槽框(214)的內(nèi)部。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種芯片生產(chǎn)用的干法刻蝕機(jī)，其特征在于：所述反應(yīng)倉(cāng)(1)的前側(cè)固定安裝有閥管(221)和抽風(fēng)機(jī)(224)，所述閥管(221)的前端固定安裝有抽風(fēng)管(222)，所述抽風(fēng)管(222)的頂面固定安裝有氣體偵測(cè)器(223)，所述氣體偵測(cè)器(223)的輸出端貫穿抽風(fēng)管(222)的頂面并延伸至抽風(fēng)管(222)的內(nèi)部，所述抽風(fēng)管(222)的左端固定安裝在抽風(fēng)機(jī)(224)的輸入端，所述抽風(fēng)機(jī)(224)的輸出端貫穿過(guò)濾箱(231)的右側(cè)并延伸至過(guò)濾箱(231)的內(nèi)部。

技術(shù)總結(jié)
技術(shù)公開(kāi)了一種芯片生產(chǎn)用的干法刻蝕機(jī)，包括反應(yīng)倉(cāng)，反應(yīng)倉(cāng)的外側(cè)設(shè)置有排氣機(jī)構(gòu)用于對(duì)反應(yīng)倉(cāng)內(nèi)的有毒氣體進(jìn)行處理，排氣機(jī)構(gòu)包括：引風(fēng)組件，設(shè)置在反應(yīng)倉(cāng)的右側(cè)用于提高吸取有毒氣體的效率；抽風(fēng)組件，設(shè)置在反應(yīng)倉(cāng)的前側(cè)用于對(duì)反應(yīng)倉(cāng)內(nèi)部的有毒氣體進(jìn)行去除；過(guò)濾組件，設(shè)置在反應(yīng)倉(cāng)的前側(cè)用于對(duì)有毒氣體進(jìn)行過(guò)濾凈化，本技術(shù)涉及半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域。該芯片生產(chǎn)用的干法刻蝕機(jī)，通過(guò)設(shè)置的卡板方便對(duì)濾框進(jìn)行拆卸清理，使用時(shí)拉動(dòng)把手向相對(duì)側(cè)移動(dòng)，接著把手會(huì)帶動(dòng)卡板拔出卡槽的內(nèi)部，然后提起把手便可以將濾框拿出過(guò)濾箱的內(nèi)部，接著便可以對(duì)HEPA濾網(wǎng)和活性炭濾網(wǎng)進(jìn)行清理，便于清理，實(shí)用性好。

技術(shù)研發(fā)人員：王星,郭寒棟,張西峰
受保護(hù)的技術(shù)使用者：蝸牛數(shù)字（西安）科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240522
技術(shù)公布日：2025/1/6