一種阻擋膜及其制作方法、顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種阻擋膜及其制作方法，已經(jīng)包括該阻擋膜的顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]OLED(Organic Light-Emitting D1de，有機(jī)電致發(fā)光二極管)器件在顯示領(lǐng)域中的應(yīng)用越來越多。OLED器件用于形成金屬陰極的活潑金屬容易與空氣中的水汽和氧氣發(fā)生反應(yīng)，影響電荷的注入，滲透進(jìn)來的水汽和氧氣還會(huì)與有機(jī)材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而導(dǎo)致OLED器件的性能下降。對(duì)于由柔軟的材料制成的柔性顯示器來說，采用的阻擋膜通常是由有機(jī)層和無機(jī)層制成的疊層結(jié)構(gòu)，將該阻擋膜封裝在OLED器件上，以防止水汽和氧氣與金屬發(fā)生反應(yīng)。
[0003]然而，由于柔性顯示裝置在變形彎曲的過程中，阻擋膜也發(fā)生形變，如圖1所示，為阻擋膜發(fā)生形變的狀態(tài)示意圖，該阻擋膜包括有機(jī)層101和無機(jī)層102。當(dāng)阻擋膜發(fā)生形變時(shí)，阻擋膜中的無機(jī)層間將產(chǎn)生應(yīng)力，進(jìn)而導(dǎo)致無機(jī)層發(fā)生斷裂現(xiàn)象，如圖2所示，為阻擋膜的無機(jī)層出現(xiàn)裂縫現(xiàn)象的狀態(tài)示意圖，由于無機(jī)層中裂縫103的出現(xiàn)，將會(huì)導(dǎo)致水汽和氧氣能夠通過裂縫103進(jìn)入，進(jìn)而破壞了阻擋膜的水氧阻隔作用，導(dǎo)致柔性顯示裝置中的OLED器件的性能下降，壽命縮短。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明實(shí)施例提供一種阻擋膜及其制作方法、顯示裝置，用以實(shí)現(xiàn)解決現(xiàn)有技術(shù)中阻擋膜發(fā)生形變的過程中，阻擋膜中的無機(jī)層因應(yīng)力而出現(xiàn)斷裂現(xiàn)象的技術(shù)問題。
[0005]本發(fā)明實(shí)施例提供的一種阻擋膜，所述阻擋膜包括第一有機(jī)膜層和第二有機(jī)膜層，所述第一有機(jī)膜層形成有第一凹槽，所述第一有機(jī)膜層上設(shè)置有至少一層無機(jī)膜層，所述無機(jī)膜層填充所述第一凹槽，且所述無機(jī)膜層的厚度小于等于所述第一凹槽的深度；所述無機(jī)膜層上設(shè)置有所述第二有機(jī)膜層，所述第二有機(jī)膜層為平坦化層。
[0006]本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示裝置，包括柔性基板及設(shè)置于所述柔性基板上的發(fā)光器件，所述柔性基板包括相對(duì)設(shè)置的第一面和第二面，所述發(fā)光器件設(shè)置在所述第一面上，所述發(fā)光器件上設(shè)置有上述實(shí)施例中所述的阻擋膜。
[0007]本發(fā)明實(shí)施例提供一種阻擋膜的制作方法，包括:
[0008]提供一基板，在所述基板上形成所述阻擋膜；
[0009]形成所述阻擋膜的過程包括在所述基板上形成第一有機(jī)膜層，所述第一有機(jī)膜層上形成有第一凹槽；在所述第一有機(jī)膜層上形成至少一層無機(jī)膜層；在所述無機(jī)膜層上形成第二有機(jī)膜層；
[0010]將所述阻擋膜與所述基板分離。
[0011]本發(fā)明實(shí)施例提供一種阻擋膜，所述阻擋膜包括第一有機(jī)膜層和第二有機(jī)膜層，所述第一有機(jī)膜層形成有第一凹槽，所述第一有機(jī)膜層上設(shè)置有至少一層無機(jī)膜層，所述無機(jī)膜層填充所述第一凹槽，且所述無機(jī)膜層的厚度小于等于所述第一凹槽的深度；所述無機(jī)膜層上設(shè)置有所述第二有機(jī)膜層，所述第二有機(jī)膜層為平坦化層。本發(fā)明實(shí)施例中通過將無機(jī)膜層的厚度小于等于所述第一凹槽的深度，使得無機(jī)層是不連續(xù)的，不在同一層中，這樣在彎曲過程中就可避免出現(xiàn)應(yīng)力集中的現(xiàn)象，降低了無機(jī)層斷裂的風(fēng)險(xiǎn)。
【附圖說明】
[0012]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中阻擋膜發(fā)生形變的狀態(tài)示意圖；
[0013]圖2為現(xiàn)有技術(shù)中阻擋膜的無機(jī)層出現(xiàn)裂縫現(xiàn)象的狀態(tài)示意圖；
[0014]圖3為本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種阻擋膜示意圖；
[0015]圖4為本發(fā)明實(shí)施例二提供的一種阻擋膜示意圖；
[0016]圖5為本發(fā)明實(shí)施例二提供的另一種阻擋膜示意圖；
[0017]圖6為本發(fā)明實(shí)施例二提供的第三種阻擋膜示意圖；
[0018]圖7為本發(fā)明實(shí)施例二提供的一種顯不裝置不意圖；
[0019]圖8為本發(fā)明實(shí)施例三提供的一種阻擋膜制作方法所對(duì)應(yīng)的流程示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0020]為了使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步地詳細(xì)描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其它實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0021]實(shí)施例一
[0022]本發(fā)明實(shí)施例提供一種阻擋膜，所述阻擋膜包括第一有機(jī)膜層和第二有機(jī)膜層，所述第一有機(jī)膜層形成有第一凹槽，所述第一有機(jī)膜層上設(shè)置有至少一層無機(jī)膜層，所述無機(jī)膜層填充所述第一凹槽，且所述無機(jī)膜層的厚度小于等于所述第一凹槽的深度；所述無機(jī)膜層上設(shè)置有所述第二有機(jī)膜層，所述第二有機(jī)膜層為平坦化層。
[0023]具體地，如圖3所示，圖3為本發(fā)明實(shí)施例一提供的一種阻擋膜示意圖，該阻擋膜包括第一有機(jī)膜層301、第二有機(jī)膜層302以及無機(jī)膜層303，第一有機(jī)膜層301形成有第一凹槽p31，設(shè)置于第一有機(jī)膜層301上的無機(jī)膜層303填充第一凹槽p31，第二有機(jī)膜層302設(shè)置于無機(jī)膜層303上，且第二有機(jī)膜層302為平坦化層。
[0024]為避免阻擋膜形變過程中，無機(jī)膜層產(chǎn)生的應(yīng)力過于集中而出現(xiàn)龜裂現(xiàn)象，本發(fā)明實(shí)施例中可設(shè)置無機(jī)膜層303的厚度小于或等于第一凹槽p31的深度，以使得無機(jī)膜層303不在同一層上，降低無機(jī)膜層303出現(xiàn)龜裂現(xiàn)象的風(fēng)險(xiǎn)。
[0025]實(shí)施例二
[0026]圖4為本發(fā)明實(shí)施例二提供的一種阻擋膜示意圖。該阻擋膜包括第一有機(jī)膜層401、第二有機(jī)膜層402、無機(jī)膜層403以及有機(jī)膜層404 ;第一有機(jī)膜層401形成有第一凹槽p41，設(shè)置于第一有機(jī)膜層401上的無機(jī)膜層403填充第一凹槽p41，且無機(jī)膜層403的厚度小于或等于第一凹槽P41的深度；有機(jī)膜層404和無機(jī)膜層403交替間隔堆疊，無機(jī)膜層403的層數(shù)為至少兩層，第一有機(jī)膜層401與設(shè)置在其上的無機(jī)膜層403相鄰，第二有機(jī)膜層402與堆疊在有機(jī)膜層404上的無機(jī)膜層403相鄰，且第二有機(jī)膜層402為平坦化層；第一有機(jī)膜層401、第二有機(jī)膜層402及有機(jī)膜層404的厚度均大于無機(jī)膜層403的厚度。
[0027]可選地，本發(fā)明實(shí)施例可根據(jù)阻擋膜所需的水氧阻隔能力來設(shè)定第一有機(jī)膜層401和第二有機(jī)膜層402之間填充的無機(jī)膜層403和有機(jī)膜層404的層數(shù)。第一有機(jī)膜層401和第二有機(jī)膜層402之間填充的無機(jī)膜層403和有機(jī)膜層404的層數(shù)越多，則阻擋膜的水氧阻隔能力越強(qiáng)。
[0028]本發(fā)明實(shí)施例中所設(shè)置的無機(jī)膜層403的層數(shù)和有機(jī)膜層404的層數(shù)是相對(duì)應(yīng)的。例如，若第一有機(jī)膜層401和第二有機(jī)膜層402之間填充的有機(jī)膜層404的層數(shù)為一層，則填充的無機(jī)膜層403的層數(shù)應(yīng)為兩層；若第一有機(jī)膜層401和第二有機(jī)膜層402之間填充的有機(jī)膜層404的層數(shù)為兩層，則填充的無機(jī)膜層403的層數(shù)應(yīng)為三層；以此類推。
[0029]下面結(jié)合圖4以無機(jī)膜層403的層數(shù)為兩層來做具體說明。
[0030]如圖4所示，第一有機(jī)膜層401上形成有第一凹槽p41，設(shè)置在第一有機(jī)膜層401上的無機(jī)膜層403a填充第一凹槽p41 ;無機(jī)膜層403a上形成有第三凹槽p43，其上設(shè)置有機(jī)膜層404，且有機(jī)膜層404上形成有第二凹槽P42 ;設(shè)置于有機(jī)膜層404上的無機(jī)膜層403b填充第二凹槽p42，設(shè)置于無機(jī)膜層403a上的有機(jī)膜層404填充第三凹槽p43 ;無機(jī)膜層403b上設(shè)置有第二有機(jī)膜層402。
[0031]為避免阻擋膜形變過程中，無機(jī)膜層產(chǎn)生的應(yīng)力過于集中而出現(xiàn)龜裂現(xiàn)象，無機(jī)膜層403的厚度小于等于第一凹槽p41和第二凹槽P42的深度。
[0032]第一凹槽P41、第二凹槽p42和第三凹槽P43底部的寬度相同，且由第一有機(jī)膜層401往上的方向上相對(duì)設(shè)置，即在第一有機(jī)膜層401的凹槽對(duì)應(yīng)位置上依次設(shè)置第一凹槽p41、第三凹槽p43和第二凹槽P42。第一凹槽p41垂直于第一有機(jī)膜層401的橫截面與第二凹槽p42、第三凹槽p43垂直于第一有機(jī)膜層401的橫截面的形狀相同，從而使得無機(jī)膜層403的應(yīng)力可以均勻分散，防止彎曲過程中無機(jī)膜層403上的某一部分的應(yīng)力過于集中而出現(xiàn)龜裂現(xiàn)象。
[0033]上述實(shí)施例一和實(shí)施例二中，第一凹槽垂直于第一有機(jī)膜層的橫截面為矩形。以上僅為本發(fā)明實(shí)施例的一種實(shí)施方式，本發(fā)明的實(shí)施方式還可以為，第一凹槽垂直于第一有機(jī)膜層的橫截面可以為梯形，其中，所述梯形頂部的寬度大于底部的寬度。如圖5所示，為本發(fā)明實(shí)施例二提供的另一種阻擋膜示意圖。該阻擋膜包括第一有機(jī)膜層501、第二有機(jī)膜層502、無機(jī)膜層503以及有機(jī)膜層504 ;第一有機(jī)膜層501上形成有第一凹槽p51，設(shè)置在第一有機(jī)膜層501上的無機(jī)膜層503a填充第一凹槽p51 ;無機(jī)膜層503a上設(shè)置有機(jī)膜層504，且有機(jī)膜層上形成有第二凹槽p52，無機(jī)膜層503a上形成有第三凹槽p53 ;設(shè)置于有機(jī)膜層504上的無機(jī)膜層503b填充第二凹槽p52，設(shè)置于無機(jī)膜層503a上