專利名稱:包含具有電極空白區(qū)域的電極短接段的等離子顯示板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種等離子顯示板(PDP)。更具體而言，本發(fā)明涉及一種PDP，其中電極短接段(electrode shorted segment)具有能使其以基本均勻的厚度形成的各種配置。
背景技術(shù)：
PDP通過等離子放電激發(fā)磷光體而顯示圖像。特別是，PDP放電區(qū)域中兩個電極之間所施加的電壓在它們之間產(chǎn)生等離子放電。在等離子放電期間產(chǎn)生的紫外線激發(fā)磷光層以顯示圖像。不同類型的PDP包括交流(AC)PDP、直流(DC)PDP以及混合PDP。
圖5是傳統(tǒng)PDP100的部分分解透視圖。傳統(tǒng)的AC-PDP100包括彼此相對設(shè)置的下基板101和上基板102，該上基板和下基板之間具有預定間隙。在與上基板102相對的下基板101的表面上形成地址電極103?；旧涎豗方向以條狀圖案形成地址電極103。介電層105形成在下基板101上，并覆蓋地址電極103，在介電層105上形成多個阻擋肋107。阻擋肋107的功能是保持面板間隙并防止放電單元之間的串擾。在每個相鄰的一對阻擋肋107之間形成磷光層108，覆蓋介電層105和阻擋肋107的側(cè)壁。
在與下基板101相對的上基板102的表面上形成顯示電極104?；旧涎豖方向、即基本沿垂直于地址電極103的方向形成顯示電極104。顯示電極104形成為使得一對顯示電極104位于由阻擋肋107界定的每個放電單元上方。介電層106和保護層109形成在上基板102上，覆蓋顯示電極104。
在具有這種配置的傳統(tǒng)PDP中，每對顯示電極104包含維持電極和掃描電極。從地址電極103和掃描電極接收驅(qū)動電壓從而在其間實現(xiàn)尋址放電，并且在介電層105上形成壁電荷(wall charge)。通過交替施加到維持電極和掃描電極的信號，在由尋址放電所選擇的放電單元中的維持電極和掃描電極之間實現(xiàn)維持放電。
因此，填充在形成放電單元的放電區(qū)域中的放電氣體被激發(fā)從而使放電氣體產(chǎn)生紫外線。通過紫外線激發(fā)磷光層的磷光體而產(chǎn)生可見光，由此導致圖像的形成。
通常使用銀(Ag)糊料(paste)來形成維持電極和掃描電極，以及地址電極。通常使用絲網(wǎng)印刷或光刻工藝形成這些電極，因為它們可以以70-80μm的寬度形成。提升法(liftoff)和薄膜方法是其它可能的替代方法。但是，當制造大屏幕的PDP時，這些用于形成電極的傳統(tǒng)方法可能不合適。因此，開發(fā)了膠印工藝方法，使用這種方法可以精確地和穩(wěn)定地印制電極。
圖6是膠印工藝順序步驟的示意性剖視圖。
膠印工藝通常包括的主要步驟有步驟A，糊料的沉積和刮除(doctoring)，步驟B，分離(off)工藝，以及步驟C，固著(set)工藝。步驟A包括在具有多個鋸齒槽的凹板21上沉積糊料23。沿著凹板21在一方向(刮除方向)上用刮片(doctor blade)22刮擦從而去除多余的糊料23，在鋸齒槽中留下糊料23。接著，在步驟B中，使用覆蓋物24(部分示出)從凹板21的鋸齒槽中去除糊料，該覆蓋物可以由硅酮橡膠形成并且成圓柱形狀。最后，在步驟C中，將覆蓋物24和糊料23按壓到基板25以便將糊料23轉(zhuǎn)印到基板25上。
然而，膠印工藝也有缺陷。盡管該工藝可以有效地形成小而窄的電極部分，但是當形成大的電極部分、如終端電極時，在刮除工藝中可能會碰到問題，因為該工藝最適合于形成沿刮除方向延伸的長且窄的電極部分。因此，由膠印工藝形成的大的電極部分可能達不到預期的質(zhì)量標準。
圖7和8示出了剛剛描述的傳統(tǒng)膠印工藝的問題。
圖7是膠印工藝之后其上形成有糊料23的凹板21的部分透視圖。刮片(未示出)在如圖7所示的刮除方向上橫過凹板21以便去除預先沉積的糊料23的多余部分。
圖8是形成維持電極的短接段時膠印工藝中包括的順序步驟的示意性剖視圖。這些圖是沿圖7的I-I線得到的。
在圖8的步驟A中，在凹板21上沉積糊料23之后，使用刮片22去除溢出的糊料。在刮除工藝的開始，余下的糊料23基本上與凹板21的上表面共面。然而，如在步驟B中所示的，當刮片22沿著刮除方向行進時，它可能會進入一區(qū)域，此處刮片22不再接觸凹板的上表面，并且刮片22可能會下降到凹板的鋸齒槽中。如步驟C所示，隨著刮片22進一步沿著刮除方向行進，這種狀況可能會繼續(xù)。在刮除工藝結(jié)束時，如步驟D所示，糊料23的中間部分可能是凹陷的。
當用覆蓋物將具有凹陷的中間部分的糊料23轉(zhuǎn)印到基板上以形成維持電極短接段時，短接段可能厚度不均。最終的結(jié)果是短接段的不均勻厚度會對PDP的放電特性造成不利影響。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種具有厚度基本均勻的維持電極短接段的PDP，由此改善了PDP的放電特性。
在下面的描述中將闡述本發(fā)明的附加特征，這些特征將從說明中部分地變得明顯，或者可以通過本發(fā)明的實踐而被認知。
本發(fā)明公開了一種PDP，包括一基板；多個第一電極，所述多個第一電極形成在基板的表面上并且從基板的第一部分延伸；以及多個第二電極，所述多個第二電極形成在基板的表面上并且從基板的第二部分延伸。第一電極和第二電極交替地成行排列。第一電極包括基板的第一部分中的短接段，該短接段與第一電極的端部耦合。短接段包括電極形成區(qū)域和形成在電極形成區(qū)域內(nèi)的多個電極空白區(qū)域(electrode void region)。電極空白區(qū)域沿所述第一電極延伸的方向成列形成。
本發(fā)明還公開了一種用于耦合多個電極的裝置，包括耦合多個電極端部的短接段。短接段包括電極形成區(qū)域和形成在電極形成區(qū)域內(nèi)的多個電極空白區(qū)域，并且電極空白區(qū)域沿電極延伸的方向成列形成。
本發(fā)明還公開了一種用于形成共耦合(commonly coupled)電極的方法，包括形成具有鋸齒槽的凹板；將糊料沉積到鋸齒槽中；刮除多余的糊料；從鋸齒槽中去除糊料；以及，以對應于鋸齒槽的形狀將糊料轉(zhuǎn)印到基板上。鋸齒槽對應于共耦合電極的形狀，并且鋸齒槽的第一部分對應于共耦合電極的短接段的形狀。第一部分包括對應于短接段中電極空白區(qū)域的凹板上表面區(qū)域的多個島，上表面區(qū)域的島沿著鋸齒槽的第二部分的方向成列形成，鋸齒槽的第二部分對應于電極有效段。
還應理解的是，上面的概括描述和下面的詳細描述都是示例性的和解釋性的，并且目的在于為本發(fā)明提供進一步的解釋。



被包括在內(nèi)以提供對本發(fā)明進一步的理解、同時包含在說明書中并構(gòu)成說明書一部分的附圖，解釋了本發(fā)明的實施例，并且和描述一起，用于解釋本發(fā)明的原理。
圖1是根據(jù)本發(fā)明第一示例性實施例的PDP的平面圖；圖2是具有糊料的凹板的部分透視圖，該糊料用于通過膠印工藝形成電極；圖3是根據(jù)本發(fā)明第二示例性實施例的PDP的平面圖；圖4是根據(jù)本發(fā)明第三示例性實施例的PDP的平面圖；圖5是傳統(tǒng)PDP的部分分解透視圖；圖6是概括表示膠印工藝的示意性剖視圖；圖7是在膠印工藝之后，具有形成在其上的糊料的凹板的部分透視圖；圖8是沿圖7的I-I線的示意性剖視圖，表示了當形成維持電極的短接段時包含在膠印工藝中的步驟。
具體實施方式
圖1是根據(jù)本發(fā)明第一實施例的PDP的平面圖。
參照圖1，在第一基板10上基本沿著X方向形成多個顯示電極151、152。顯示電極151、152包括維持電極152和掃描電極151，維持電極152從第一基板10的一個邊緣延伸，而掃描電極151從第一基板10的相對邊緣延伸。如圖1所示，維持電極152和掃描電極151交替地成行排列。
在第二基板20的表面上形成多個地址電極(未示出)，第二基板20與第一基板10結(jié)合在一起。地址電極基本上垂直于顯示電極151、152形成。換句話說，地址電極基本上沿著Y方向延伸。
顯示區(qū)域30包括形成在地址電極和顯示電極151、152重疊的區(qū)域中的象素?？梢詫Ⅱ?qū)動電壓施加到地址電極和顯示電極151、152以產(chǎn)生顯示放電。
在顯示區(qū)域30中第一和第二基板10、20之間形成多個阻擋肋(未示出)。阻擋肋維持基板之間的間隙并界定放電單元。將磷光層形成在放電單元中。
非顯示區(qū)域形成在顯示區(qū)域30的外部，在該非顯示區(qū)域內(nèi)不發(fā)生顯示放電。顯示電極終端形成在非顯示區(qū)域中，并且通過電耦合裝置、如FPC(柔性印刷電路)將顯示電極終端耦合到驅(qū)動電路(未示出)。
維持電極152包括有效段112和多個短接段122，有效段112位于顯示區(qū)域30內(nèi)，而短接段122位于非顯示區(qū)域中，多個短接段122與多個有效段112的端部耦合。由于按照這種方式將維持電極152的端部短接，所以在維持間隔(sustain interval)期間可以將相同的電壓施加到維持電極152。
在第一示例性實施例中，每個短接段122包括電極形成區(qū)域122a和電極空白區(qū)域122b，電極空白區(qū)域122b以預定圖案形成在電極形成區(qū)域122a中?？梢詫㈦姌O空白區(qū)域122b在電極形成區(qū)域122a內(nèi)部獨立地(即，相互不接觸)形成。換句話說，可以將電極空白區(qū)域122b形成為電極形成區(qū)域122a中的島。在該示例性實施例中，電極空白區(qū)域122b基本上是矩形的。
可以基本上沿著X方向成列形成電極空白區(qū)域122b，該X方向是維持電極152延伸的方向。相鄰列的電極空白區(qū)域122b在Y方向上不對準，但每隔一列的電極空白區(qū)域122b在Y方向上對準。Wa是在Y方向上對準的兩電極空白區(qū)域122b之間的距離。在Y方向上Wa可以等于、小于或大于距離Wc，Wc是兩相鄰有效段112之間的距離加上它們的寬度。
此外，沿著Y方向，電極空白區(qū)域122b的相鄰列之間的距離Wb的范圍是20μm至10000μm。
可以使用膠印工藝形成維持電極152。圖2是具有糊料的凹板的部分透視圖，該糊料用于通過膠印工藝形成電極。
參照圖2，凹板1形成為具有鋸齒槽，所述鋸齒槽對應于將要形成在第一基板10上的維持電極1 52的形狀。糊料2沉積在鋸齒槽內(nèi)，然后用刮片(未示出)去除多余的糊料。對應于有效段112和短接段122的形狀形成鋸齒槽。凹板1的上表面區(qū)域1a的島對應于電極空白區(qū)域122b的預期圖案。這種配置允許刮片總是保持與凹板1的上表面區(qū)域1a的接觸，防止刮片下降到鋸齒槽中，如圖8所示的情況，由此防止短接段形成為具有凹形斷面。因此，當糊料2被轉(zhuǎn)印到覆蓋物上、然后被轉(zhuǎn)印到基板10上時，可以形成具有基本均勻的厚度的電極形成區(qū)域122a。
圖3是根據(jù)本發(fā)明第二示例性實施例的PDP的平面圖。
參照圖3，基本上沿著X方向在第一基板10上形成多個顯示電極151、153。顯示電極151、153包括維持電極153和掃描電極151，維持電極153從第一基板10的一個邊緣延伸，掃描電極151從第一基板10的相對邊緣延伸。如圖3所示，維持電極153和掃描電極151交替地成行排列。
維持電極153包括有效段113和多個短接段123，有效段113位于顯示區(qū)域30內(nèi)，多個短接段123位于非顯示區(qū)域中，多個短接段123與多個有效段113的端部耦合。由于按照這樣的方式將維持電極153的端部短接，所以在維持間隔期間可以將相同的電壓施加到維持電極153。
在第二示例性實施例中，每個短接段123包括電極形成區(qū)域123a和電極空白區(qū)域123b，電極空白區(qū)域123b以預定圖案形成在電極形成區(qū)域123a中。可以在電極形成區(qū)域123a內(nèi)部獨立地(即，相互不接觸)形成電極空白區(qū)域123b。換句話說，可以將電極空白區(qū)域123b形成為電極形成區(qū)域123a中的島。在該示例性實施例中，電極空白區(qū)域123b基本上是圓形的，該圓形包括橢圓形。
圖4是根據(jù)本發(fā)明第三示例性實施例的PDP的平面圖。
參照圖4，基本上沿著X方向在第一基板10上形成多個顯示電極151、154。顯示電極151，154包括維持電極154和掃描電極151，維持電極154從第一基板10的一個邊緣延伸，掃描電極151從第一基板10的相對邊緣延伸。如圖4所示，維持電極154和掃描電極151交替地成行排列。
維持電極154包括有效段114和多個短接段124，有效段114位于顯示區(qū)域30內(nèi)，而多個短接段124位于非顯示區(qū)域中，多個短接段124與多個有效段114的端部耦合。由于按照這樣的方式將維持電極154的端部短接，所以在維持間隔期間可以將相同的電壓施加到維持電極154。
在第三示例性實施例中，每個短接段124包括電極形成區(qū)域124a和電極空白區(qū)域124b，電極空白區(qū)域124b以預定圖案形成在電極形成區(qū)域124a中。可以在電極形成區(qū)域124a內(nèi)部獨立地(即，相互不接觸)形成電極空白區(qū)域124b。換句話說，可以將電極空白區(qū)域124b形成為電極形成區(qū)域124a中的島。在該示例性實施例中，電極空白區(qū)域124b基本上是菱形的。
在上述PDP中，可以按照有益于膠印工藝的方式形成維持電極短接段。也就是說，可以以一圖案形成短接段的電極空白區(qū)域，該圖案允許刮片連續(xù)地接觸凹板的上表面從而使其在刮除步驟期間不會陷入鋸齒槽中。因此，可以防止糊料具有凹形斷面，這最終使得短接段的電極形成區(qū)域具有基本均勻的厚度。維持電極這種配置的另一優(yōu)點是可以用較少的糊料形成電極，以作為短接段結(jié)構(gòu)的結(jié)果。
對本領(lǐng)域技術(shù)人員很明顯的是，可在不偏離本發(fā)明精神和范圍的前提下對本發(fā)明進行各種修改和變化。因此，本發(fā)明覆蓋了對本發(fā)明的修改和變化，只要它們落入所附權(quán)利要求
及其等同物的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種等離子顯示板，包括一基板；多個第一電極，所述多個第一電極形成在所述基板的表面上并且從所述基板的第一部分延伸；以及多個第二電極，所述多個第二電極形成在所述基板的所述表面上并且從所述基板的第二部分延伸，其中所述第一電極和所述第二電極交替地成行排列；其中所述第一電極包括在所述基板的所述第一部分中的短接段，所述短接段與所述第一電極的端部耦合；其中所述短接段包括電極形成區(qū)域和形成在該電極形成區(qū)域內(nèi)的多個電極空白區(qū)域；以及其中所述電極空白區(qū)域沿所述第一電極延伸的方向成列形成。
2.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的等離子顯示板，其中在所述電極空白區(qū)域之間設(shè)置部分所述電極形成區(qū)域。
3.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的等離子顯示板，其中所述電極空白區(qū)域形成為島。
4.根據(jù)權(quán)利要求
3所述的等離子顯示板，其中所述電極空白區(qū)域是矩形。
5.根據(jù)權(quán)利要求
3所述的等離子顯示板，其中所述電極空白區(qū)域是圓形。
6.根據(jù)權(quán)利要求
3的等離子顯示板，其中所述電極空白區(qū)域是菱形。
7.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的等離子顯示板，其中每隔一列的電極空白區(qū)域沿著垂直于所述第一電極延伸方向的方向?qū)?；以及其中沿著垂直于所述第一電極延伸方向的所述方向的兩個對準的電極空白區(qū)域之間的距離等于或小于兩個相鄰的第一電極之間的距離加上它們的寬度。
8.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的等離子顯示板，其中每隔一列的電極空白區(qū)域沿著垂直于所述第一電極延伸方向的方向?qū)剩灰约捌渲醒刂怪庇谒龅谝浑姌O延伸方向的所述方向的兩個對準的電極空白區(qū)域之間的距離大于兩個相鄰的第一電極之間的距離加上它們的寬度。
9.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的等離子顯示板，其中在垂直于所述第一電極延伸方向的方向上相鄰列之間的距離在20μm至10000μm之間的范圍內(nèi)。
10.根據(jù)權(quán)利要求
1所述的等離子顯示板，其中使用膠印工藝形成所述第一電極。
11.一種用于耦合多個電極的裝置，包括耦合多個電極的端部的短接段，其中所述短接段包括電極形成區(qū)域和形成在該電極形成區(qū)域內(nèi)的多個電極空白區(qū)域；以及其中所述電極空白區(qū)域沿所述電極延伸的方向成列形成。
12.根據(jù)權(quán)利要求
11所述的裝置，其中在所述電極空白區(qū)域之間設(shè)置部分所述電極形成區(qū)域。
13.根據(jù)權(quán)利要求
11所述的裝置，其中所述電極空白區(qū)域形成為島。
14.根據(jù)權(quán)利要求
13所述的裝置，其中所述電極空白區(qū)域是矩形。
15.根據(jù)權(quán)利要求
13所述的裝置，其中所述電極空白區(qū)域是圓形。
16.根據(jù)權(quán)利要求
13所述的裝置，其中所述電極空白區(qū)域是菱形。
17.根據(jù)權(quán)利要求
11所述的裝置，其中在垂直于所述電極延伸方向的方向上相鄰列之間的距離在20μm至10000μm之間的范圍內(nèi)。
18.根據(jù)權(quán)利要求
11所述的裝置，其中使用膠印工藝形成所述短接段。
19.一種用于形成共耦合電極的方法，包括形成具有鋸齒槽的凹板；將糊料沉積在所述鋸齒槽中；刮除多余的糊料；從所述鋸齒槽中去除所述糊料；以及以對應于所述鋸齒槽的形狀將所述糊料轉(zhuǎn)印到基板上，其中所述鋸齒槽對應于所述共耦合電極的形狀；其中所述鋸齒槽的第一部分對應于所述共耦合電極的短接段的形狀；其中所述第一部分包括對應于所述短接段中電極空白區(qū)域的所述凹板的上表面區(qū)域的多個島；其中所述上表面區(qū)域的島沿著所述鋸齒槽的第二部分的方向成列形成，所述鋸齒槽的第二部分對應于電極有效段。
專利摘要
提供了一種顯示面板，包括基板；多個第一電極，所述多個第一電極形成在基板的表面上并且從基板的第一部分延伸；以及多個第二電極，所述多個第二電極形成在基板的表面上并且從基板的第二部分延伸。第一電極和第二電極交替地成行排列。第一電極包括在基板第一部分中的短接段，該短接段與第一電極的端部耦合。短接段包括電極形成區(qū)域和電極空白區(qū)域。電極空白區(qū)域以預定圖案形成在電極形成區(qū)域中。
文檔編號H01J17/49GKCN1329940SQ200410010422
公開日2007年8月1日 申請日期2004年11月26日
發(fā)明者宋詠和, 吳丞憲, 盧昌錫, 文喆熙 申請人:三星Sdi株式會社導出引文BiBTeX, EndNote, RefMan專利引用 (2),